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公开(公告)号：CN101028699A
公开(公告)日：2007-09-05
申请号：CN200610011400.8
申请日：2006-03-01
Applicant: 中国科学院半导体研究所
IPC: B24B29/00 , B24B37/04 , H01L21/304
Abstract: 一种可以修整抛光晶片平整度的抛光头，其特征在于，包括：一晶片固定盘；一上抛光盘，该上抛光盘的断面为倒T形；一气囊，该气囊固定在上抛光盘的底面，该气囊可以充气；一抛光垫，该抛光垫固定在气囊的底面；欲将晶片抛光时，将气囊充气，将晶片固定在晶片固定盘上面，控制上抛光盘的转动及上抛光盘的上下位移，由抛光垫对晶片抛光。
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