氮化物生长方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113394076A

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN202110650580.9

    申请日:2021-06-10

    Abstract: 本发明提出了一种氮化物生长方法,包括:准备一衬底;在所述衬底上制作石墨烯缓冲层;将所述石墨烯缓冲层进行图形化,得到图形化石墨烯缓冲层;在所述图形化石墨烯缓冲层上生长氮化物,得到生长完成的氮化物。该方法生长的氮化物可以极大的释放应力,同时图形化的石墨烯可以保证有裸露的衬底对外延生长的氮化物起到很好的调控作用,获得晶体质量较好的外延材料,解决氮化物异质外延的晶格大失配问题,减小器件的可靠性问题。

    基于LED可见光的定位方法、装置、电子设备及存储介质

    公开(公告)号:CN115372898A

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202110548879.3

    申请日:2021-05-19

    Abstract: 一种基于LED可见光的定位方法,包括:发射LED可见光,使LED可见光射向预设空间内的各探测位置;探测各探测位置的可见光光强;将可见光光强输入预设的位置数据库,使可见光光强与预设的位置数据库中的预存光强匹配,其中,位置数据库中预存有预设空间内各探测位置的预存光强和位置信息;当可见光光强与预存光强匹配时,输出对应的探测位置的位置信息。该方法利用光通信技术实现了一种离线定位技术,方法简单,易于实现,设备成本低。

    石墨烯作为插入层的GaN/AlGaN异质结构及其制备方法

    公开(公告)号:CN114759088A

    公开(公告)日:2022-07-15

    申请号:CN202110039389.0

    申请日:2021-01-12

    Abstract: 一种石墨烯作为插入层的GaN/AlGaN异质结构及其制备方法,该GaN/AlGaN异质结构包括:衬底,氮化镓层设置在衬底上,石墨烯插入层,设置在氮化镓层上;势垒层,设置在石墨烯插入层上;帽层,设置在势垒层上。本发明为GaN基高迁移率晶体管提供了一种新型结构,利用石墨烯0.3至1.2nm超薄厚度,以及10000至15000cm2/V·s的超高迁移率特性,提高GaN/AlGaN异质结中二维电子气的迁移率,从而解决器件逻辑电压的摆幅与缩短传输时间问题,以及降低开关能量之间矛盾的关键问题,使GaN基高迁移率晶体管在高频、高速器件领域发挥重大作用。

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