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公开(公告)号：CN112647040B
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202110000976.9
申请日：2021-01-04
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所 , 青岛市资源化学与新材料研究中心(中国科学院兰州化学物理研究所青岛研究发展中心)
Abstract: 本发明涉及一种磁控溅射‑多弧离子镀耦合工艺沉积刀具涂层，具体公开的涂层由金属粘结层、ta‑c功能耐磨层和表面类金刚石层组成。本发明以金属Cr靶和石墨靶材为原材料，该膜层的体系结构如下：（1）金属Cr层作为与基体的粘结层，同时为ta‑c功能层提供较强的黏着强度；（2）ta‑c功能层的周期性连续镀制，在切削过程中提供良好的润滑性；（3）表面类金刚石(DLC)薄膜的镀制，主要起到降低表面粗糙度和钉扎效应，提高膜层体系的耐磨性。本发明利用耦合镀膜工艺制备的ta‑c基多层耐磨涂层能够显著提高耐磨性，降低切削过程中的粘附行为，特别适用于高精度的切削工况。
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公开(公告)号：CN112647040A
公开(公告)日：2021-04-13
申请号：CN202110000976.9
申请日：2021-01-04
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所 , 青岛市资源化学与新材料研究中心(中国科学院兰州化学物理研究所青岛研究发展中心)
Abstract: 本发明涉及一种磁控溅射‑多弧离子镀耦合工艺沉积刀具涂层，具体公开的涂层由金属粘结层、ta‑c功能耐磨层和表面类金刚石层组成。本发明以金属Cr靶和石墨靶材为原材料，该膜层的体系结构如下：（1）金属Cr层作为与基体的粘结层，同时为ta‑c功能层提供较强的黏着强度；（2）ta‑c功能层的周期性连续镀制，在切削过程中提供良好的润滑性；（3）表面类金刚石(DLC)薄膜的镀制，主要起到降低表面粗糙度和钉扎效应，提高膜层体系的耐磨性。本发明利用耦合镀膜工艺制备的ta‑c基多层耐磨涂层能够显著提高耐磨性，降低切削过程中的粘附行为，特别适用于高精度的切削工况。
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公开(公告)号：CN115948712A
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202211645091.5
申请日：2022-12-21
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及挠性覆铜板技术领域，尤其涉及一种挠性覆铜板的制备方法。本发明提供了一种挠性覆铜板的制备方法，包括以下步骤：采用高能量非金属离子束，对聚合物薄膜的表面进行刻蚀活化，得到活化后的聚合物薄膜；采用磁控溅射，在所述活化后的聚合物薄膜的表面注入金属离子，得到聚合物‑金属互穿网络结构界面；在所述聚合物‑金属互穿网络结构界面沉积铜薄膜，在沉积铜薄膜的同时，采用间歇性Ar+轰击所述铜薄膜。所述制备方法可以显著提高挠性覆铜板表层铜薄膜与聚合物基材之间的剥离强度。
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公开(公告)号：CN105862002A
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201610398362.X
申请日：2016-06-07
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
CPC classification number: C23C14/352 , C23C14/021 , C23C14/022 , C23C14/0641 , C23C14/0652 , C23C14/16 , C23C14/18 , C23C14/20 , C23C14/325
Abstract: 本发明公开了一种类牡蛎壳的仿生多层强韧化薄膜，该薄膜具有多层复合结构，采用非晶金属层和纳米复合结构层交互叠加的方式形成。纳米复合结构层是指具有“非晶相包覆纳米晶相的复合结构”的单层，非晶金属层相当于牡蛎壳的有机质层，纳米复合结构层相当于牡蛎壳的方解石板条层。该薄膜采用电弧离子镀复合磁控溅射技术制备得到，制备的薄膜具有类牡蛎壳的多层复合结构，结构致密，界面层清晰，通过控制薄膜单层的厚度，实现薄膜高硬度、高强度、高韧性、低摩擦和优异的耐磨损性能，并具有一定的高温自润滑性能。
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公开(公告)号：CN104930054A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201510376888.3
申请日：2015-07-01
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
CPC classification number: Y02T10/865
Abstract: 本发明公开了一种滚子轴承，包括外周具有滚道的内圈、内周具有滚道的外圈、在内圈滚道和外圈滚道之间的滚子、保持架以及止推结构，滚子端面的止推接触区为复合润滑结构，该复合润滑结构由固体润滑涂层和表面微织构组成，其中表面微织构为均匀分布的微凹坑阵列。本发明所述滚子轴承具有提升的抗卡死能力、低摩擦和高服役稳定性的优点，适用于高速、重载、冲击载荷和沙尘等苛刻工况下承受轴向或轴径向联合载荷主轴机构的高效传动。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102994967A
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201110274370.0
申请日：2011-09-17
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种超厚类金刚石涂层的超高速制备方法。该方法利用等离子体浸没离子注入和高密度等离子体化学气相沉积一体化技术，在不锈钢、铝合金、钛合金、铜、陶瓷等各种试样基底上实现超厚类金刚石涂层的超高速沉积，沉积速率达到80～140nm/min。首先对试样基底实施硅或氮元素浸没离子注入，然后在硅烷、乙炔和氩气混合气氛中，利用高密度等离子体效应交替沉积周期变化硅含量的类金刚石涂层，最终可在试样基底上获得8～30微米厚的超厚类金刚石涂层。本发明获得的超厚类金刚石涂层具有高的膜基结合强度，低摩擦系数和长寿命特性。
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公开(公告)号：CN101665940A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200810150858.0
申请日：2008-09-04
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明涉及一种在活塞环表面获得具有高硬度、抗磨与自润滑特性的类金刚石复合涂层的制备方法。本发明通过低温等离子渗氮处理在活塞环表面生成一层具有结合强度高、高硬度、耐磨性好的氮化层，然后再采用磁过滤阴极弧—磁控溅射复合沉积一层具有固体润滑特性的无氢类金刚石表面层，最终在活塞环表面获得一种致密、平整光滑、具有优异抗磨损与自润滑性能的氮化/类金刚石复合涂层。该发明活塞环涂层比电镀硬铬活塞环或CrN镀层活塞环具有更好的综合性能。
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公开(公告)号：CN101665904A
公开(公告)日：2010-03-10
申请号：CN200810150860.8
申请日：2008-09-04
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种含铝类金刚石碳膜及其制备方法。薄膜为类金刚石结构，薄膜中金属铝的质量分数为3％-20％，余量为碳；金属铝以原子态分散于非晶类金刚石碳膜中，铝与碳不成键，薄膜厚度介于500-5000纳米之间。本发明的含铝类金刚石碳膜具有很低的内应力、较高的硬度、良好膜/基结合力和良好的耐磨性能。
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公开(公告)号：CN115287592B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202210959703.1
申请日：2022-08-10
Applicant: 中国科学院兰州化学物理研究所 , 中国航发四川燃气涡轮研究院
Abstract: 本发明公开了一种指尖密封用高温耐磨自润滑涂层及其制备方法。所述高温耐磨自润滑涂层包括沿厚度方向依次层叠的：金属Me粘结层、成分梯度过渡层以及高温耐磨自润滑面层；所述成分梯度过渡层为Me‑MeN‑MeN/MoS2过渡层；所述高温耐磨自润滑面层为MeN/MoS2复合层。本发明提供的高温耐磨自润滑涂层具有高硬度、强结合力、低内应力与耐高温热循环冲击等优点，在高温摩擦中被氧化生成具有优异润滑效果的氧化产物，显著降低了指尖密封结构的摩擦系数和磨损率，并显著提高了密封性；通过在指尖密封摩擦面沉积高温耐磨自润滑涂层，有效降低了其更换频率，节省了制造与更换成本，同时延长了长效服役寿命，保障了的设备的稳定性。
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公开(公告)号：CN111074226B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010084685.8
申请日：2020-02-10
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种碳基复合薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明以碳靶和金属碳化物靶为溅射靶材，基于闭合场非平衡磁控溅射等离子体空间分布特点及样品转架转速对薄膜结构的影响规律，仅通过样品转架旋转“快‑慢”的周期性控制，在沉积过程中自发形成兼具纳米层结构和纳米复合结构的双结构的碳基复合薄膜，碳靶和金属碳化物靶在真空腔体中相对放置，当转架转速快时，沉积出具有纳米复合结构的复合薄膜，当转架转速慢时，沉积出具有纳米多层结构复合薄膜，通过转架转速的调节可实现纳米复合结构中纳米晶的尺寸和纳米多层结构中的调制周期，通过控制样品转架转速周期性调节的时间可实现纳米复合结构层和纳米多层结构层的厚度。
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