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公开(公告)号：CN111139430A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN202010052653.X
申请日：2020-01-17
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种织构化类金刚石碳基薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明提供一种利用金属网筛栅遮挡金属基体表面的方法，简单便捷地原位制备织构化DLC薄膜，金属基底表面的金属网筛并非与基底紧密贴合，而是与基底留有一定间隙，且间隙尺寸严格控制，利用此间隙实现沉积空间等离子体密度的重新分布，使金属网栅遮挡区域与基体间隙处的等离子体密度增加，从而提高此区域的沉积速率，而未遮挡区域沉积速率不变，导致遮挡区域薄膜厚度大于未遮挡区域，从而在薄膜沉积过程中原位形成织构化表层，薄膜本身连续完整，不存在未覆盖区域，且织构坑形状、密度和深度均可通过沉积工艺的调控实现可控调节。
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公开(公告)号：CN111074226A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN202010084685.8
申请日：2020-02-10
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种碳基复合薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明以碳靶和金属碳化物靶为溅射靶材，基于闭合场非平衡磁控溅射等离子体空间分布特点及样品转架转速对薄膜结构的影响规律，仅通过样品转架旋转“快-慢”的周期性控制，在沉积过程中自发形成兼具纳米层结构和纳米复合结构的双结构的碳基复合薄膜，碳靶和金属碳化物靶在真空腔体中相对放置，当转架转速快时，沉积出具有纳米复合结构的复合薄膜，当转架转速慢时，沉积出具有纳米多层结构复合薄膜，通过转架转速的调节可实现纳米复合结构中纳米晶的尺寸和纳米多层结构中的调制周期，通过控制样品转架转速周期性调节的时间可实现纳米复合结构层和纳米多层结构层的厚度。
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公开(公告)号：CN111074226B
公开(公告)日：2021-02-02
申请号：CN202010084685.8
申请日：2020-02-10
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种碳基复合薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明以碳靶和金属碳化物靶为溅射靶材，基于闭合场非平衡磁控溅射等离子体空间分布特点及样品转架转速对薄膜结构的影响规律，仅通过样品转架旋转“快‑慢”的周期性控制，在沉积过程中自发形成兼具纳米层结构和纳米复合结构的双结构的碳基复合薄膜，碳靶和金属碳化物靶在真空腔体中相对放置，当转架转速快时，沉积出具有纳米复合结构的复合薄膜，当转架转速慢时，沉积出具有纳米多层结构复合薄膜，通过转架转速的调节可实现纳米复合结构中纳米晶的尺寸和纳米多层结构中的调制周期，通过控制样品转架转速周期性调节的时间可实现纳米复合结构层和纳米多层结构层的厚度。
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公开(公告)号：CN111139430B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN202010052653.X
申请日：2020-01-17
Applicant: 兰州理工大学 , 中国科学院兰州化学物理研究所
Abstract: 本发明提供了一种织构化类金刚石碳基薄膜及其制备方法，属于表面工程领域。本发明提供一种利用金属网筛栅遮挡金属基体表面的方法，简单便捷地原位制备织构化DLC薄膜，金属基底表面的金属网筛并非与基底紧密贴合，而是与基底留有一定间隙，且间隙尺寸严格控制，利用此间隙实现沉积空间等离子体密度的重新分布，使金属网栅遮挡区域与基体间隙处的等离子体密度增加，从而提高此区域的沉积速率，而未遮挡区域沉积速率不变，导致遮挡区域薄膜厚度大于未遮挡区域，从而在薄膜沉积过程中原位形成织构化表层，薄膜本身连续完整，不存在未覆盖区域，且织构坑形状、密度和深度均可通过沉积工艺的调控实现可控调节。
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公开(公告)号：CN118957229A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202410960853.3
申请日：2024-07-17
Applicant: 兰州理工大学 , 酒泉职业技术学院(甘肃广播电视大学酒泉市分校)
Abstract: 本发明公开了一种锯齿型界面不锈钢涂层材料及其制备方法，属于涂层材料技术领域，方法包括：以铝合金为基材，对基材待喷涂表面进行表层加热，并用压印法在基材已加热表面制备锯齿型凸起，再对锯齿型凸起进行去应力退火，得到待喷涂铝合金基材；利用蒸发镀方法在待喷涂铝合金基材的待喷涂表面镀覆镍层，并用等离子喷涂方法在镀层表面喷涂不锈钢涂层，得到锯齿型界面不锈钢涂层材料。此方法具有可控性好，工艺稳定性和重复性较强，可实现不锈钢涂层材料的强界面结合与优良耐磨性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116731676A
公开(公告)日：2023-09-12
申请号：CN202310685058.3
申请日：2023-06-09
Applicant: 兰州理工大学
Abstract: 本发明属于复合材料的制备技术领域，具体公开了一种多晶CBN磁性磨料及其制备方法，本发明单晶CBN颗粒与AlN结合剂在高温高压下烧结形成的多晶CBN磨粒作为磁性磨料的研磨相，多晶CBN磨粒具有更高耐磨性，同时多晶CBN磨粒具有高硬度与自锐性，可以提高磁性磨料的研磨性能与研磨寿命；多晶CBN磨粒与铁磁相球形铁粉进行机械球磨，研磨相均匀分布在铁磁相表面，磨粒与球形铁粉形成机械结合，并对球磨后的磨料进行热处理，形成多晶CBN磁性磨料，制备工艺简单；制备出的多晶CBN磁性磨料研磨寿命增加至80min。
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公开(公告)号：CN116288214A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310330646.5
申请日：2023-03-30
Applicant: 兰州理工大学
Abstract: 本发明提供了一种界面结合强度高的高熵陶瓷梯度涂层及其制备方法和应用，属于刀具涂层制备技术领域。本发明通过对高熵陶瓷组分优化与梯度涂层相结合，调整WC含量减少涂层与基体界面两侧的WC组分差异，降低界面应力，有利于界面处的晶体结合，进而强化界面；选用纯金属靶材用于精确控制涂层组分及保证元素混合程度；通过去界面应力热处理减少涂层与基体界面和梯度涂层的组织缺陷，进一步均化涂层组织，强化性能。实施例的结果显示，本发明制备的高熵陶瓷梯度涂层的厚度为1.2～2.5μm，涂层与基体的界面结合强度≥11MPa，涂层表面硬度≥22GPa，10kg滑动摩擦试验磨损量≤0.8μg/cm2·h，具有优异的耐磨性能。
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公开(公告)号：CN115261854A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202210911362.0
申请日：2022-07-30
Applicant: 兰州理工大学
Abstract: 本发明提供了一种耐化学腐蚀膜层复配防护涂层及制备方法，属于防腐蚀涂层技术领域。本发明的耐化学腐蚀膜层复配防护涂层依次包括Cr3C2‑NiCr金属陶瓷支撑层、NiCr过渡层、Cr粘接层、Cr→C梯度过渡层和DLC薄膜。本发明所述耐化学腐蚀膜层复配防护涂层，能够避免苛刻环境下腐蚀性成分通过DLC薄膜的柱状结构间隙或DLC薄膜表面缺陷如针孔等直接接触金属基体形成微观闭塞电池，进一步加速DLC薄膜的剥落，降低金属工件的服役寿命。
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公开(公告)号：CN113932962A
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN202111209268.2
申请日：2021-10-18
Applicant: 兰州理工大学
Abstract: 本发明提供了一种多陶瓷热障涂层的残余应力检测方法，利用荧光粒子发射谱特征峰在受到应力后，荧光粒子基质晶格畸变导致其发射谱特征峰定量偏移，通过确定应力与荧光发射谱特征峰位移的定量对应关系，构建TBCs应力测试基础。选具有发光特性的荧光粉末作为应力响应单元。通过对服役后热障涂层荧光发射谱峰信息采集，进而实现多陶瓷热障涂层陶瓷层内部残余应力的测试。
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公开(公告)号：CN110344047B
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN201910793715.X
申请日：2019-08-27
Applicant: 兰州理工大学
Abstract: 本发明提供了一种原位合成低压冷喷涂CuNiCoFeCrAl2.8高熵合金涂层的制备方法，该方法为：将Cu粉、Ni粉、Co粉、Fe粉、Cr粉和Al粉，混合均匀得到冷喷用粉体，然后低压冷喷涂至金属基体表面，得到混合粉体涂层，再进行感应重熔原位合成，得到CuNiCoFeCrAl2.8高熵合金涂层。本发明使用低压冷喷涂技术，将冷喷用粉体低压冷喷涂到基体上，进行感应重熔原位合成，得到CuNiCoFeCrAl2.8高熵合金涂层，合金化反应充分，混合粉体涂层的微观组织从纯金属原位形成具有体心立方结构的高熵合金组织，形成了高熵合金涂层，组织致密，孔隙率低，高熵合金组织结构稳定、杂质少、机械性能优良，强度高、硬度高、耐磨和耐腐蚀性能良好，CuNiCoFeCrAl2.8高熵合金涂层厚度在100μm～3mm，制备设备简单，工艺方便。
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