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公开(公告)号：CN114815007B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN202210256445.0
申请日：2022-03-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，解决了传统的菲涅尔透镜制作工艺加工成本高，生产周期长，难以获得连续浮雕轮廓的问题。本发明提供的制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，可以在不使用常规套刻掩模版的情况下，快速高效地制作具有连续浮雕结构的菲涅尔透镜。本发明工艺流程简单，掩蔽层制作灵活，加工精度高，克服了传统技术在制作菲涅尔透镜的过程中存在各掩模版对准误差大、加工效率低、制作成本高、无法快速获得连续浮雕轮廓的问题。
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公开(公告)号：CN110187415B
公开(公告)日：2020-07-17
申请号：CN201910536086.2
申请日：2019-06-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B1/12
Abstract: 本发明公开了一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，解决了传统光学加工技术无法直接抛光新型柔性光学薄膜的问题。本发明提供的基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，可以在不影响薄膜光学性能的情况下，快速高效地对柔性薄膜进行面形修正。本发明可以精确控制减薄区域与非减薄区域的界线，对准精度高，迭代次数少，减薄深度控制精度高，减薄掩蔽层制作方便，不会在光学件表面产生表面划痕或亚表面损伤，残余掩蔽层去除容易，工艺重复性好，无毒无害，也适用于传统无机刚性材料如二氧化硅、碳化硅等。
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公开(公告)号：CN110187415A
公开(公告)日：2019-08-30
申请号：CN201910536086.2
申请日：2019-06-20
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B1/12
Abstract: 本发明公开了一种基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，解决了传统光学加工技术无法直接抛光新型柔性光学薄膜的问题。本发明提供的基于反应离子刻蚀减薄的光学元件面形修正方法，可以在不影响薄膜光学性能的情况下，快速高效地对柔性薄膜进行面形修正。本发明可以精确控制减薄区域与非减薄区域的界线，对准精度高，迭代次数少，减薄深度控制精度高，减薄掩蔽层制作方便，不会在光学件表面产生表面划痕或亚表面损伤，残余掩蔽层去除容易，工艺重复性好，无毒无害，也适用于传统无机刚性材料如二氧化硅、碳化硅等。
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公开(公告)号：CN114594536B
公开(公告)日：2023-05-26
申请号：CN202210256442.7
申请日：2022-03-16
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明涉及一种制备超轻质菲涅尔透镜的方法，包括：超轻质光学薄膜与刚性基底复合体的制作、超轻质菲涅尔透镜轮廓加工以及超轻质菲涅尔透镜脱膜。工作流程为首先加工出具有光滑平面的刚性基底，接着在刚性基底表面进行光学薄膜材料前驱体溶液涂覆，然后将光学薄膜材料前驱体溶液固化，形成超轻质光学薄膜与刚性基底复合体。接着在该复合体的表面进行菲涅尔透镜轮廓加工，最后通过超轻质菲涅尔透镜脱膜将表面具有菲涅尔透镜轮廓的光学薄膜与刚性基底进行分离，得到超轻质菲涅尔透镜。该方法特别适合制备以光学薄膜材料为基底的超轻质菲涅尔透镜，是一种高效、工艺成本低、灵活性强、口径范围广的超轻质菲涅尔透镜制备方法。
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公开(公告)号：CN113861481B
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202111119728.2
申请日：2021-09-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料及制备方法，该复合薄膜由三层薄膜材料复合而成，中间层为聚酰亚胺薄膜，聚酰亚胺薄膜上下两面为二氧化硅增透疏水膜。本发明得到了在可见光区域高透且表面疏水的光学用柔性聚酰亚胺复合薄膜材料。该复合薄膜在屏幕显示、光学成像、太阳能电池、高能激光系统、航空航天等领域有很大的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110117375A
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201910424939.3
申请日：2019-05-21
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种厚度由外径到圆心依次递减、上表面呈微凹型的聚酰亚胺光学薄膜制备方法，通过在水平调平的具有一定光学面型的石英基板上流延低浓度的聚酰胺酸胶液，不施加任何外力，使胶液上表面依靠自身的表面张力及边缘围框的毛细管效应自动流平，并且在随后的真空均匀脱溶剂过程中，保证石英基板的绝对稳定性及水平性，实现一种厚度由外径到圆心依次递减、上表面呈微凹型的聚酰亚胺光学薄膜制备方法。薄膜可应用于透明光学薄膜反射镜、薄膜聚光镜、柔性薄膜太阳能电池、光学天线等领域，具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN109575331A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811464794.1
申请日：2018-12-03
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种小口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，为了提高薄膜厚度均匀性减小波前误差，达到最基本的成像质量要求，通过多次旋涂，直至得到所需厚度的聚酰亚胺薄膜，薄膜透射波前PV≤1/4λ，RMS≤1/30λ，满足基本成像质量要求。本发明有益的技术效果：有望缩小与国外差距，提高薄膜元件制作工艺水平，扩展我国薄膜元件的实际应用领域，特别是透明光学薄膜衍射成像系统领域。
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公开(公告)号：CN113861481A
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202111119728.2
申请日：2021-09-24
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明公开了一种高透疏水光学聚酰亚胺复合薄膜材料及制备方法，该复合薄膜由三层薄膜材料复合而成，中间层为聚酰亚胺薄膜，聚酰亚胺薄膜上下两面为二氧化硅增透疏水膜。本发明得到了在可见光区域高透且表面疏水的光学用柔性聚酰亚胺复合薄膜材料。该复合薄膜在屏幕显示、光学成像、太阳能电池、高能激光系统、航空航天等领域有很大的应用前景。
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公开(公告)号：CN113031141A
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202110363795.2
申请日：2021-04-02
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明提供了一种基于重力场加工闪耀光栅的方法，该方法分解为定位侧壁加工、胶液浇筑、倾斜紫外固化和镀膜4大步骤，包括平面基底、定位侧壁、液态紫外胶、固态紫外胶、紫外光源、反射膜层；其中平面基底作为基底支撑定位侧壁并盛装液态紫外胶，在平面基底表面通过光刻、刻蚀、切削、打印等方式精密加工定位侧壁。将平面基底倾斜特定角度并利用紫外光源对液态紫外胶进行固化使其成为固态紫外胶，最后在固态紫外胶表面镀制反射膜层。
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公开(公告)号：CN111647180A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010418538.X
申请日：2020-05-18
Applicant: 中国科学院光电技术研究所
Abstract: 本发明提供了一种大口径光学成像级聚酰亚胺薄膜制备方法，为了提高大口径薄膜厚度均匀性减小波前误差，达到薄膜衍射系统要求的成像质量，通过预先给胶液施加一环向均匀、径向呈梯度分布的温度来调控其粘度，从而控制胶液径向厚度分布，经控温/常温叠加多次旋涂，直至得到所需厚度的聚酰亚胺薄膜，薄膜厚度≥20μm，薄膜口径≥Φ400mm，薄膜透射波前RMS≤1/25λ，满足系统成像质量要求。本发明有益的技术效果：缩小了与国外差距，提高薄膜元件制作工艺水平，扩展我国薄膜元件的实际应用领域，特别是透明光学薄膜衍射成像系统领域。
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