公开(公告)号：CN117568921A

公开(公告)日：2024-02-20

申请号：CN202311540645.X

申请日：2023-11-20

Applicant: 中国科学院上海技术物理研究所

Inventor： 苗金水 ,  赵超禹 ,  董祎 ,  林虹宇 ,  蒋羽 ,  龙思宇 ,  付晓 ,  王海露 ,  张蕾 ,  胡淑红 ,  胡伟达

IPC: C30B19/06 ,  C30B29/40

Abstract: 本发明公开了一种去除残留熔滴的V形狭槽铟砷基材料液相外延石墨舟，涉及半导体薄膜技术领域，包括盖板、母液槽块、衬底槽滑板和底座，底座具有U形槽，衬底槽滑板上开设有衬底放置槽，且衬底槽滑板能沿第一方向滑动设置在U形槽内；母液槽块与底座能拆卸地固连一起，母液槽块上开设有至少一个母液槽，母液槽在水平面上的投影能覆盖衬底放置槽在水平面上的投影，且各母液槽的一侧均设有一个V形狭槽，各V形狭槽的开口朝向均与衬底槽滑板从U形槽拉出的方向相同，V形狭槽的两端间距大于衬底放置槽宽度。通过在母液槽一侧设置V形狭槽，多余的残留母液被V形狭槽驱赶至外延薄膜之外，减少多余的母液，保证外延薄膜的可利用面积。