一种GaN器件近结区热阻测试方法和计算机设备

    公开(公告)号:CN119125830B

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202411612484.5

    申请日:2024-11-13

    Abstract: 本发明公开了一种GaN器件近结区热阻测试方法和计算机设备,所述方法包括:采用与待测GaN器件相同的制作工艺制作第一测试结构和第二测试结构,第一测试结构包括衬底层、AlN缓冲层、GaN层,第二测试结构包括衬底层;利用3ω法对第一测试结构进行测试得到综合热导率,计算得到GaN器件的片内热阻;利用3ω法对第二测试结构进行测试得到综合热导率,计算得到衬底层的体热阻;根据第一测试结构和第二测试结构的3ω法测试结果,计算得到GaN层的综合热导率,根据GaN层的综合热导率,计算得到GaN层的结构热阻;基于GaN器件的片内热阻、衬底层的体热阻、GaN层的结构热阻,计算AlN缓冲层的接触热阻。本发明能够高效地测试获取GaN器件近结区的不同材料层的热阻。

    一种GaN器件近结区热阻测试方法和计算机设备

    公开(公告)号:CN119125830A

    公开(公告)日:2024-12-13

    申请号:CN202411612484.5

    申请日:2024-11-13

    Abstract: 本发明公开了一种GaN器件近结区热阻测试方法和计算机设备,所述方法包括:采用与待测GaN器件相同的制作工艺制作第一测试结构和第二测试结构,第一测试结构包括衬底层、AlN缓冲层、GaN层,第二测试结构包括衬底层;利用3ω法对第一测试结构进行测试得到综合热导率,计算得到GaN器件的片内热阻;利用3ω法对第二测试结构进行测试得到综合热导率,计算得到衬底层的体热阻;根据第一测试结构和第二测试结构的3ω法测试结果,计算得到GaN层的综合热导率,根据GaN层的综合热导率,计算得到GaN层的结构热阻;基于GaN器件的片内热阻、衬底层的体热阻、GaN层的结构热阻,计算AlN缓冲层的接触热阻。本发明能够高效地测试获取GaN器件近结区的不同材料层的热阻。

    一种材料均匀性的自动化检测方法和计算机设备

    公开(公告)号:CN119555711B

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202510120710.6

    申请日:2025-01-26

    Abstract: 本发明公开了一种材料均匀性的自动化检测方法和计算机设备,所述方法包括:设置X射线发射器的电压、电流和曝光时间条件,并且设置待测材料的观察区域和均匀性判定标准;对探测器表面直接照射X射线,获得空场探测图像像素点灰度值:将待测材料放置在探测器表面,对探测器表面照射X射线,获得满场探测图像像素点灰度值;根据空场探测图像的像素点灰度值和满场探测图像的像素点灰度值,计算获取待测材料在观察区域的变异系数;将观察区域的变异系数与所设置的均匀性判定标准进行对比,当变异系数低于判定标准时判断材料均匀性满足要求,否则判断材料均匀性不合格。本发明能够对材料不同区域的致密性、厚度的一致性等进行快速检验判断。

    一种材料均匀性的自动化检测方法和计算机设备

    公开(公告)号:CN119555711A

    公开(公告)日:2025-03-04

    申请号:CN202510120710.6

    申请日:2025-01-26

    Abstract: 本发明公开了一种材料均匀性的自动化检测方法和计算机设备,所述方法包括:设置X射线发射器的电压、电流和曝光时间条件,并且设置待测材料的观察区域和均匀性判定标准;对探测器表面直接照射X射线,获得空场探测图像像素点灰度值:将待测材料放置在探测器表面,对探测器表面照射X射线,获得满场探测图像像素点灰度值;根据空场探测图像的像素点灰度值和满场探测图像的像素点灰度值,计算获取待测材料在观察区域的变异系数;将观察区域的变异系数与所设置的均匀性判定标准进行对比,当变异系数低于判定标准时判断材料均匀性满足要求,否则判断材料均匀性不合格。本发明能够对材料不同区域的致密性、厚度的一致性等进行快速检验判断。

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