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公开(公告)号：CN113794098A
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202111344061.6
申请日：2021-11-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种高光束质量光谱合束装置，所述装置包括：沿光路传播方向依次设置的一维光纤光源阵列、补偿光栅Ⅰ、补偿光栅Ⅱ、合束光栅Ⅰ和合束光栅Ⅱ；其中，一维光纤光源阵列由多个不同波长的光纤光源组成，各光纤光源发射的光束指向平行。本发明提供的高光束质量光谱合束装置通过对合成子束进行色散补偿，提高合成光束的光束质量，本发明公开的装置具有实现高功率、优质光束质量输出的优点。
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公开(公告)号：CN113794100B
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111344063.5
申请日：2021-11-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明属于激光器领域，本发明公开了一种二维光谱合成装置，该装置包括：沿光路传播方向依次设置的二维光纤光源阵列、高线密度多层介质膜光栅Ⅰ、高线密度多层介质膜光栅Ⅱ、低线密度多层介质膜光栅Ⅰ和低线密度多层介质膜光栅Ⅱ。本发明提供的二维光谱合成装置能够减小多路子光源光谱合成时对大口径、长宽比例大的光学元件的需求，减小合成装置的体积，降低合成装置的成本，实现更高功率的光谱合成输出，为光谱合成装置的广泛应用提供了可能。
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公开(公告)号：CN113794099B
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202111344062.0
申请日：2021-11-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心(CN)
Abstract: 本发明公开了一种复合光谱合成装置，所述装置包括：沿一路光传播方向依次设置的一维光纤光源阵列Ⅰ、大口径多层介质膜光栅Ⅰ、小口径多层介质膜光栅Ⅱ和合束组件，以及沿另一路光传播方向依次设置的一维光纤光源阵列Ⅱ、大口径多层介质膜光栅Ⅰ、小口径多层介质膜光栅Ⅲ和合束组件；本发明公开的复合光谱合成装置，通过共用光栅，减小小口径光栅的功率负载，减小合成系统的成本，提高共用光栅的利用率；同时，在相同合成子束数目的条件下，减小共用光栅的口径，显著降低大口径光栅的制备难度，降低合成系统的成本，并使得小口径光栅的功率负载减小一半，显著提升合成光束的光束质量。
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公开(公告)号：CN113794100A
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202111344063.5
申请日：2021-11-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明属于激光器领域，本发明公开了一种二维光谱合成装置，该装置包括：沿光路传播方向依次设置的二维光纤光源阵列、高线密度多层介质膜光栅Ⅰ、高线密度多层介质膜光栅Ⅱ、低线密度多层介质膜光栅Ⅰ和低线密度多层介质膜光栅Ⅱ。本发明提供的二维光谱合成装置能够减小多路子光源光谱合成时对大口径、长宽比例大的光学元件的需求，减小合成装置的体积，降低合成装置的成本，实现更高功率的光谱合成输出，为光谱合成装置的广泛应用提供了可能。
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公开(公告)号：CN113794099A
公开(公告)日：2021-12-14
申请号：CN202111344062.0
申请日：2021-11-15
Applicant: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心
Abstract: 本发明公开了一种复合光谱合成装置，所述装置包括：沿一路光传播方向依次设置的一维光纤光源阵列Ⅰ、大口径多层介质膜光栅Ⅰ、小口径多层介质膜光栅Ⅱ和合束组件，以及沿另一路光传播方向依次设置的一维光纤光源阵列Ⅱ、大口径多层介质膜光栅Ⅰ、小口径多层介质膜光栅Ⅲ和合束组件；本发明公开的复合光谱合成装置，通过共用光栅，减小小口径光栅的功率负载，减小合成系统的成本，提高共用光栅的利用率；同时，在相同合成子束数目的条件下，减小共用光栅的口径，显著降低大口径光栅的制备难度，降低合成系统的成本，并使得小口径光栅的功率负载减小一半，显著提升合成光束的光束质量。
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