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公开(公告)号：CN104731024B
公开(公告)日：2020-02-21
申请号：CN201510151082.4
申请日：2015-04-01
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
IPC: G05B19/414
Abstract: 本发明提供了一种磁流变抛光机双柔性磨头多模式运行控制方法，所述的控制方法通过上位软件与PLC软件共同实现双磨头循环系统的多模式控制。所述控制方法，包括步骤：拨动循环系统运行模式控制旋钮，选择磨头工作模式；上位软件检测选择的循环系统工作模式，设置磨头模式标志，显示管路连接提示信息；按上位软件界面的管路确认按钮，并设置管路确认信号=1；上位软件设置磨头运行启动标志；PLC软件检测磨头模式标志和磨头运行启动标志；PLC软件根据检测到的磨头模式标志和磨头运行启动标志自动启动双磨头的运行。
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公开(公告)号：CN106272086A
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201610833949.9
申请日：2016-09-20
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
IPC: B24B57/02
CPC classification number: B24B57/02
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光液回收器，包括回收罩、导液管、永磁铁和屏蔽层。回收罩用于收集由抛光轮送来的磁流变液，导液管穿透回收罩用于吸走收集在回收罩中的磁流变液，永磁铁安装在回收罩与磁流变抛光轮之间形成磁性毛刷，屏蔽层包裹在永磁铁周围用于约束磁场作用范围、减弱磁场强度，避免磁流变抛光液变硬对所述磁流变抛光轮造成磨损。
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公开(公告)号：CN105642143A
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：CN201610204933.1
申请日：2016-04-05
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
CPC classification number: B01F3/0853 , B01F9/14 , B01F2009/0061 , B01F2215/0045
Abstract: 本发明提供了一种磁流变抛光液在线匀化装置。本发明的装置中的磁流变抛光液储存于储液罐内，传送泵体浸入储液罐体的抛光液中，正桨叶通过螺钉连接并安装固定于传送泵体底部、反桨叶通过螺钉连接并安装固定于传送泵中部，匀化驱动器驱动匀化电机并带动储液罐作低速正反转动，实现搅拌桨叶相对罐体正反转运动、搅拌匀化磁流变抛光液。本发明能够实现磁流变抛光液各组份匀化，解决磁流变抛光液长时间工作沉降问题，适用于高、低粘度宽范围磁流变抛光液的在线匀化，提高磁流变抛光液组份的稳定性控制、实现磁流变抛光液对光学元件的高精度和高可靠性抛光。
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公开(公告)号：CN104669072A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：CN201510080454.9
申请日：2015-02-13
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
CPC classification number: B24B27/0076 , B24B31/102 , B24B51/00
Abstract: 本发明提供了一种可组态重构的磁流变抛光装置。本发明采用模块组态重构系统的设计方法设计本装置，通过大小柔性磨头与循环单元Ⅰ和循环单元Ⅱ的不同组态和系统重构，形成“大柔性磨头+循环单元Ⅰ”、“大柔性磨头+循环单元Ⅱ”、“小柔性磨头+循环单元Ⅰ”、“小柔性磨头+循环单元Ⅱ”四种具有不同加工能力、可快速组合和切换的抛光工具轴，在同一台磁流变抛光装置中实现对零件材质、加工尺度、加工精度和加工效率的广泛适应性，解决了目前单台磁流变抛光装置加工能力和加工范围受局限的问题；同时本装置通过组态重构实现设备功能单元的复用，装置可靠性高。
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公开(公告)号：CN106272086B
公开(公告)日：2018-08-17
申请号：CN201610833949.9
申请日：2016-09-20
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
IPC: B24B57/02
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光液回收器，包括回收罩、导液管、永磁铁和屏蔽层。回收罩用于收集由抛光轮送来的磁流变液，导液管穿透回收罩用于吸走收集在回收罩中的磁流变液，永磁铁安装在回收罩与磁流变抛光轮之间形成磁性毛刷，屏蔽层包裹在永磁铁周围用于约束磁场作用范围、减弱磁场强度，避免磁流变抛光液变硬对所述磁流变抛光轮造成磨损。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107695801A
公开(公告)日：2018-02-16
申请号：CN201711283993.8
申请日：2017-12-07
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
IPC: B24B1/00
CPC classification number: B24B1/005
Abstract: 本发明公开了一种磁流变抛光液离线匀化装置，包括防护罩、支撑板，以及安装在支撑板上的电机、电机控制器、电机控制器挂架、传送带Ⅰ和双主传动匀化组。双主传动匀化组形成方形空间并托起混合瓶。该离线匀化装置可以拓展为多组双主传动匀化组。使用时，将盛有磁流变抛光液的混合瓶放置于双主传动匀化组上，调节电机速度，运行电机，电机转动依次带动传送带Ⅰ、双主传动匀化组。辊轮通过橡胶管与混合瓶的静摩擦双主传动带动混合瓶回转，从而均匀匀化混合瓶内的磁流变抛光液。该离线匀化装置具有主动传动功能，摩擦力大、传送力矩大，辊轮不空转、混合瓶不打滑。该离线匀化装置还可用于磁流变抛光液的离线匀化以及其它抛光液的匀化。
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公开(公告)号：CN105642143B
公开(公告)日：2017-12-15
申请号：CN201610204933.1
申请日：2016-04-05
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
Abstract: 本发明提供了一种磁流变抛光液在线匀化装置。本发明的装置中的磁流变抛光液储存于储液罐内，传送泵体浸入储液罐体的抛光液中，正桨叶通过螺钉连接并安装固定于传送泵体底部、反桨叶通过螺钉连接并安装固定于传送泵中部，匀化驱动器驱动匀化电机并带动储液罐作低速正反转动，实现搅拌桨叶相对罐体正反转运动、搅拌匀化磁流变抛光液。本发明能够实现磁流变抛光液各组份匀化，解决磁流变抛光液长时间工作沉降问题，适用于高、低粘度宽范围磁流变抛光液的在线匀化，提高磁流变抛光液组份的稳定性控制、实现磁流变抛光液对光学元件的高精度和高可靠性抛光。
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公开(公告)号：CN101879705A
公开(公告)日：2010-11-10
申请号：CN201010222364.6
申请日：2010-07-09
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
Abstract: 本发明公开了一种高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮。所述的抛光轮外表面依次沉积有过渡层和超硬镀层。所述的抛光轮采用轮轴分离结构，通过轮轴锥面配合以及螺纹紧固实现轮与轴的连接。所述过渡层为金属或金属和金属化合物。超硬镀层采用锆、铬、铝、钛、钨的氮化物、碳化物和碳氮化物中的一种或以上组合；超硬镀层还可采用类金刚石。本发明的高耐磨轮轴分离式磁流变抛光轮能够大幅提高磁流变抛光轮的耐磨损性能、延长抛光轮的使用寿命、保证抛光轮的高回转精度，实现抛光轮的快速更换。
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公开(公告)号：CN107703881B
公开(公告)日：2023-08-04
申请号：CN201710809677.3
申请日：2017-09-11
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
IPC: G05B19/401
Abstract: 本发明提供了一种自动标定磁流变抛光缎带的装置。所述装置的气缸和MCP测头，自动测量工件和标定块相对于抛光轮底部的相对位置；利用磁流变液的导电性进行接触式测量，抛光缎带与置于工件上导电的标定块柔性接触，形成电流回路产生导通信号，计算机获取接触时标定块相对于抛光缎带底部的相对位置，从而实现抛光缎带厚度的自动测量。本发明解决了目前人工手动方式对缎带厚度进行测量和标定存在测量精度不高、效率低和较大安全隐患等问题，能够低成本、便捷实现抛光缎带厚度的高精度、高效率、高安全性的自动测量与标定，从而提高磁流变抛光质量和效率。
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公开(公告)号：CN107081641A
公开(公告)日：2017-08-22
申请号：CN201710345833.5
申请日：2017-05-17
Applicant: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
Abstract: 本发明公开了一种柔性刀具自动对刀装置及方法。本发明的柔性刀具自动对刀装置及方法，用于射流抛光领域，采用测量探头配合固化的参数化自动对刀程序，利用数控系统自身的数控程序控制能力，通过数控系统直接运行固化的参数化自动对刀程序，控制测量探头接触工件的五个端面的测量方式实现对刀并自动建立机床工件坐标系，不需要配置独立的对刀仪，可有效解决射流抛光手动对刀难度大，对刀精度主要依赖操作者的技术水平和工艺经验等问题，而且有效提高了射流抛光的对刀效率和对刀精度，以及射流抛光机床的自动化水平和安全性，同时该方法还适用于其它类型的柔性刀具自动对刀。
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