公开(公告)号：CN110273156B

公开(公告)日：2023-06-30

申请号：CN201910192762.9

申请日：2019-03-14

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李相赫 ,  黄俊荣 ,  李大雨 ,  申贤哲 ,  金奎佈

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H10K59/10 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明揭示用于液晶显示装置或有机发光二极管显示装置等的不包含氟的钼铜合金膜蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物包含蚀刻液组合物，所述蚀刻液组合物包含：过氧化氢5重量百分比至20重量百分比、四氮环状化合物0.01重量百分比至1.5重量百分比、三氮环状化合物0.01至1.5重量百分比、芳香族化合物0.01重量百分比至1重量百分比、胺类化合物3重量百分比至10重量百分比、以及水，还包含钼铜蚀刻液组合物，所述钼铜蚀刻液组合物还包含：过氧化氢稳定剂1重量百分比至5重量百分比、有机酸1重量百分比至5重量百分、无机酸0.1重量百分比至5重量百分比以及磺酸化合物1重量百分比至5重量百分比。

公开(公告)号：CN110273156A

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201910192762.9

申请日：2019-03-14

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 李相赫 ,  黄俊荣 ,  李大雨 ,  申贤哲 ,  金奎佈

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  H01L27/32 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明揭示用于液晶显示装置或有机发光二极管显示装置等的不包含氟的钼铜合金膜蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物包含蚀刻液组合物，所述蚀刻液组合物包含：过氧化氢5重量百分比至20重量百分比、四氮环状化合物0.01重量百分比至1.5重量百分比、三氮环状化合物0.01至1.5重量百分比、芳香族化合物0.01重量百分比至1重量百分比、胺类化合物3重量百分比至10重量百分比、以及水，还包含钼铜蚀刻液组合物，所述钼铜蚀刻液组合物还包含：过氧化氢稳定剂1重量百分比至5重量百分比、有机酸1重量百分比至5重量百分、无机酸0.1重量百分比至5重量百分比以及磺酸化合物1重量百分比至5重量百分比。

公开(公告)号：CN119592953A

公开(公告)日：2025-03-11

申请号：CN202411183128.6

申请日：2024-08-27

Applicant: 东进世美肯株式会社

Inventor： 金成玟 ,  金奎怖 ,  黄俊荣 ,  徐佳贤 ,  申贤哲

IPC: C23F1/16 ,  C23F1/02

Abstract: 公开一种可以确保在金属布线膜的上部膜上没有上凹以及尖端存在的蚀刻液组合物。本发明的一方面，提供一种蚀刻液组合物，包含：无机酸；有机酸；磺酸化合物；环状化合物；糖醇；以及氟类化合物。