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公开(公告)号：CN119592953A
公开(公告)日：2025-03-11
申请号：CN202411183128.6
申请日：2024-08-27
Applicant: 东进世美肯株式会社
Inventor： 金成玟 , 金奎怖 , 黄俊荣 , 徐佳贤 , 申贤哲
IPC: C23F1/16 , C23F1/02
Abstract: 公开一种可以确保在金属布线膜的上部膜上没有上凹以及尖端存在的蚀刻液组合物。本发明的一方面，提供一种蚀刻液组合物，包含：无机酸；有机酸；磺酸化合物；环状化合物；糖醇；以及氟类化合物。
