公开(公告)号：CN106716598A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201580051716.7

申请日：2015-09-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 园田主税 ,  宫原强 ,  大川胜宏 ,  宇都宫由典 ,  赤田光 ,  长谷部和久

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  G03F7/26

Abstract: 收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。

公开(公告)号：CN106716598B

公开(公告)日：2020-08-14

申请号：CN201580051716.7

申请日：2015-09-17

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 园田主税 ,  宫原强 ,  大川胜宏 ,  宇都宫由典 ,  赤田光 ,  长谷部和久

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  G03F7/26

Abstract: 收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。