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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106716598A
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201580051716.7
申请日：2015-09-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/10 , G03F7/26
Abstract: 收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。
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公开(公告)号：CN114373695A
公开(公告)日：2022-04-19
申请号：CN202111170485.5
申请日：2021-10-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 宇都宫由典
Abstract: 提供一种处理液供给装置、通知方法以及存储介质。在处理液供给装置中的处理液的贮存容器更换时，以更换作业中的作业者能够立即视觉辨认的方式通知更换后的贮存容器是否适当。处理液供给装置对使用处理液处理基板的基板处理装置供给处理液，具备：收容部，其具有多个分区，各分区被从一侧面侧设置贮存有处理液的贮存容器；获取部，针对分区分别设置获取部，获取部从附在设置于对应的分区的贮存容器的侧面的识别信息保持部获取该贮存容器的识别信息；以及通知部，针对分区分别设置通知部，通知部基于对应的分区的获取部的获取结果，以发光元件的发光状态来通知该分区中的贮存容器的设置状态，其中，通知部的发光元件向一侧面侧发光。
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公开(公告)号：CN113458095A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202110307176.1
申请日：2021-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: B08B9/035
Abstract: 本发明提供能够实现清扫作业的缩短化和自动化的清扫装置和半导体制造系统。用于清扫半导体制造装置(2)的对象面的自主移动式的清扫装置(3)包括：主体(31)；吸附部(34)，其构成为在对象面为倾斜面的情况下，能够使主体(31)吸附在倾斜面；行驶部(33)，其构成为在主体(31)通过吸附部(34)被吸附于倾斜面的状态下能够使主体沿倾斜面行驶，并且包含设置于比主体靠行进方向前方处的履带；吸引部(32)，其吸引对象面的周边的气体；检测部，其检测(31)主体的周围的状况；以及控制部(38)，其基于检测部的检测结果控制行驶部(33)和吸附部(34)。
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公开(公告)号：CN106716598B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201580051716.7
申请日：2015-09-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/027 , B05C11/10 , G03F7/26
Abstract: 收纳多个存积有半导体制造用的处理液的容器的容器收纳装置包括：载置容器的载置台；根据载置在载置台的容器内的处理液的液量进行升降的支承板；和根据支承板的升降相对于容器的相对位置发生变化的阻挡件。阻挡件在容器内的液量低于规定值的情况下，上升至阻碍容器从载置台移动的位置。
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公开(公告)号：CN216597511U
公开(公告)日：2022-05-24
申请号：CN202122414206.7
申请日：2021-10-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 宇都宫由典
Abstract: 提供一种处理液供给装置。在处理液供给装置中的处理液的贮存容器更换时，以更换作业中的作业者能够立即视觉辨认的方式通知更换后的贮存容器是否适当。处理液供给装置对使用处理液处理基板的基板处理装置供给处理液，具备：收容部，其具有多个分区，各分区被从一侧面侧设置贮存有处理液的贮存容器；获取部，针对分区分别设置获取部，获取部从附在设置于对应的分区的贮存容器的侧面的识别信息保持部获取该贮存容器的识别信息；以及通知部，针对分区分别设置通知部，通知部基于对应的分区的获取部的获取结果，以发光元件的发光状态来通知该分区中的贮存容器的设置状态，其中，通知部的发光元件向一侧面侧发光。
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