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公开(公告)号：CN102853099A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201210218751.1
申请日：2012-06-27
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 达下弘一
CPC classification number: H01L21/67126 , F16K3/184 , F16K51/02
Abstract: 本发明提供一种即使一次处理的被处理体的个数增加，也能够缩短阀体的升降距离的闸阀。该闸阀具备：被按压到取出和放入被处理体的多个开口部（61a～61d）的阀体（63）；设置在阀体63）上的按压部（67）；与开口部（61a～61d）的开口面平行地滑动的主滑动部（70）；和凸轮（71），其设置在主滑动部（70）上，包括突起部（72）和从该突起部（72）呈坡状倾斜的倾斜部（73），在阀体（63）与开口部（61a～61d）正对的状态下按压阀体（63）的按压部（67），其中，阀体（63）具有作为打开开口部（61a～61d）的开放部起作用的至少1个缝隙状开口（65a～65c），与缝隙状开口（65a～65c）相邻的部位为闭塞开口部（61a～61d）的闭塞部（66a～66d）。
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公开(公告)号：CN100345257C
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN02818449.1
申请日：2002-09-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01J37/32623 , H01J37/32688
Abstract: 磁场形成机构21的各个磁体块22，如图3(a)所示，从各个磁体块22的磁极朝向真空室1侧的状态开始，如图3(b)、图3(c)所示，相邻的磁体块22同步反向转动，所以相隔一个的磁体块22就变成同向转动，可以控制在真空室1内形成的半导体晶圆片W的周围的多极磁场的状态。由此，可以容易地根据等离子体处理工艺的种类适当地控制、设定多极磁场的状态，以便进行良好处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1557017A
公开(公告)日：2004-12-22
申请号：CN02818449.1
申请日：2002-09-19
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01J37/32623 , H01J37/32688
Abstract: 磁场形成机构21的各个磁体块22，如图3(a)所示，从各个磁体块22的磁极朝向真空室1侧的状态开始，如图3(b)、图3(c)所示，相邻的磁体块22同步反向转动，所以相隔一个的磁体块22就变成同向转动，可以控制在真空室1内形成的半导体晶圆片W的周围的多极磁场的状态。由此，可以容易地根据等离子体处理工艺的种类适当地控制、设定多极磁场的状态，以便进行良好处理。
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公开(公告)号：CN111293027B
公开(公告)日：2023-03-10
申请号：CN201911233093.1
申请日：2019-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 达下弘一
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置以及等离子体处理方法，在向上部电极的中心部分供给高频电力时，对于处理气体的供给来说，也自中央均匀地供给处理气体。该等离子体处理装置具有：上部电极；供电棒；气体扩散板，其具有多个喷出孔；以及气体导入构件，其具有在内部形成有气体流路并包围供电棒的形状的圆环部，在圆环部的下侧设有筒状的绝缘导入构件，在绝缘导入构件的内部形成有与气体流路连通并在上下方向上形成的两个以上的气体供给路径，在上部电极和供电棒之间的连接部的正下方设有使来自于气体供给路径的处理气体合流的合流部，构成为利用该合流部合流后的处理气体向形成于气体扩散板的上侧且与喷出孔连通的空间流动。
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公开(公告)号：CN111293027A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：CN201911233093.1
申请日：2019-12-05
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 达下弘一
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供等离子体处理装置以及等离子体处理方法，在向上部电极的中心部分供给高频电力时，对于处理气体的供给来说，也自中央均匀地供给处理气体。该等离子体处理装置具有：上部电极；供电棒；气体扩散板，其具有多个喷出孔；以及气体导入构件，其具有在内部形成有气体流路并包围供电棒的形状的圆环部，在圆环部的下侧设有筒状的绝缘导入构件，在绝缘导入构件的内部形成有与气体流路连通并在上下方向上形成的两个以上的气体供给路径，在上部电极和供电棒之间的连接部的正下方设有使来自于气体供给路径的处理气体合流的合流部，构成为利用该合流部合流后的处理气体向形成于气体扩散板的上侧且与喷出孔连通的空间流动。
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公开(公告)号：CN101988586B
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201010236446.6
申请日：2010-07-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使阀芯的尺寸较大、阀芯的气密性也不易下降的闸阀以及使用了该闸阀的基板处理系统。该闸阀包括：阀芯，其被推压到用于搬入搬出被处理体的开口部的周围；推压部，其沿开口部呈环状地设置在阀芯上；主滑动件，其沿与开口部的开口面平行的方向滑动；推压机构，其设置在主滑动件上，用于对推压部进行推压，推压机构由凸轮构成，该凸轮包括用于将阀芯推压到开口部的周围的突起部以及自突起部呈下坡状形成的倾斜部，推压机构在使阀芯与开口部正对的状态下、沿与开口部的开口面垂直的方向推压阀芯，从而将阀芯推压到开口部的周围。
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公开(公告)号：CN101988586A
公开(公告)日：2011-03-23
申请号：CN201010236446.6
申请日：2010-07-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使阀芯的尺寸较大、阀芯的气密性也不易下降的闸阀以及使用了该闸阀的基板处理系统。该闸阀包括：阀芯，其被推压到用于搬入搬出被处理体的开口部的周围；推压部，其沿开口部呈环状地设置在阀芯上；主滑动件，其沿与开口部的开口面平行的方向滑动；推压机构，其设置在主滑动件上，用于对推压部进行推压，推压机构由凸轮构成，该凸轮包括用于将阀芯推压到开口部的周围的突起部以及自突起部呈下坡状形成的倾斜部，推压机构在使阀芯与开口部正对的状态下、沿与开口部的开口面垂直的方向推压阀芯，从而将阀芯推压到开口部的周围。
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