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公开(公告)号:CN111850512A
公开(公告)日:2020-10-30
申请号:CN202010288943.4
申请日:2020-04-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , H01L21/02
Abstract: 本发明一个方式提供一种成膜方法,其包括:成膜步骤,通过对收纳在处理容器内的基片交替地供给多种气体,使膜沉积于该基片;和在所述成膜步骤之前执行的成膜准备步骤,以与所述成膜步骤中要供给到所述处理容器内的全部气体的平均流量相同的流量供给非活性气体,且将所述处理容器内维持为与所述成膜步骤中的所述处理容器内的平均压力相同的压力。由此,可提供能够降低成膜的初始阶段中的温度变动的技术。
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公开(公告)号:CN111719142A
公开(公告)日:2020-09-29
申请号:CN202010160553.9
申请日:2020-03-10
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/56 , C23C16/455
Abstract: 本发明所要解决的技术问题在于:提供一种能够改善大流量处理中的温度均匀性的技术。本发明解决技术问题的方法在于:本发明的一个方式的热处理装置具有:多段收纳多个基板并进行处理的可减压的处理容器;对上述处理容器内的上述基板进行加热的第一加热器;向上述处理容器内的高度不同的位置供给气体的多个气体供给管;和设置于上述多个气体供给管中的向最下方位置供给气体的气体供给管并对上述气体进行加热的第二加热器。
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公开(公告)号:CN111223795A
公开(公告)日:2020-06-02
申请号:CN201911155129.9
申请日:2019-11-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供热处理装置和热处理方法。本发明的一个方式的热处理装置包括:收纳基片的处理容器;设置于上述处理容器的周围的加热装置;对上述处理容器与上述加热装置之间的空间吹出冷却流体的多个吹出装置;和开闭件,其同时开闭上述多个吹出装置的至少2个以上,与各上述吹出装置对应地形成有隙缝。本发明中,从低温至高温的温度控制性提高。
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公开(公告)号:CN110444489A
公开(公告)日:2019-11-12
申请号:CN201910338200.0
申请日:2019-04-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够提高处理容器内的温度稳定性的技术。本发明的一个方式的热处理装置包括竖长的处理容器和以包围上述处理容器的方式设置的加热装置,上述加热装置包括:具有顶面且下端开口的圆筒体形状的第一隔热部件;沿周向设置于上述第一隔热部件的内周侧的发热件;和第二隔热部件,其沿上述第一隔热部件的周向配置于与上述发热件相邻的位置。
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公开(公告)号:CN110444489B
公开(公告)日:2024-04-16
申请号:CN201910338200.0
申请日:2019-04-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够提高处理容器内的温度稳定性的技术。本发明的一个方式的热处理装置包括竖长的处理容器和以包围上述处理容器的方式设置的加热装置,上述加热装置包括:具有顶面且下端开口的圆筒体形状的第一隔热部件;沿周向设置于上述第一隔热部件的内周侧的发热件;和第二隔热部件,其沿上述第一隔热部件的周向配置于与上述发热件相邻的位置。
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公开(公告)号:CN108305844B
公开(公告)日:2023-02-28
申请号:CN201810028997.X
申请日:2018-01-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种能够在短时间内收敛于规定温度的热处理装置和温度控制方法。一个实施方式的热处理装置具备:处理容器,其收纳基板;炉主体,其具有对收纳于所述处理容器中的所述基板进行加热的加热器,所述炉主体设置于所述处理容器的周围;鼓风机,其向所述处理容器与所述炉主体之间的空间供给制冷剂;以及控制部,其具有对所述鼓风机连续地通电的连续运转模式以及对所述鼓风机反复进行通电和通电停止的间歇运转模式,所述控制部基于指示电压来控制对所述鼓风机的驱动,其中,所述控制部在所述指示电压比0V大且比规定的阈值电压小的情况下,以间歇运转模式驱动所述鼓风机。
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公开(公告)号:CN115595557A
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202210756436.8
申请日:2022-06-30
Applicant: 东京毅力科创株式会社(JP)
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/56
Abstract: 本发明提供改善温度控制性的成膜方法和热处理装置。成膜方法在热处理装置中执行,上述热处理装置包括处理容器、上述处理容器内的管状部件、对上述处理容器内进行加热的加热部和气体供给部,上述成膜方法包括:在上述管状部件内准备基片的工序;利用上述加热部调节上述管状部件内的温度的工序;和在调节了上述温度后,从上述气体供给部向上述处理容器内供给包含成膜气体的气体,来在基片成膜的工序,在上述调节温度的工序中,从上述气体供给部向上述处理容器内供给包含传热气体的气体。
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公开(公告)号:CN111223795B
公开(公告)日:2024-07-26
申请号:CN201911155129.9
申请日:2019-11-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供热处理装置和热处理方法。本发明的一个方式的热处理装置包括:收纳基片的处理容器;设置于上述处理容器的周围的加热装置;对上述处理容器与上述加热装置之间的空间吹出冷却流体的多个吹出装置;和开闭件,其同时开闭上述多个吹出装置的至少2个以上,与各上述吹出装置对应地形成有隙缝。本发明中,从低温至高温的温度控制性提高。
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公开(公告)号:CN112444321A
公开(公告)日:2021-03-05
申请号:CN202010908594.1
申请日:2020-09-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 株式会社古屋金属
Abstract: 提供一种具有多个测温部的热电偶结构,其能够实现省空间化。该热电偶结构,包括:第一热电偶线;多个第二热电偶线,与所述第一热电偶线的顶端或中间的不同位置接合,并且由与所述第一热电偶线不同的材料形成;绝缘性的覆盖部件,覆盖所述第一热电偶线和所述第二热电偶线中的至少任意一者;以及保护管,容纳所述第一热电偶线和所述第二热电偶线。
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公开(公告)号:CN108305844A
公开(公告)日:2018-07-20
申请号:CN201810028997.X
申请日:2018-01-12
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67248
Abstract: 本发明提供一种能够在短时间内收敛于规定温度的热处理装置和温度控制方法。一个实施方式的热处理装置具备:处理容器,其收纳基板;炉主体,其具有对收纳于所述处理容器中的所述基板进行加热的加热器,所述炉主体设置于所述处理容器的周围;鼓风机,其向所述处理容器与所述炉主体之间的空间供给制冷剂;以及控制部,其具有对所述鼓风机连续地通电的连续运转模式以及对所述鼓风机反复进行通电和通电停止的间歇运转模式,所述控制部基于指示电压来控制对所述鼓风机的驱动,其中,所述控制部在所述指示电压比0V大且比规定的阈值电压小的情况下,以间歇运转模式驱动所述鼓风机。
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