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发明公开
成膜方法和热处理装置审中-实审

公开(公告)号：CN115595557A

公开(公告)日：2023-01-13

申请号：CN202210756436.8

申请日：2022-06-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社(JP)

Inventor： 菊池康晃 , 横井翼 , 山口达也 , 铃木启介

IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/56

Abstract: 本发明提供改善温度控制性的成膜方法和热处理装置。成膜方法在热处理装置中执行，上述热处理装置包括处理容器、上述处理容器内的管状部件、对上述处理容器内进行加热的加热部和气体供给部，上述成膜方法包括：在上述管状部件内准备基片的工序；利用上述加热部调节上述管状部件内的温度的工序；和在调节了上述温度后，从上述气体供给部向上述处理容器内供给包含成膜气体的气体，来在基片成膜的工序，在上述调节温度的工序中，从上述气体供给部向上述处理容器内供给包含传热气体的气体。

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