测定方法和测定治具
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111381194B

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN201911377536.4

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明提供一种测定静电吸盘的静电容量的测定方法和测定治具。所述测定方法包括以下工序:使端子与静电吸盘内的电极接触,所述静电吸盘与同地连接的基板接触;固定所述端子、所述静电吸盘和所述基板;利用与所述端子连接的电流计及电压计来测定电流值和电压值;以及基于测定出的所述电流值和所述电压值,根据所述电流值的斜率和/或所述电流值的峰值时的值来判定所述端子与所述电极之间的导通。

    异常检测装置和异常检测方法

    公开(公告)号:CN102856149A

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201210216909.1

    申请日:2012-06-27

    CPC classification number: H01J37/32944 H01L21/67288

    Abstract: 本发明提供能够提高异常放电的判定精度、且降低数据处理的负荷的异常检测装置和异常检测方法。一种异常检测装置,具备:监视部,其监视载置于处理室(C)内的晶片(W)即等离子体处理后的晶片从脱离开始直到打开输送闸阀的动作,将所述动作规定为晶片脱离时的动作;取得部,在被规定的所述晶片脱离时的动作中,取得从定向耦合器输出的行波或反射波中的至少任一种高频信号,所述定向耦合器设置于对所述处理室内施加高频电力的高频电源和匹配器之间或设置于作为载置被处理体的载置台发挥作用的下部电极和所述匹配器之间;分析部,其分析取得的所述高频信号的波形图案;和异常判定部,其基于所述高频信号的波形图案的分析结果判定有无异常放电。

    除电方法和基片处理装置

    公开(公告)号:CN111863691B

    公开(公告)日:2025-05-16

    申请号:CN202010299562.6

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本发明提供一种除电方法和基片处理装置。除电方法包括:在静电吸盘上载置有基片的状态下向处理容器内导入气体的步骤;一边对所述静电吸盘的吸附电极施加直流电压一边增大该直流电压的绝对值,直至开始基于所述气体的放电的步骤;在基于所述气体的放电开始后,施加使所述基片的电荷量达到成为0或者接近0的电荷中和区域的所述直流电压的绝对值的步骤;和施加所述直流电压的绝对值直至达到所述电荷中和区域之后,使所述基片从所述静电吸盘脱离的步骤。本发明能够对基片的残留吸附进行充分的除电。

    除电方法和基片处理装置

    公开(公告)号:CN111863691A

    公开(公告)日:2020-10-30

    申请号:CN202010299562.6

    申请日:2020-04-16

    Abstract: 本发明提供一种除电方法和基片处理装置。除电方法包括:在静电吸盘上载置有基片的状态下向处理容器内导入气体的步骤;一边对所述静电吸盘的吸附电极施加直流电压一边增大该直流电压的绝对值,直至开始基于所述气体的放电的步骤;在基于所述气体的放电开始后,施加使所述基片的电荷量达到成为0或者接近0的电荷中和区域的所述直流电压的绝对值的步骤;和施加所述直流电压的绝对值直至达到所述电荷中和区域之后,使所述基片从所述静电吸盘脱离的步骤。本发明能够对基片的残留吸附进行充分的除电。

    测定方法和测定治具
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111381194A

    公开(公告)日:2020-07-07

    申请号:CN201911377536.4

    申请日:2019-12-27

    Abstract: 本发明提供一种测定静电吸盘的静电容量的测定方法和测定治具。所述测定方法包括以下工序:使端子与静电吸盘内的电极接触,所述静电吸盘与同地连接的基板接触;固定所述端子、所述静电吸盘和所述基板;利用与所述端子连接的电流计及电压计来测定电流值和电压值;以及基于测定出的所述电流值和所述电压值,根据所述电流值的斜率和/或所述电流值的峰值时的值来判定所述端子与所述电极之间的导通。

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