公开(公告)号：CN108428645B

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN201810150054.4

申请日：2018-02-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永井高志 ,  佐藤秀明 ,  北野淳一 ,  後藤堅司

IPC: H01L21/67

Abstract: 一种更精确地控制处理槽内的处理液的温度的基板液处理装置。基板液处理装置具备：处理槽(34)，其贮存处理液，并且通过将基板浸于所贮存的处理液中来进行基板的处理；循环线(50)，其与处理槽连接；泵(51)，其设置于循环线，用于形成从处理槽出来经过循环线后返回到处理槽的所述处理液的流动；以及加热器(52)，其设置于循环线，加热处理液。设置有设置于包括处理槽和循环线的循环系统内的彼此不同的位置的至少两个温度传感器(81、82、83)。控制器(90、100)基于这至少两个温度传感器的检测温度来控制加热器的发热量。

公开(公告)号：CN108428645A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201810150054.4

申请日：2018-02-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 永井高志 ,  佐藤秀明 ,  北野淳一 ,  後藤堅司

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67086 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253

Abstract: 一种更精确地控制处理槽内的处理液的温度的基板液处理装置。基板液处理装置具备：处理槽(34)，其贮存处理液，并且通过将基板浸于所贮存的处理液中来进行基板的处理；循环线(50)，其与处理槽连接；泵(51)，其设置于循环线，用于形成从处理槽出来经过循环线后返回到处理槽的所述处理液的流动；以及加热器(52)，其设置于循环线，加热处理液。设置有设置于包括处理槽和循环线的循环系统内的彼此不同的位置的至少两个温度传感器(81、82、83)。控制器(90、100)基于这至少两个温度传感器的检测温度来控制加热器的发热量。