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公开(公告)号：CN100337318C
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200380100525.2
申请日：2003-12-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 冈宽树
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67265 , Y10S414/138
Abstract: 检测装置(50)包括：具有一对臂(51A，51B)的传感器支持体(51)；具有分别配设在臂(51A，51B)的一个和另一个上的发光器(52A)和光接收器(52B)的组合的光传感器(52)。控制部(70)控制驱动部(56，57)，通过在将臂(51A，51B)插入盒子(C)内的状态，来移动传感器支持体(51)，进行由传感器(52)扫描基板(W)的扫描作业。扫描作业设定为，在多个扫描位置，光束(H)一边在垂直方向移动一边与基板(W)相互关联。运算部(70)基于扫描作业中从光传感器(52)得到的数据，计算盒子(C)内有无基板(W)和基板(W)的前端位置。
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公开(公告)号：CN116130391A
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN202211369377.5
申请日：2022-11-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明涉及基板输送装置和基板输送方法。提供一种能够抑制专用占地面积和重量的增加的基板输送装置。基板输送装置构成为具备：圆管，其管轴线横向延伸，在内部形成基板的输送区域；磁场形成部，其具备磁场形成面，该磁场形成面在面上形成磁场并且面对所述输送区域；以及输送体，其利用所述磁场自所述磁场形成面分开并且在该磁场形成面的面方向上移动，而输送所述基板。
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公开(公告)号：CN1692487A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200380100525.2
申请日：2003-12-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 冈宽树
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67265 , Y10S414/138
Abstract: 检测装置(50)包括：具有一对臂(51A，51B)的传感器支持体(51)；具有分别配设在臂(51A，51B)的一个和另一个上的发光器(52A)和光接收器(52B)的组合的光传感器(52)。控制部(70)控制驱动部(56，57)，通过在将臂(51A，51B)插入盒子(C)内的状态，来移动传感器支持体(51)，进行由传感器(52)扫描基板(W)的扫描作业。扫描作业设定为，在多个扫描位置，光束(H)一边在垂直方向移动一边与基板(W)相互关联。运算部(70)基于扫描作业中从光传感器(52)得到的数据，计算盒子(C)内有无基板(W)和基板(W)的前端位置。
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公开(公告)号：CN111081599B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201910993949.9
申请日：2019-10-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置和搬送位置校正方法，针对载置台高精度地搬送基板。基板处理装置具备：搬送机构，其具有保持基板的第一拾取器，用于搬送基板；检测机构，其检测由搬送机构搬送来的基板的位置；载置台，其设置于处理腔室内，用于载置基板；升降机构，其以相对于载置台进退自如的方式设置，用于使基板升降；以及控制装置，其控制搬送机构和升降机构。控制装置具备：调整部，其进行示教处理；检测部，其将基板从第一拾取器交接至载置台以及从载置台交接至第一拾取器，并利用检测机构来检测从载置台被交接至第一拾取器的基板的第一位置；以及校正部，其基于基板的第一位置与基准位置的偏移量来校正第一拾取器的位置。
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公开(公告)号：CN111081599A
公开(公告)日：2020-04-28
申请号：CN201910993949.9
申请日：2019-10-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 本发明涉及一种基板处理装置和搬送位置校正方法，针对载置台高精度地搬送基板。基板处理装置具备：搬送机构，其具有保持基板的第一拾取器，用于搬送基板；检测机构，其检测由搬送机构搬送来的基板的位置；载置台，其设置于处理腔室内，用于载置基板；升降机构，其以相对于载置台进退自如的方式设置，用于使基板升降；以及控制装置，其控制搬送机构和升降机构。控制装置具备：调整部，其进行示教处理；检测部，其将基板从第一拾取器交接至载置台以及从载置台交接至第一拾取器，并利用检测机构来检测从载置台被交接至第一拾取器的基板的第一位置；以及校正部，其基于基板的第一位置与基准位置的偏移量来校正第一拾取器的位置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100514557C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200710112597.9
申请日：2007-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种能够防止基板缺陷的中间搬送室。基板处理系统(1)包括：对晶片(W)实施等离子体处理的处理模块(2)、从前开式统集盒(5)中取出晶片(W)的大气系搬送装置(3)、和作为搬入搬出晶片(W)的中间搬送室的负载锁定模块(4)。负载锁定模块(4)包括：设置有移载臂(70)并且具有与移载臂(70)的拾取器(74)的晶片载置面的正上方相向而设的板状部件(90)的腔室(71)、向该腔室(71)内供给气体的气体供给系统(72)、和对腔室(71)内进行排气的LL/M排气系统(73)。
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公开(公告)号：CN101127302A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200710112597.9
申请日：2007-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/3065
Abstract: 本发明提供一种能够防止基板缺陷的中间搬送室。基板处理系统(1)包括：对晶片(W)实施等离子体处理的处理模块(2)、从前开式统集盒(5)中取出晶片(W)的大气系搬送装置(3)、和作为搬入搬出晶片(W)的中间搬送室的负载锁定模块(4)。负载锁定模块(4)包括：设置有移载臂(70)并且具有与移载臂(70)的拾取器(74)的晶片载置面的正上方相向而设的板状部件(90)的腔室(71)、向该腔室(71)内供给气体的气体供给系统(72)、和对腔室(71)内进行排气的LL/M排气系统(73)。
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