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公开(公告)号：CN1841204A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610066097.1
申请日：2006-03-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的外围曝光装置具有下列部件：XY支承台(2)，支承涂敷有抗蚀剂的印刷电路板(1)；支承XY支承台(2)的旋转工作台(3)；对印刷电路板(1)的外围进行曝光的外围曝光用光源(4)；保持外围曝光用光源(4)的滑动件(5)；检测外围曝光用光源(4)发射光强度的照度计(6)；向外围曝光用光源(4)提供驱动电流的直流电源(7)；以及控制外围曝光用光源(4)的温度的温度控制机构(8)。本发明的外围曝光装置在实现小型化、简单化的同时，能大幅度减小对曝光对象的不良影响，而且不会无谓地消耗电力，并且对曝光对象的外围区域进行曝光。
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公开(公告)号：CN1834789A
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN200610065501.3
申请日：2006-03-20
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106029288A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201580009197.8
申请日：2015-01-15
Applicant: 东丽工程株式会社
CPC classification number: B23K26/082 , B23K26/0846 , B23K26/355 , B23K26/361 , B23K2103/50
Abstract: 提供一种标印装置，能够同时实现加工精度的提高和作业时间的缩短。具体而言，标印装置(1)具有：作为第1标印部的第1激光加工部(3a、3b)，其按照第1点径对被加工物进行标印；作为第2标印部的第2激光加工部(5a、5b)，其按照点径比所述第1点径小的第2点径对所述被加工物进行标印；以及作为分割描绘图案登记部的装置PC(7)，其将描绘图案分割成由第1激光加工部(3a、3b)描绘的第1描绘图案和由第2激光加工部(5a、5b)描绘的第2描绘图案并进行登记。
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公开(公告)号：CN103358018B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201310098811.5
申请日：2013-03-26
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B23K26/064 , B23K26/067 , B23K26/00
Abstract: 本发明提供激光光轴校准方法和利用该方法的激光加工装置，从激光振荡器（1）输出的激光通过第一反射镜（3A）向第一方向反射，通过第二反射镜（7A）反射至第二方向，通过光束采样器（8）将激光分支为与焦点方向加工光不同方向的测量光（B），并将其通过光束分离器（12）分支，检测通过聚光透镜（13）聚焦在二维半导体位置检测器（14）平面上的测量光（B1）的焦点位置，并求出向垂直方向的光轴偏差，在二维半导体位置检测器（15）平面上检测测量光（B2），求出水平方向的测量光（B2）的光轴偏差，通过改变第二反射镜角度来调整角度偏差，然后根据水平方向偏差量使第一反射镜和第二反射镜向激光输出方向往复移动，由此调整光轴。
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公开(公告)号：CN103358018A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310098811.5
申请日：2013-03-26
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: B23K26/06 , B23K26/067 , B23K26/00
Abstract: 本发明提供激光光轴校准方法和利用该方法的激光加工装置，从激光振荡器（1）输出的激光通过第一反射镜（3A）向第一方向反射，通过第二反射镜（7A）反射至第二方向，通过光束采样器（8）将激光分支为与焦点方向加工光不同方向的测量光（B），并将其通过光束分离器（12）分支，检测通过聚光透镜（13）聚焦在二维半导体位置检测器（14）平面上的测量光（B1）的焦点位置，并求出向垂直方向的光轴偏差，在二维半导体位置检测器（15）平面上检测测量光（B2），求出水平方向的测量光（B2）的光轴偏差，通过改变第二反射镜角度来调整角度偏差，然后根据水平方向偏差量使第一反射镜和第二反射镜向激光输出方向往复移动，由此调整光轴。
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公开(公告)号：CN1841204B
公开(公告)日：2011-12-28
申请号：CN200610066097.1
申请日：2006-03-28
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明的外围曝光装置具有下列部件：XY支承台(2)，支承涂敷有抗蚀剂的印刷电路板(1)；支承XY支承台(2)的旋转工作台(3)；对印刷电路板(1)的外围进行曝光的外围曝光用光源(4)；保持外围曝光用光源(4)的滑动件(5)；检测外围曝光用光源(4)发射光强度的照度计(6)；向外围曝光用光源(4)提供驱动电流的直流电源(7)；以及控制外围曝光用光源(4)的温度的温度控制机构(8)。本发明的外围曝光装置在实现小型化、简单化的同时，能大幅度减小对曝光对象的不良影响，而且不会无谓地消耗电力，并且对曝光对象的外围区域进行曝光。
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公开(公告)号：CN100517076C
公开(公告)日：2009-07-22
申请号：CN200610065501.3
申请日：2006-03-20
Applicant: 东丽工程株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。
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