公开(公告)号：CN1834789A

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN200610065501.3

申请日：2006-03-20

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 谷川央树 ,  常吉豪 ,  田尾正则 ,  伊藤徹 ,  泉田信也

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。

公开(公告)号：CN100517076C

公开(公告)日：2009-07-22

申请号：CN200610065501.3

申请日：2006-03-20

Applicant: 东丽工程株式会社

Inventor： 谷川央树 ,  常吉豪 ,  田尾正则 ,  伊藤徹 ,  泉田信也

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种曝光装置和曝光方法，通过设置：光源装置(5)；放置基板K的平台(3)；可对平台以匀速度进行相对移动来设置，且在平台的上部，被配置成俯视图为对相对移动的方向(X)形成格外倾斜的列，被构成为用激光将由各DMD(72)形成的标记显示(72M)照射在基板上的多个曝光单元(7)；以及平台与曝光单元每相对移动从相邻的曝光单元中的一个曝光单元的曝光结束位置(P0)至另一曝光单元的曝光开始位置(P1)的距离(D1)，按照从最初通过基板上的曝光单元(7A)朝向最后通过基板上的曝光单元(7C)的顺序，转换各曝光单元照射在基板上的激光的转换装置(65、75)，以短节拍时间和低成本的装置构成实现品质优良的曝光像。