公开(公告)号：CN1428827A

公开(公告)日：2003-07-09

申请号：CN02158978.X

申请日：2002-12-27

Applicant: 不二越机械工业株式会社 ,  不二见株式会社

Inventor： 宫入广雄 ,  稻田安雄 ,  长谷川毅 ,  寺岛优二 ,  酒井健儿 ,  北村忠浩 ,  梅田刚宏

IPC: H01L21/3213 ,  H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  C23F1/14

CPC classification number: B24B37/30 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3212 ,  H05K3/26 ,  H05K3/383 ,  H05K3/4644 ,  H05K2203/025 ,  H05K2203/121

Abstract: 磨光一基底的铜层的方法能够提高磨削率等。该方法包括下列步骤：将一基底供应到在一磨光板上的一磨光垫的上，并使铜层面对磨光垫；借助一压头用一背垫将基底压到磨光垫上；相对于磨光板相对地转动压头，并将软膏供应到在磨光垫上。背垫是由Asker C硬度为75－95、压缩率为10％或更小的材料制成，磨光软膏包括用来螯合铜的螯合剂、用来蚀刻铜层表面的蚀刻剂、用来氧化铜层表面的氧化剂以及水。

公开(公告)号：CN1303655C

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN02158978.X

申请日：2002-12-27

Applicant: 不二越机械工业株式会社 ,  不二见株式会社

Inventor： 宫入广雄 ,  稻田安雄 ,  长谷川毅 ,  寺岛优二 ,  酒井健儿 ,  北村忠浩 ,  梅田刚宏

IPC: H01L21/3213 ,  H01L21/304 ,  C09K3/14 ,  C23F1/14

CPC classification number: B24B37/30 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3212 ,  H05K3/26 ,  H05K3/383 ,  H05K3/4644 ,  H05K2203/025 ,  H05K2203/121

Abstract: 磨光一基底的铜层的方法能够提高磨削率等。该方法包括下列步骤：将一基底供应到在一磨光板上的一磨光垫的上，并使铜层面对磨光垫；借助一压头用一背垫将基底压到磨光垫上；相对于磨光板相对地转动压头，并将软膏供应到在磨光垫上。背垫是由Asker C硬度为75-95、压缩率为10%或更小的材料制成，磨光软膏包括用来螯合铜的螯合剂、用来蚀刻铜层表面的蚀刻剂、用来氧化铜层表面的氧化剂以及水。

公开(公告)号：CN1245466C

公开(公告)日：2006-03-15

申请号：CN02127360.X

申请日：2002-07-23

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 酒井谦儿 ,  玉井一诚 ,  北村忠浩 ,  松田刚 ,  伊奈克芳

IPC: C09G1/02

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C23F3/06

Abstract: 一种抛光组合物，它包含：(a)至少一种选自二氧化硅和氧化铝的研磨剂；(b)至少一种有机化合物，它选自聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、聚氧乙烯烷基醚、聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和由式(1)表示的具有C≡C三键的聚氧化烯加聚物：其中R1-R6各是H或C1-10烷基，X和Y各是乙烯氧基或丙烯氧基，m和n各是1-20的正整数；(c)至少一种选自柠檬酸、草酸、酒石酸、甘氨酸、α-丙氨酸和组氨酸的加速抛光的化合物；(d)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂；(e)过氧化氢；以及(f)水。

公开(公告)号：CN1340583A

公开(公告)日：2002-03-20

申请号：CN01122298.0

申请日：2001-08-22

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 酒井谦儿 ,  浅野宏 ,  北村忠浩 ,  伊奈克芳

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C23F3/06

Abstract: 一种抛光组合物,它含有:(a)研磨剂;(b)与铜离子形成鳌合物的化合物;(c)向铜层提供形成保护层作用的化合物;(d)过氧化氢;(e)水;其中所述的组分(a)研磨剂的原生颗粒粒度为50－120纳米。

公开(公告)号：CN1216112C

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN01122298.0

申请日：2001-08-22

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 酒井谦儿 ,  浅野宏 ,  北村忠浩 ,  伊奈克芳

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C23F3/06

Abstract: 一种抛光组合物，它含有：(a)研磨剂；(b)与铜离子形成螯合物的化合物；(c)向铜层提供形成保护层作用的化合物；(d)过氧化氢；(e)水；其中所述的组分(a)研磨剂的原生颗粒粒度为50-120纳米。

公开(公告)号：CN1398939A

公开(公告)日：2003-02-26

申请号：CN02127360.X

申请日：2002-07-23

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 酒井谦儿 ,  玉井一诚 ,  北村忠浩 ,  松田刚 ,  伊奈克芳

IPC: C09G1/02

CPC classification number: H01L21/3212 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C23F3/06

Abstract: 一种抛光组合物，它包含：(a)至少一种选自二氧化硅和氧化铝的研磨剂；(b)至少一种有机化合物，它选自聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、聚氧乙烯烷基醚、聚氧丙烯烷基醚、聚氧乙烯聚氧丙烯烷基醚和由式(1)表示的具有C≡C三键的聚氧化烯加聚物：其中R1－R6各是H或C1－10烷基，X和Y各是乙烯氧基或丙烯氧基，m和n各是1－20的正整数；(c)至少一种选自柠檬酸、草酸、酒石酸、甘氨酸、α－丙氨酸和组氨酸的加速抛光的化合物；(d)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂；(e)过氧化氢；以及(f)水。