公开(公告)号：CN1369530A

公开(公告)日：2002-09-18

申请号：CN02103380.3

申请日：2002-01-31

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 浅野宏 ,  酒井谦儿 ,  伊奈克芳

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09G1/02 ,  H01L21/3212

Abstract: 一种抛光组合物,它含有下述组分(a)－(g):(a)至少一种选自二氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化锆和氧化钛的磨料;(b)脂族羧酸;(c)至少一种选自铵盐、碱金属盐、碱土金属盐、有机胺化合物和季铵盐的碱性化合物;(d)至少一种选自柠檬酸、乙二酸、酒石酸、甘氨酸、α－丙氨酸和组氨酸的促进抛光的化合物;(e)至少一种选自苯并三唑、苯并咪唑、三唑、咪唑和甲苯三唑的防腐蚀剂;(f)过氧化氢和(g)水。

公开(公告)号：CN1340583A

公开(公告)日：2002-03-20

申请号：CN01122298.0

申请日：2001-08-22

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 酒井谦儿 ,  浅野宏 ,  北村忠浩 ,  伊奈克芳

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C23F3/06

Abstract: 一种抛光组合物,它含有:(a)研磨剂;(b)与铜离子形成鳌合物的化合物;(c)向铜层提供形成保护层作用的化合物;(d)过氧化氢;(e)水;其中所述的组分(a)研磨剂的原生颗粒粒度为50－120纳米。

公开(公告)号：CN1216112C

公开(公告)日：2005-08-24

申请号：CN01122298.0

申请日：2001-08-22

Applicant: 不二见株式会社

Inventor： 酒井谦儿 ,  浅野宏 ,  北村忠浩 ,  伊奈克芳

IPC: C09G1/02

CPC classification number: C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  C23F3/06

Abstract: 一种抛光组合物，它含有：(a)研磨剂；(b)与铜离子形成螯合物的化合物；(c)向铜层提供形成保护层作用的化合物；(d)过氧化氢；(e)水；其中所述的组分(a)研磨剂的原生颗粒粒度为50-120纳米。