公开(公告)号：CN106893984B

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201710064299.0

申请日：2017-02-04

Applicant: 上海理工大学

Inventor： 洪瑞金 ,  魏文左 ,  王琳 ,  邵文 ,  姚佳 ,  陶春先 ,  张大伟

IPC: C23C14/30 ,  C23C14/08 ,  C23C14/18 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明涉及一种增强可见光波段透射的掺锡氧化铟基复合薄膜的制备方法，分别采用电子束蒸发法、直流反应磁控溅射法沉积ITO、Au薄膜，获得ITO/Au/ITO复合结构薄膜。然后将样品进行电子束辐照改性，即可得到所述具有可见光波段透射增强特性的ITO/Au/ITO复合薄膜。本发明可通过控制电子束功率大小及辐照时间控制其可见光透过率，操作方法及流程简单，可重复性高且可控性强。

公开(公告)号：CN106893984A

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：CN201710064299.0

申请日：2017-02-04

Applicant: 上海理工大学

Inventor： 洪瑞金 ,  魏文左 ,  王琳 ,  邵文 ,  姚佳 ,  陶春先 ,  张大伟

IPC: C23C14/30 ,  C23C14/08 ,  C23C14/18 ,  C23C14/35

CPC classification number: C23C14/30 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/086 ,  C23C14/185 ,  C23C14/35

Abstract: 本发明涉及一种增强可见光波段透射的掺锡氧化铟基复合薄膜的制备方法，分别采用电子束蒸发法、直流反应磁控溅射法沉积ITO、Au薄膜，获得ITO/Au/ITO复合结构薄膜。然后将样品进行电子束辐照改性，即可得到所述具有可见光波段透射增强特性的ITO/Au/ITO复合薄膜。本发明可通过控制电子束功率大小及辐照时间控制其可见光透过率，操作方法及流程简单，可重复性高且可控性强。