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公开(公告)号：CN106933039A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201511021935.9
申请日：2015-12-30
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开了硅片边缘保护装置及方法，该硅片边缘保护装置包括光学保护环、与所述光学保护环连接的驱动机构以及与所述驱动机构连接的控制器，所述光学保护环设于照明系统的光源之后、掩模板之前，所述光学保护环的中部设有圆形通孔，且边缘不透光。通过在照明系统的光源之后、掩模板之前设置光学保护环，并设置控制器和驱动机构，可根据硅片上曝光场的位置，带动光学保护环移动对硅片边缘进行遮光保护，光学保护环可以根据所曝光硅片的尺寸及位置进行设置，以适应不同硅片的边缘保护要求，应用适应性强，成本低廉，效果可靠，结构简单、使用方便，且不会影响曝光效果，切实满足了接近式逐场曝光装置的应用需求。
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公开(公告)号：CN102841506B
公开(公告)日：2014-11-12
申请号：CN201110168714.X
申请日：2011-06-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种激光干涉仪测量系统及其测量方法，激光器发出激光；直角长条反射镜安装在载物台侧面，其两个反射面与载物台水平面成45°，激光沿水平方向入射直角长条反射镜，经过两个反射面反射后形成测量光；折射薄膜覆盖探测器，折射薄膜的上表面与水平面成45°，测量光的第一部分以45°入射角入射到折射薄膜表面形成第一相干光；测量光的第二部分通过镜组模块的至少一次反射后，以45°入射角入射到折射薄膜表面形成第二相干光，第一相干光与第二相干光在折射薄膜上位置相同，经过折射薄膜折射后发生干涉形成干涉条纹，被探测器探测；根据干涉条纹的频率计算载物台的垂向运动速率，获得垂向位移。本系统及方法布局简单，不挡住镜头的成像光线。
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公开(公告)号：CN103453847A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201210181490.0
申请日：2012-06-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于运动台误差定位误差校准的方法，其特征在于，包括：步骤一：利用干涉仪于第一起始位置以一定步长测量所述运动台的反射镜面的面形，获得第一组面形数据，所述步长为所述干涉仪的间距；步骤二：重复执行步骤一，每次起始位置与前一次起始位置的间距大于零且小于所述步长，获得多组面形数据，得到所述运动台的反射镜面的完整面形数据，计算面形误差；步骤三、结合所述面形误差，采用插值处理所述完整面形数据获得一面形残差；步骤四、对所述面形残差进行滤波获得一最终面形数据；步骤五、利用所述最终面形数据，在运动台控制系统进行伺服控制时，提前补偿反射镜面型数据。
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公开(公告)号：CN102445279B
公开(公告)日：2013-11-13
申请号：CN201010507220.5
申请日：2010-10-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明公开了一种测量工件台干涉仪波长的装置，包括：分别位于该工件台相对两侧的第一、第二干涉仪，该第一、第二干涉仪发出的第一、第二测量光束组成一波长测量轴，以及计算模块，用以计算该波长测量轴的理论长度、实际长度以及计算该第一、第二测量光束的实际波长，进而通过本发明之第一、第二干涉仪及计算模块实现对干涉仪测量光束的波长进行实时计算。本发明同时还公开了一种测量工件台干涉仪波长的方法。
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公开(公告)号：CN102445279A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201010507220.5
申请日：2010-10-14
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明公开了一种测量工件台干涉仪波长的装置，包括：分别位于该工件台相对两侧的第一、第二干涉仪，该第一、第二干涉仪发出的第一、第二测量光束组成一波长测量轴，以及计算模块，用以计算该波长测量轴的理论长度、实际长度以及计算该第一、第二测量光束的实际波长，进而通过本发明之第一、第二干涉仪及计算模块实现对干涉仪测量光束的波长进行实时计算。本发明同时还公开了一种测量工件台干涉仪波长的方法。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103453847B
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：CN201210181490.0
申请日：2012-06-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 本发明公开一种用于运动台误差校准的方法，其特征在于，包括：步骤一：利用干涉仪于第一起始位置以一定步长测量所述运动台的反射镜面的面形，获得第一组面形数据，所述步长为所述干涉仪两轴的间距；步骤二：重复执行步骤一，每次起始位置与前一次起始位置的间距大于零且小于所述步长，获得多组面形数据，共同组合得到所述运动台的反射镜面的完整面形数据；步骤三、采用插值处理所述完整面形数据，将插值后的面形结果与所述完整面形数据相减得到面形残差；步骤四、对所述面形残差进行滤波获得一最终面形数据；步骤五、利用所述最终面形数据，在运动台控制系统进行伺服控制时，提前补偿反射镜面型数据。
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公开(公告)号：CN105372941A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410429450.2
申请日：2014-08-28
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机，其特征在于：包括框架以及设置在所述框架上的曝光光源模块、掩膜台模块、镜筒及物镜模块、基板曝光载台模块、预对准台模块、机械手模块和边缘曝光模块；所述基板曝光载台模块和预对准台模块并排间隔放置；所述镜筒及物镜模块位于所述基板曝光载台上方；所述掩膜台模块位于所述镜筒及物镜模块的上方；所述曝光光源模块设置在所述掩膜台模块上方；所述边缘曝光模块位于所述预对准台模块的上方；所述边缘曝光模块包括边缘曝光光源、光学镜组及调整装置；在玻璃基板预对准的同时，边缘曝光模块对基板进行边缘曝光。
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公开(公告)号：CN103454862A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201210181489.8
申请日：2012-06-05
Applicant: 上海微电子装备有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法，其特征在于，包括：步骤一、设置旋转台的旋转角度为零，并与水平向运动台保持固定的位置关系，在硅片上套刻曝光，读取曝光标记偏差，计算各曝光场的旋转角度；步骤二、根据所述各曝光场的旋转角度，拟合由所述运动轨道扭转引入的旋转角度；步骤三、使所述工件台先后沿第一方向和与第一方向垂直的第二方向运动，测量工件台的旋转角度；步骤四、根据所述工件台的旋转角度，拟合获得由缩放效应引入的旋转角度；步骤五、根据所述工件台的旋转角度、所述运动轨道扭转引入的旋转角度与缩放效应引起的旋转角度，计算方镜面形引起的旋转角度，获得一补偿后的方镜形貌。
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公开(公告)号：CN102841506A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201110168714.X
申请日：2011-06-22
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Abstract: 一种激光干涉仪测量系统及其测量方法，激光器发出激光；直角长条反射镜安装在载物台侧面，其两个反射面与载物台水平面成45°，激光沿水平方向入射直角长条反射镜，经过两个反射面反射后形成测量光；折射薄膜覆盖探测器，折射薄膜的上表面与水平面成45°，测量光的第一部分以45°入射角入射到折射薄膜表面形成第一相干光；测量光的第二部分通过镜组模块的至少一次反射后，以45°入射角入射到折射薄膜表面形成第二相干光，第一相干光与第二相干光在折射薄膜上位置相同，经过折射薄膜折射后发生干涉形成干涉条纹，被探测器探测；根据干涉条纹的频率计算载物台的垂向运动速率，获得垂向位移。本系统及方法布局简单，不挡住镜头的成像光线。
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公开(公告)号：CN101510058A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910047581.3
申请日：2009-03-13
Applicant: 上海微电子装备有限公司
Inventor： 林彬
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提出一种工件台位置水平误差测量及校正方法，包括下列步骤：光刻机系统在硅片上曝光多个场的标记，每个场中分别包含将工件台设置成不同的旋转或者倾斜角度的情况曝光得到的标记；读取标记在硅片上的位置；计算工件台带有一定旋转或者倾斜角度与旋转倾斜角度均为零的情况下曝光得到的标记位置偏差；以及依据标记位置偏差获得计算得到至少一个用于校正干涉仪误差的参数，从而对工件台位置的测量结果进行有效的校正。本发明可以有效测量出由旋转或者倾斜等不同组合情况下引入的误差，与传统技术相比，精度更高。
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