非均厚镀层的连铸结晶器铜板电镀方法

    公开(公告)号:CN101845648A

    公开(公告)日:2010-09-29

    申请号:CN200910048094.9

    申请日:2009-03-24

    Abstract: 本发明公开了一种非均厚镀层的连铸结晶器铜板电镀方法,首先对铜板进行全面积电镀,当铜板的上部区域较薄镀层达到产品尺寸要求后,通过电镀槽中的液位传感器和PLC系统连续精确调控排液阀开度,将镀槽内液位高度按工艺要求向下降低,使铜板与镀液液位发生相对位移,液位向铜板下边缘移动,使得已经达到尺寸要求的镀层与镀液分离,不再进行电镀,只继续对下面厚镀层区域进行电镀,以增加厚度。在上述降液面过程的同时,根据电镀工艺要求,通过PLC控制系统相应调整电镀电流。本发明可以实现结晶器铜板镀层不是均厚镀层,而是宽度方向上,自上而下厚度逐渐增加这一特性,与原有的电镀方法相比,镀层材料和电能的消耗显著减小。

    连铸结晶器铜板非均厚镀层的仿形电镀方法

    公开(公告)号:CN101845649B

    公开(公告)日:2011-07-20

    申请号:CN200910048096.8

    申请日:2009-03-24

    Abstract: 本发明公开了一种连铸结晶器铜板非均厚镀层的仿形电镀方法,首先对铜板进行全面积电镀,当铜板的上部区域较薄镀层达到产品尺寸要求后,通过PLC系统控制伺服电极连接的升降装置,将铜板按一定速率向上提升,使铜板与镀液液位发生相对位移,液位向铜板下边缘移动,使得已经达到尺寸要求的镀层与镀液分离,不再进行电镀,只继续对铜板下面厚镀层区域进行电镀,并按要求增加镀层厚度。在上述提升铜板过程的同时,根据电镀工艺要求,通过PLC控制系统相应调整电镀电流。本发明可以实现结晶器铜板镀层不是均厚镀层,而是宽度方向上,自上而下厚度逐渐增加这一特性,与原有的电镀方法相比,镀层材料和电能的消耗显著减小。

    连铸结晶器铜板非均厚镀层的仿形电镀方法

    公开(公告)号:CN101845649A

    公开(公告)日:2010-09-29

    申请号:CN200910048096.8

    申请日:2009-03-24

    Abstract: 本发明公开了一种连铸结晶器铜板非均厚镀层的仿形电镀方法,首先对铜板进行全面积电镀,当铜板的上部区域较薄镀层达到产品尺寸要求后,通过PLC系统控制伺服电极连接的升降装置,将铜板按一定速率向上提升,使铜板与镀液液位发生相对位移,液位向铜板下边缘移动,使得已经达到尺寸要求的镀层与镀液分离,不再进行电镀,只继续对铜板下面厚镀层区域进行电镀,并按要求增加镀层厚度。在上述提升铜板过程的同时,根据电镀工艺要求,通过PLC控制系统相应调整电镀电流。本发明可以实现结晶器铜板镀层不是均厚镀层,而是宽度方向上,自上而下厚度逐渐增加这一特性,与原有的电镀方法相比,镀层材料和电能的消耗显著减小。

    结晶器铜板仿形电镀的方法

    公开(公告)号:CN103184490B

    公开(公告)日:2015-06-24

    申请号:CN201110442951.0

    申请日:2011-12-27

    Inventor: 张俊杰

    Abstract: 本发明公开了一种结晶器铜板仿形电镀的方法,浸入镀液的铜板采用伺服控制系统实施升降,铜板划分为n段实施电镀作业,伺服控制系统按 驱动铜板位移,电镀电流按设定,电镀电量按控制,电镀过程中,实际电镀电流小于设定电镀电流时,伺服控制系统停止驱动铜板提升,直至实际电镀电流等于或大于设定电镀电流;铜板在第一段电镀时,伺服控制系统驱动铜板位移的控制方式为无级恒速,铜板在其他各段电镀时,伺服控制系统驱动铜板位移的控制方式为分段无级恒速;当铜板移动速度为零时,该段铜板移动到静止位置,得到该段的镀层平面。本方法可得到铜板的仿形涂层,提高铜板电镀效率,节约电镀材料,降低电镀能耗,利于铜板后续工序实施。

    非均厚镀层的连铸结晶器铜板电镀方法

    公开(公告)号:CN101845648B

    公开(公告)日:2011-05-25

    申请号:CN200910048094.9

    申请日:2009-03-24

    Abstract: 本发明公开了一种非均厚镀层的连铸结晶器铜板电镀方法,首先对铜板进行全面积电镀,当铜板的上部区域较薄镀层达到产品尺寸要求后,通过电镀槽中的液位传感器和PLC系统连续精确调控排液阀开度,将镀槽内液位高度按工艺要求向下降低,使铜板与镀液液位发生相对位移,液位向铜板下边缘移动,使得已经达到尺寸要求的镀层与镀液分离,不再进行电镀,只继续对下面厚镀层区域进行电镀,以增加厚度。在上述降液面过程的同时,根据电镀工艺要求,通过PLC控制系统相应调整电镀电流。本发明可以实现结晶器铜板镀层不是均厚镀层,而是宽度方向上,自上而下厚度逐渐增加这一特性,与原有的电镀方法相比,镀层材料和电能的消耗显著减小。

    结晶器铜板仿形电镀的方法

    公开(公告)号:CN103184490A

    公开(公告)日:2013-07-03

    申请号:CN201110442951.0

    申请日:2011-12-27

    Inventor: 张俊杰

    Abstract: 本发明公开了一种结晶器铜板仿形电镀的方法,浸入镀液的铜板采用伺服控制系统实施升降,铜板划分为n段实施电镀作业,伺服控制系统按驱动铜板位移,电镀电流按设定,电镀电量按控制,电镀过程中,实际电镀电流小于设定电镀电流时,伺服控制系统停止驱动铜板提升,直至实际电镀电流等于或大于设定电镀电流;铜板在第一段电镀时,伺服控制系统驱动铜板位移的控制方式为无级恒速,铜板在其他各段电镀时,伺服控制系统驱动铜板位移的控制方式为分段无级恒速;当铜板移动速度为零时,该段铜板移动到静止位置,得到该段的镀层平面。本方法可得到铜板的仿形涂层,提高铜板电镀效率,节约电镀材料,降低电镀能耗,利于铜板后续工序实施。

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