多晶碘化汞探测器金钯材料电极制备方法

    公开(公告)号:CN102956750A

    公开(公告)日:2013-03-06

    申请号:CN201210472790.4

    申请日:2012-11-21

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种多晶碘化汞探测器金钯材料电极制备方法,具体步骤如下:a.多晶碘化汞厚膜的生长,b.多晶碘化汞厚膜表面的处理,c.电极材料的制备,d.电极的热蒸发制备工艺。本发明工艺简单,易于操作,电极掩模板图形可变,可大面积探测器电极的制备。通过本电极制备方法制得的多晶碘化汞厚膜探测器具有漏电流小,探测效率高,X射线像素明显等优点。

    基于多晶碘化汞薄膜的X射线探测器的制备

    公开(公告)号:CN103268904A

    公开(公告)日:2013-08-28

    申请号:CN201310181487.3

    申请日:2013-05-16

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及利用超声辅助物理气相沉积技术,生长多晶碘化汞薄膜,并在薄膜上制备了X射线探测器方法,属于以半导体材料制备的射线成像探测器技术领域。该发明解决了制作碘化汞薄膜技术,与射线探测器制备工艺问题。此技术以经多次提纯后的碘化汞为原材料,采用物理气相沉积方法,制作了多晶碘化汞,并对其隔离大气,配置电极,又对薄膜器件进行有效封装,获得质佳的射线探测器。薄膜及制作的探测器经XRD、SEM、I-V等特性分析,表明气相沉积法可制得沿 晶向,柱状生长的多晶碘化汞薄膜,且获甚佳晶粒完整性及均匀性,探测器与金有良好的欧姆接触。本发明适用于对X射线及Gama射线等的检测,有潜在的实际应用价值。

    X射线成像多晶碘化汞探测器的制备方法

    公开(公告)号:CN102881764A

    公开(公告)日:2013-01-16

    申请号:CN201210332308.7

    申请日:2012-09-11

    Applicant: 上海大学

    CPC classification number: Y02P70/521

    Abstract: 本发明涉及一种X射线成像多晶碘化汞探测器的制备方法,主要是先通过物理气相沉积法生长多晶碘化汞厚膜,最后再经过电极的制备及探测器封装等步骤,属于半导体探测器制备工艺技术领域。通过本方法制得的多晶碘化汞厚膜探测器具有漏电流小,探测效率高,X射线像素明显等优点。通过I-V特性测试表明金电极与多晶碘化汞厚膜均形成良好的欧姆接触。同时对制备的探测器进行了电容频率和能谱响应特性等测试。结果表明所制得的探测器的信噪比可达到2,显示出了良好的信号噪声分辨率;所制备的多晶碘化汞厚膜探测器的电容都比较小;在室温下对5.9keV的55FeX射线、有较好的计数响应,并获得最佳的能量分辨率分别为4%。

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