热敏电阻的制造方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113454736B

    公开(公告)日:2023-02-17

    申请号:CN202080014946.7

    申请日:2020-01-31

    Abstract: 本发明涉及一种热敏电阻的制造方法,具有:基底电极层形成工序(S01),在由热敏电阻材料构成的热敏电阻晶片的两面形成基底电极层;芯片化工序(S02),将所述热敏电阻晶片切断以实现芯片化,获得带基底电极层的热敏电阻芯片;保护膜形成工序(S04),在所述带基底电极层的热敏电阻芯片的整个面形成由氧化物构成的保护膜;覆盖电极层形成工序(S05),在所述带基底电极层的热敏电阻芯片的端面涂布导电性浆料进行烧成而形成覆盖电极层;及导通热处理工序(S06),进行热处理以使所述基底电极层与所述覆盖电极层电导通,所述热敏电阻的制造方法形成具有所述基底电极层和所述覆盖电极层的所述电极部。

    带抗反射膜的玻璃基材
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103130420B

    公开(公告)日:2017-08-01

    申请号:CN201210359416.3

    申请日:2012-09-24

    CPC classification number: Y02E10/549

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种带抗反射膜的玻璃基材,将含有Na、Ca的钠钙玻璃等通用玻璃用作高耐久性带抗反射膜的玻璃基材。即,本发明的目的在于提供一种通过提供抗反射功能来增加入射光的透射量,并且抑制在高温高湿下玻璃基材中的Na或Ca向抗反射膜表面扩散,从而抑制抗反射膜的白浊的带抗反射膜的玻璃基材。本发明的带抗反射膜的玻璃基材(1),为在表面具备抗反射膜(3)的玻璃基材(2),其特征在于,玻璃基材(2)含有至少1种选自Na及Ca中的碱金属;抗反射膜(3)含有SiO2且折射率为1.35~1.50;并且在玻璃基材(2)表面与抗反射膜(3)的界面具备含有1~12原子%的P的扩散抑制膜(4)。

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