公开(公告)号：CN101065518A

公开(公告)日：2007-10-31

申请号：CN200580037375.4

申请日：2005-10-21

Applicant: 三菱化学株式会社 ,  夏普株式会社

Inventor： 榊原利明 ,  河瀬康弘 ,  水谷文一 ,  石川诚 ,  铃木芳英 ,  泽井敬一

IPC: C25D3/48

CPC classification number: C25D17/10 ,  C25D3/48

Abstract: 本发明提供镀金液和镀金方法。所述镀金液具有与氰类镀金液相当的性能，并且毒性低而稳定。所述镀金液含有碘和/或碘离子、金离子以及具有至少4个碳原子的多元醇。具有至少4个碳原子的多元醇可以是二乙二醇或者三乙二醇。在该镀金液中，具有至少4个碳原子的多元醇的含量一般为10重量％～90重量％。该镀金液可以包含水。

公开(公告)号：CN101198726A

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN200680021492.6

申请日：2006-05-09

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  三菱化学株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  白井泰雪 ,  森永均 ,  河濑康弘 ,  北野真史 ,  水谷文一 ,  石川诚

IPC: C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  C25D11/18 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C25D11/06 ,  C25D11/18 ,  Y10T428/265

Abstract: 提供一种适用于保护以铝为主成分的金属的金属氧化物膜。是由以铝为主成分的金属的氧化物构成的膜，膜厚为10nm以上，从所述膜放出的水分量为1E18分子/cm2以下。还提供一种金属氧化物膜的制造方法，在pH4～10的化成液中，对以铝为主成分的金属进行阳极氧化而获得金属氧化物膜。

公开(公告)号：CN101035931A

公开(公告)日：2007-09-12

申请号：CN200580033894.3

申请日：2005-09-29

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 水谷文一 ,  榊原利明 ,  河瀬康弘 ,  石川诚

IPC: C25D11/06

Abstract: 本发明提供电解质溶液及用其形成氧化物膜的方法、层叠体及其制造方法和金属氧化物膜。在主要成分为金属的待处理材料的表面上，通过阳极氧化形成不具有细孔和粗糙表面的光洁的高品质氧化物膜。所述电解质溶液用于通过阳极氧化在主要成分为金属的待处理材料表面上形成氧化物膜，所述电解质溶液含有作为主要溶剂的非水性溶剂，所述非水性溶剂含有醇羟基并具有大于或等于4个碳原子。所述非水性溶剂优选含有两个以上醇羟基，并特别优选是选自由二乙二醇、三乙二醇和聚乙二醇组成的组中的一种或两种以上溶剂。所述方法包括在所述电解质溶液中阳极氧化主要成分为金属的待处理材料的步骤。

公开(公告)号：CN101218376A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200680020909.7

申请日：2006-06-16

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  三菱化学株式会社 ,  日本陶瓷科技股份有限公司

Inventor： 大见忠弘 ,  白井泰雪 ,  森永均 ,  河濑康弘 ,  北野真史 ,  水谷文一 ,  石川诚 ,  岸幸男

IPC: C23C28/00 ,  C23C8/10 ,  C25D11/08 ,  C25D11/10 ,  C25D11/16 ,  C25D11/18 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C23C4/02 ,  C23C8/80 ,  C23C28/00 ,  C23C28/042 ,  C25D11/02 ,  C25D11/04 ,  C25D11/08 ,  C25D11/10 ,  C25D11/16 ,  C25D11/18 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/265 ,  Y10T428/31678

Abstract: 提供一种使抑制反应生成物堆积到半导体或平板显示器制造装置等的处理室内壁等上、因内壁等的腐蚀造成的金属污染、放出气体造成的工艺不稳定性等多个工艺成为可能的多功能制造装置系统及用于该系统的保护皮膜构造。在金属材料的表面上具有作为基底层的第1皮膜层，再形成200μm左右的第2皮膜层，该第1皮膜层具有通过母材的直接氧化形成的1μm以下膜厚的氧化物皮膜。通过该构成，可以使第2层的保护膜对离子和自由基具有耐蚀性，使第1层的氧化物皮膜起到防止因分子和离子扩散到第2层保护膜中使母材金属表面受到腐蚀的保护层的效果，降低各金属构件、工艺腔内表面对基板造成的金属污染。可以抑制因母材和第2层的保护膜界面的腐蚀造成的第2层保护膜密着力下降而导致的第2层保护膜的剥离。

公开(公告)号：CN101198726B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200680021492.6

申请日：2006-05-09

Applicant: 国立大学法人东北大学 ,  三菱化学株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  白井泰雪 ,  森永均 ,  河濑康弘 ,  北野真史 ,  水谷文一 ,  石川诚

IPC: C25D11/04 ,  C25D11/06 ,  C25D11/18 ,  H01L21/3065

CPC classification number: C25D11/06 ,  C25D11/18 ,  Y10T428/265

Abstract: 提供一种适用于保护以铝为主成分的金属的金属氧化物膜。是由以铝为主成分的金属的氧化物构成的膜，膜厚为10nm以上，从所述膜放出的水分量为1E18分子/cm2以下。还提供一种金属氧化物膜的制造方法，在pH4～10的化成液中，对以铝为主成分的金属进行阳极氧化而获得金属氧化物膜。

公开(公告)号：CN100412236C

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN03805877.4

申请日：2003-03-11

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 水谷文一 ,  鹰羽宽 ,  石川诚 ,  河濑康弘

IPC: C25D3/48

CPC classification number: C25D3/48

Abstract: 本发明提供具有与氰类镀金液相当的性能的同时毒性小、并且稳定的镀金液。该镀金液的特征为，其含有碘离子、碘化金络合离子及非水溶剂。

公开(公告)号：CN1643185A

公开(公告)日：2005-07-20

申请号：CN03805877.4

申请日：2003-03-11

Applicant: 三菱化学株式会社

Inventor： 水谷文一 ,  鹰羽宽 ,  石川诚 ,  河濑康弘

IPC: C25D3/48

CPC classification number: C25D3/48

Abstract: 本发明提供具有与氰类镀金液相当的性能的同时毒性小、并且稳定的镀金液。该镀金液的特征为，其含有碘离子、碘化金络合离子及非水溶剂。