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公开(公告)号：CN100352535C
公开(公告)日：2007-12-05
申请号：CN200410076634.1
申请日：2004-04-25
Applicant: 三洋水能源科技株式会社 , 三洋电机株式会社
CPC classification number: B01D37/02 , B01D29/114 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/66 , B01D61/147 , B01D61/20 , B01D63/08 , B01D65/003 , B01D65/02 , B01D2321/04 , B01D2321/185
Abstract: 本发明提供一种在使用膜状过滤器部进行过滤的过滤装置中，可维持过滤性能，且维修管理容易的过滤装置。其通过设置除去在过滤膜的表面形成的被除去物构成的堆积层用的气泡供给装置和通过贮存在剥离用水罐中的过滤水逆流由被除去物堵塞的过滤膜而恢复过滤机能的机构来保持过滤性能。而且通过把原水罐内下部形成锥形形状并通过阀设置回收罐，而提高了沉淀的被除去物的回收率，因此使过滤装置的维修和管理更加容易。
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公开(公告)号：CN1689684A
公开(公告)日：2005-11-02
申请号：CN200510059546.5
申请日：2005-03-29
Applicant: 三洋电机株式会社 , 三洋水能源科技株式会社
IPC: B01D37/00 , F26B5/06 , C04B35/622 , B24B57/02 , H01L21/304
Abstract: 一种粉末制造装置，其由：处理CMP废水的过滤装置10和把通过过滤装置10浓缩至高浓度的淤浆加以干燥的真空冷冻干燥装置20构成，在过滤装置10中，在孔径0.25μm的过滤膜表面上至少设置1块或1块以上形成了凝胶层的凝胶过滤膜的膜组件12。另外，通过泵14从膜组件12的凝胶过滤膜内抽吸废水。把从过滤装置10得到的高浓度淤浆直接供给各种用途，或通过传送泵16传送至真空冷冻干燥装置20进行干燥，得到粉末。
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公开(公告)号：CN1602991A
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN200410076634.1
申请日：2004-04-25
Applicant: 三洋水能源科技株式会社 , 三洋电机株式会社
CPC classification number: B01D37/02 , B01D29/114 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/66 , B01D61/147 , B01D61/20 , B01D63/08 , B01D65/003 , B01D65/02 , B01D2321/04 , B01D2321/185
Abstract: 本发明提供一种在使用膜状过滤器部进行过滤的过滤装置中，可维持过滤性能，且维修管理容易的过滤装置。其通过设置除去在过滤膜的表面形成的被除去物构成的堆积层用的气泡供给装置和通过贮存在剥离用水罐中的过滤水逆流由被除去物堵塞的过滤膜而恢复过滤机能的机构来保持过滤性能。而且通过把原水罐内下部形成锥形形状并通过阀设置回收罐，而提高了沉淀的被除去物的回收率，因此使过滤装置的维修和管理更加容易。
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公开(公告)号：CN1272086C
公开(公告)日：2006-08-30
申请号：CN02147952.6
申请日：2002-10-31
Applicant: 三洋水能源科技株式会社 , 三洋电机株式会社
Abstract: 一种过滤装置，在以往的CMP等机械加工所产生的排水，由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液，而没有有效的过滤方法。本发明的过滤装置是把含有胶体溶液微小颗粒的排水导入罐50，使排水循环通过在第1过滤器1表面吸引所形成凝胶膜的第2过滤器2过滤的过滤装置。此时吸引压力极微弱，即延迟第2过滤器2堵塞又维持过滤能力。还有利用吸引停止能够容易脱离第1过滤器1表面吸附的第2过滤器2凝胶膜，实现可以持续再过滤的过滤装置。
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公开(公告)号：CN1416935A
公开(公告)日：2003-05-14
申请号：CN02147952.6
申请日：2002-10-31
Applicant: 三洋水能源科技株式会社 , 三洋电机株式会社
IPC: B01D36/00
Abstract: 一种过滤装置，在以往的CMP等机械加工所产生的排水，由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液，而没有有效的过滤方法。本发明的过滤装置是把含有胶体溶液微小颗粒的排水导入罐50，使排水循环通过在第1过滤器1表面吸引所形成凝胶膜的第2过滤器2过滤的过滤装置。此时吸引压力极微弱，即延迟第2过滤器2堵塞又维持过滤能力。还有利用吸引停止能够容易脱离第1过滤器1表面吸附的第2过滤器2凝胶膜，实现可以持续再过滤的过滤装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101386432B
公开(公告)日：2012-08-29
申请号：CN200810214882.6
申请日：2008-09-03
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/461
CPC classification number: D06F39/007
Abstract: 本发明提供一种在电解模式下可除去附着在阴极上的水垢而不会导致构成阳极的电极劣化的电解处理装置。本发明的电解处理装置具有：第一主电极(3)、第二主电极(4)、辅助电极(5)、和调控向这些电极进行通电的调控机构C，调控机构C包括如下模式：将第一主电极(3)作为阳极并且将第二主电极(4)作为阴极而对被处理水进行电化学处理的电解模式、将第二主电极(4)作为阳极并且将辅助电极(5)作为阴极而除去附着在第二主电极(4)的水垢的第二主电极水垢除去模式、将辅助电极(5)作为阳极并且将第二主电极(4)作为阴极而除去附着在辅助电极(5)的水垢的辅助电极水垢除去模式。
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公开(公告)号：CN101386432A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200810214882.6
申请日：2008-09-03
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/461
CPC classification number: D06F39/007
Abstract: 本发明提供一种在电解模式下可除去附着在阴极上的水垢而不会导致构成阳极的电极劣化的电解处理装置。本发明的电解处理装置具有：第一主电极(3)、第二主电极(4)、辅助电极(5)、和调控向这些电极进行通电的调控机构C，调控机构C包括如下模式：将第一主电极(3)作为阳极并且将第二主电极(4)作为阴极而对被处理水进行电化学处理的电解模式、将第二主电极(4)作为阳极并且将辅助电极(5)作为阴极而除去附着在第二主电极(4)的水垢的第二主电极水垢除去模式、将辅助电极(5)作为阳极并且将第二主电极(4)作为阴极而除去附着在辅助电极(5)的水垢的辅助电极水垢除去模式。
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公开(公告)号：CN101205089A
公开(公告)日：2008-06-25
申请号：CN200710199866.X
申请日：2007-12-14
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: D06F39/006 , Y02B40/56
Abstract: 本发明提供一种清洗装置中的水再利用方法及具备该功能的洗涤机，其特征在于，在清洗装置中容易从含有界面活性剂的被处理水中去除处理界面活性剂，由此实现水的再利用，进而仅通过电解质溶液的通水即可容易地再生吸附材料。上述方法包括：界面活性剂吸附处理工序，其利用作为阴离子交换体的水滑石或作为阳离子交换体的沸石对洗涤机W中使用的含有界面活性剂的清洗水及漂洗水等被处理水中的界面活性剂吸附并进行去除处理；和水再利用工序，其在洗涤机W中使用经该界面活性剂吸附处理工序处理的被处理水。
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公开(公告)号：CN101187039A
公开(公告)日：2008-05-28
申请号：CN200710148758.X
申请日：2007-09-11
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 本发明提供一种电解用电极，其可以利用容易的制造方法获得，能够利用低电流密度下的水的电解，高效率地生成臭氧水，并且能够生成过氧化氢或具有强氧化力的OH自由基，本发明还提供使用了它的电解方法以及使用了它的电解装置。本发明的电解用电极(1)是具备基体(2)、在该基体(2)的表面构成的表面层(4)而成的电极，表面层(4)由锐钛矿型氧化钛构成。
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公开(公告)号：CN1288093C
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：CN02147947.X
申请日：2002-10-31
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种被除去物的除去方法，在以往的CMP等机械加工所产生的排水，由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液，而没有有效的过滤方法。本发明的除去物的除去方法由第1过滤器(1)表面吸引所形成的凝胶膜构成第2过滤器(2)过滤含有胶体溶液微小颗粒的排水。此时吸引压力极微弱，在维持一定过滤量同时，既延迟第2过滤器(2)堵塞又维持过滤能力，由此也可以除去0.15μm以下的微小颗粒。
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