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公开(公告)号:CN101479198A
公开(公告)日:2009-07-08
申请号:CN200780023755.1
申请日:2007-06-27
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: Y02A20/109
Abstract: 本发明提供一种可以供给根据使用者的要求向被处理水中添加矿物成分而制作成从软水到硬水的各种矿物成分的水的水供给装置。并且,提供如下的水供给装置,即对应作为被处理水而使用的水的种类或使用状况、目的,选择对该被处理水进行处理的功能,从而可进行最优处理。本发明的水供给装置(S)包括:矿物添加处理机构(7),其具有一种以上的矿物成分并向被处理水中添加该矿物成分;控制机构,其具有与一种以上的矿物质水的矿物成分相关的数据,并根据选定的矿物质水,控制由矿物添加处理机构进行的矿物成分的添加。
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公开(公告)号:CN101259972A
公开(公告)日:2008-09-10
申请号:CN200810085222.2
申请日:2008-03-10
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/58 , C02F9/04 , C02F1/28 , C02F101/14
CPC classification number: C02F9/00 , C02F1/281 , C02F1/444 , C02F1/66 , C02F11/121 , C02F2101/14 , C02F2209/06
Abstract: 本发明提供一种能够尽量不用添加pH调整剂等药剂而改变被处理水的pH,并将被处理水的氟浓度处理到排水基准以下的含氟水的处理方法及装置。执行包括如下步骤的处理方法,即包括:在含有氟的被处理水中添加作为与氟反应而生成氟化物的被反应物即不带有OH基的化合物,从而生成悬浊液的第一处理步骤;对由该第一处理步骤得到的悬浊液进行固液分离的第二处理步骤;使由该第二处理步骤分离后的透过液与氟化物离子吸附剂接触的第三处理步骤。
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公开(公告)号:CN1288093C
公开(公告)日:2006-12-06
申请号:CN02147947.X
申请日:2002-10-31
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种被除去物的除去方法,在以往的CMP等机械加工所产生的排水,由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液,而没有有效的过滤方法。本发明的除去物的除去方法由第1过滤器(1)表面吸引所形成的凝胶膜构成第2过滤器(2)过滤含有胶体溶液微小颗粒的排水。此时吸引压力极微弱,在维持一定过滤量同时,既延迟第2过滤器(2)堵塞又维持过滤能力,由此也可以除去0.15μm以下的微小颗粒。
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公开(公告)号:CN101224917B
公开(公告)日:2011-04-20
申请号:CN200710149675.2
申请日:2007-09-10
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F5/00 , C02F1/4602 , C02F1/46104 , C02F1/4674 , C02F2303/04
Abstract: 本发明的课题是提供一种可以有效避免水垢附着于电极以及负载双方的问题的除水垢系统。具备浸渍于被处理水中,对该被处理水进行电化学处理的至少一对的电极(12、13),以及设置于该电极下游侧的水垢回收机构(5)(过滤器(6)),使经过过滤器(6)的被处理水分流,在使一部分供应给负载后,使其与来自电极(12、13)的被处理水合流,回到水垢回收机构(5)的入口侧,并且使另一部分回到电极(12、13)的入口侧。
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公开(公告)号:CN101623509A
公开(公告)日:2010-01-13
申请号:CN200910149961.8
申请日:2009-06-24
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: A61L9/013 , A61L9/00 , A61L101/06
Abstract: 本发明提供一种空气除菌装置。在使电解水与空气接触的空气除菌装置中,通过抑制电解水硬度的增大,从而可抑制水垢的析出。空气除菌装置(1)具有:电解槽(46),其对水进行电解而生成包含活性氧种的电解水;气液接触部件(53),其使电解水与空气接触;循环泵(44),其将由电解槽(46)生成的电解水供给到气液接触部件(53),并且,使通过气液接触部件(53)的电解水循环供给到气液接触部件(53);水软化组件(90),其进行使循环供给到气液接触部件(53)的电解水的硬度降低的处理。
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公开(公告)号:CN101306854A
公开(公告)日:2008-11-19
申请号:CN200810099153.0
申请日:2008-05-14
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: C02F1/46
Abstract: 本发明提供一种水处理装置,其提高被处理水的处理效率,使被处理水不反复流通,能够以一次通水来充分处理。水处理装置(1)具备:配置于被处理水的流路中的通水性的第一电极(6);位于该第一电极(6)的下游侧,且利用该第一电极(6)通电的导电性纤维(8);位于该导电性纤维(8)的下游侧,且与第一电极(6)成对的通水性的电极(7);在该电极(7)和导电性纤维(8)之间夹有绝缘性多孔质间隔物(9);向两个电极(6、7)供给电压的供给机构。
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公开(公告)号:CN100352535C
公开(公告)日:2007-12-05
申请号:CN200410076634.1
申请日:2004-04-25
Applicant: 三洋水能源科技株式会社 , 三洋电机株式会社
CPC classification number: B01D37/02 , B01D29/114 , B01D29/15 , B01D29/39 , B01D29/66 , B01D61/147 , B01D61/20 , B01D63/08 , B01D65/003 , B01D65/02 , B01D2321/04 , B01D2321/185
Abstract: 本发明提供一种在使用膜状过滤器部进行过滤的过滤装置中,可维持过滤性能,且维修管理容易的过滤装置。其通过设置除去在过滤膜的表面形成的被除去物构成的堆积层用的气泡供给装置和通过贮存在剥离用水罐中的过滤水逆流由被除去物堵塞的过滤膜而恢复过滤机能的机构来保持过滤性能。而且通过把原水罐内下部形成锥形形状并通过阀设置回收罐,而提高了沉淀的被除去物的回收率,因此使过滤装置的维修和管理更加容易。
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公开(公告)号:CN1328191C
公开(公告)日:2007-07-25
申请号:CN200510073981.3
申请日:2005-05-27
Applicant: 三洋电机株式会社
CPC classification number: C02F1/5245 , C02F1/001 , C02F1/4674 , C02F1/4676 , C02F2101/14 , C02F2101/16 , C02F2101/163 , C02F2101/166
Abstract: 本发明提供从被处理水中除去氟成分的处理装置及使用了它的被处理水的处理方法。向处理槽(11)中,从第1路径(P1)导入含有氟成分的处理水(12)。从第2路径(P2)向被处理水(12)中添加消石灰。从第3路径(P3)向被处理水(12)中添加氯化钙。这样,被处理水(12)中所含的氟成分与构成消石灰或氯化钙的钙成分结合变为氟化钙而被固定化。另外,通过用浸渍在被处理水(12)中的过滤膜(13)进行过滤,被处理水(12)中所含的氟化钙的浓度被浓缩。
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公开(公告)号:CN1267358C
公开(公告)日:2006-08-02
申请号:CN02147951.8
申请日:2002-10-31
Applicant: 三洋电机株式会社
Abstract: 一种被除去物的除去方法,在以往的CMP等机械加工所产生的排水,由于在CMP研磨膏中包含砂粒的微小颗粒形成为胶体溶液,而没有有效的过滤方法。本发明除去物的除去方法是利用由第1过滤器1表面吸引所形成的凝胶膜构成的第2过滤器2过滤含有胶体溶液微小颗粒的排水。此时吸引压力极微弱,即延迟第2过滤器2堵塞又维持过滤能力。另外第2过滤器2表面所吸附的凝胶利用停止吸引能够容易地从第2过滤器2表面脱离,可再次继续过滤。
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公开(公告)号:CN1457917A
公开(公告)日:2003-11-26
申请号:CN03131022.2
申请日:2003-05-14
Applicant: 三洋电机株式会社
IPC: B01D37/03
CPC classification number: B01D69/14 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/16 , B01D2311/04 , C02F1/001 , C02F1/44 , C02F1/444 , C02F1/52 , C02F1/5245 , C02F1/66 , C02F1/76 , C02F9/00 , C02F2101/16 , C02F2103/346 , C02F2303/16 , Y10S210/903 , B01D2311/12 , B01D2311/18 , B01D2311/2642 , B01D2311/14
Abstract: 此前,CMP等机械加工产生的排水是CMP游浆中含磨料微粒的胶体溶液,无有效的过滤方法。本发明提供一种胶体溶液的过滤方法,对含胶体溶液微粒的排水,利用抽吸在第1过滤器1的表面上形成的凝胶膜构成的第2过滤器2进行过滤。此时,加入凝聚剂或pH调节剂,使胶体溶液微粒形成易于凝胶化的凝聚粒子,进行抽吸过滤,从而即使凝胶化困难的胶体溶液也能进行过滤。
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