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公开(公告)号:CN115939139A
公开(公告)日:2023-04-07
申请号:CN202211159315.1
申请日:2022-09-22
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L27/088 , H01L21/8234
Abstract: 提供了晶体管器件。一种晶体管器件包括衬底。该晶体管器件包括在衬底上具有下栅极和下沟道区的下晶体管。该晶体管器件包括具有上栅极和上沟道区的上晶体管。下晶体管在上晶体管和衬底之间。晶体管器件包括隔离区,该隔离区将下晶体管的下沟道区与上晶体管的上沟道区分开。此外,下晶体管的下栅极接触上晶体管的上栅极。还提供了形成晶体管器件的相关方法。