公开(公告)号：CN110579941A

公开(公告)日：2019-12-17

申请号：CN201910119201.6

申请日：2019-02-18

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 刘灏 ,  金炳相 ,  金乙泰 ,  黄恩秀

IPC: G03F7/00

Abstract: 提供了一种压印压辊装置。所述压印压辊装置包括：辊构件，在关于轴旋转的同时向下施加压力；轴承座，结合到辊构件的两个端部以允许辊构件的旋转；以及框架，结合到轴承座以支撑辊构件和轴承座，其中，轴承座包括：结合部，连接到轴；芯部，在竖直方向上从结合部延伸；第一线圈，完全围绕芯部的侧面；以及第二线圈，完全围绕芯部的侧面并且设置在第一线圈上以与第一线圈分隔开。

公开(公告)号：CN109727894A

公开(公告)日：2019-05-07

申请号：CN201811267135.9

申请日：2018-10-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金炳相 ,  孙沂周 ,  李柱铉 ,  金东昱 ,  朴景彬 ,  沈佑燮 ,  金正旭 ,  刘灏 ,  崔命受 ,  黄恩秀

IPC: H01L21/67

Abstract: 本公开提供了基板处理装置。一种基板处理装置包括：排气单元、喷洒头以及调节器。排气单元包括其中形成出口的下表面以及从上述下表面延伸的四个侧壁。排气单元包括从两个相对侧壁突出的排气翼。喷洒头位于排气单元中并具有分布孔。调节器被设置在排气翼之间的排气单元的每个侧壁上。

公开(公告)号：CN117906492A

公开(公告)日：2024-04-19

申请号：CN202310920224.3

申请日：2023-07-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李东键 ,  李栽源 ,  安晋佑 ,  吴俊泽 ,  黄恩秀

IPC: G01B11/00 ,  H01L21/66 ,  G01N21/88 ,  G01N21/31

Abstract: 公开了半导体测量设备。所述半导体测量设备包括：照明器，被配置为输出具有第一波长带的光和具有与第一波长带不同的第二波长带的光；载物台，测试对象被安置在载物台上；相机，被配置为接收从测试对象反射或散射或者透射通过测试对象的光；以及控制器，被配置为：控制照明器和相机，并且基于通过由相机接收的光指示的信息来测量包括在测试对象中的多个结构。控制器被配置为：在照明器输出具有第一波长带的光时将相机的曝光时间设置为第一曝光时间，并且在照明器输出具有第二波长带的光时将相机的曝光时间设置为与第一曝光时间不同的第二曝光时间。

公开(公告)号：CN109597277A

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201810940325.6

申请日：2018-08-17

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 刘灏 ,  金炳相 ,  金正旭 ,  朴景彬 ,  孙沂周 ,  黄恩秀

IPC: G03F7/00

Abstract: 一种压印设备包括：第一框架；压力辊，其可旋转地支撑在所述第一框架的第一端部；第二框架，其包括耦接到所述第一框架的第二端部的支撑部分、以及耦接到所述支撑部分以横向地可移动的至少一个引导部分；以及至少一个负载辊，其由所述至少一个引导部分支撑，所述至少一个负载辊在可旋转的同时在垂直方向上可移动，并且根据所述至少一个引导部分的横向移动而在压力辊的上部接触压力辊的表面，所述至少一个负载辊通过由所述至少一个负载辊的负载施加的力挤压所述压力辊。