包括第一顶部电极和其上的第二顶部电极的数据存储器件

    公开(公告)号:CN112216789B

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN202010392306.1

    申请日:2020-05-11

    Abstract: 提供了一种包括第一顶部电极和在其上的第二顶部电极的数据存储器件。数据存储器件包括在衬底的上表面处的存储晶体管以及电连接到存储晶体管的数据存储结构。数据存储结构包括磁隧道结图案和在磁隧道结图案上的顶部电极。顶部电极包括第一顶部电极和在第一顶部电极上的第二顶部电极,并且第一顶部电极和第二顶部电极包括相同的金属氮化物。第一顶部电极包括金属氮化物的第一晶粒,第二顶部电极包括金属氮化物的第二晶粒。在顶部电极的沿与衬底的上表面平行的第一方向截取的一截面中,沿第一方向的每单位长度的第一晶粒的数量大于沿第一方向的每单位长度的第二晶粒的数量。

    磁性装置
    8.
    发明公开
    磁性装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115768243A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211048369.0

    申请日:2022-08-30

    Abstract: 一种磁性装置包括种子图案、种子图案上的参考磁性结构、参考磁性结构上的自由磁性图案以及参考磁性结构与自由磁性图案之间的隧道势垒。参考磁性结构包括:合成反铁磁(SAF)结构,其包括与所述种子图案的上表面接触的第一固定图案、与所述第一固定图案的上表面接触的反铁磁耦合图案以及与所述反铁磁耦合图案的上表面接触的第二固定图案;非磁性图案,其与所述第二固定图案的上表面接触;以及极化增强磁性图案,其与所述非磁性图案的上表面接触。

    磁性存储器装置及其制造方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114864626A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202111449802.7

    申请日:2021-11-30

    Abstract: 提供了一种制造磁性存储器装置的方法,包括步骤:在衬底上形成包括底部电极、磁性隧道结图案和顶部电极的数据存储结构;形成保形地覆盖数据存储结构的侧表面和顶表面的第一封盖电介质层;以及在第一封盖电介质层上形成第二封盖电介质层。通过其中第一源气体、第一反应气体和第一吹扫气体被供应的PECVD执行形成第一封盖电介质层的步骤。通过其中第二源气体、第二反应气体和第二吹扫气体被供应的PECVD执行形成第二封盖电介质层的步骤。第一反应气体和第二反应气体彼此不同。第一吹扫气体和第二吹扫气体彼此不同。

    包括阻挡层的半导体器件
    10.
    发明授权

    公开(公告)号:CN112349829B

    公开(公告)日:2025-03-07

    申请号:CN202010391931.4

    申请日:2020-05-11

    Abstract: 本发明公开了一种包括阻挡层的半导体器件,该半导体器件包括在衬底上的层间绝缘层中的多个磁隧道结(MTJ)结构。阻挡层在层间绝缘层和所述多个MTJ结构上。上绝缘层在阻挡层上。上互连在上绝缘层上。上插塞连接到所述多个MTJ结构中的相应一个以及上互连并且延伸到上绝缘层和阻挡层中。阻挡层包括具有比上绝缘层高的吸收常数的材料。

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