公开(公告)号：CN1407409A

公开(公告)日：2003-04-02

申请号：CN02108303.7

申请日：2002-03-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴东镇 ,  金经大 ,  全相文 ,  黄震虎 ,  孙一现 ,  权相五 ,  田弼权

IPC: G03F7/26

CPC classification number: C11D1/526 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425

Abstract: 一种抗蚀剂除去组合物，具有除去抗蚀剂、聚合物、有机金属聚合物和蚀刻副产品如金属氧化物的优异性能，该抗蚀剂除去组合物不侵蚀暴露于组合物中的下层并且在清洗后不留下残余物。该抗蚀剂除去组合物含烷氧基N－羟烷基链烷酰胺和溶胀剂。

公开(公告)号：CN1256629C

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN02108303.7

申请日：2002-03-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴东镇 ,  金经大 ,  全相文 ,  黄震虎 ,  孙一现 ,  朴相五 ,  田弼权

IPC: G03F7/42 ,  C11D7/32

CPC classification number: C11D1/526 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/425

Abstract: 一种抗蚀剂除去组合物，具有除去抗蚀剂、聚合物、有机金属聚合物和蚀刻副产品如金属氧化物的优异性能，该抗蚀剂除去组合物不侵蚀暴露于组合物中的下层并且在清洗后不留下残余物，该抗蚀剂除去组合物含烷氧基N-羟烷基链烷酰胺和溶胀剂。