公开(公告)号：CN100443959C

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：CN200610007307.X

申请日：2006-02-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 普特波夫·维拉帝莫 ,  赵成训 ,  李锡原 ,  李文九 ,  金洸秀

IPC: G02F1/13 ,  G01N21/23 ,  G01N21/00

Abstract: 本发明涉及光学器件的检测装置及检测方法。依据本发明所提供的光学器件的检测装置，包含：用于向所述光学器件射出光的激光器；通过对所述激光器射出光的相位进行变更而消除干扰的相位变更部；用于将通过所述光学器件的光按特定方向偏振的偏振部；用于集中所偏振光的集光部；用于将所集中的光变换为电信号的光二极管；用于处理所述电信号的信号处理部。据此提供可以测定板状光学器件的双折射和厚度变形程度的光学器件的检测装置及检测方法。

公开(公告)号：CN101085580A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200610121809.5

申请日：2006-08-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  崔炯佶 ,  赵成训 ,  金光秀 ,  金桢吉 ,  李锡原 ,  李文九

IPC: B41M5/26 ,  B41M1/24

Abstract: 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤：使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。

公开(公告)号：CN1970306A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200610080940.1

申请日：2006-05-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金桢吉 ,  李文九 ,  李锡原 ,  朴正宇 ,  赵成训

IPC: B41M5/26 ,  B41K3/36

Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法和图案形成装置。依据本发明所提供的图案形成方法包含步骤：将图案形成对象安放到安放部；通过对软模的背面施加压力使所述软模的中央部分向所述图案形成对象突出；从所述中央部分开始将所述软模紧贴到所述图案形成对象；在所述软模与所述图案形成对象紧贴的状态下，将所述软模的图案转印到所述图案形成对象上；分离所述软模与所述图案形成对象。由此得到可以以低成本形成高品质图案的图案形成方法。

公开(公告)号：CN1920662A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：CN200510135972.2

申请日：2005-12-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  金桢吉 ,  郑在贤 ,  李锡原 ,  李文九 ,  赵成训

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种压印光刻装置，包含形成目标图案的反相凹凸图案的模板，该模板由弹性材质构成；模板贴附部，将模板从一端部到另一端部逐渐地贴附于作业对象上而在作业对象上形成目标图案。因此，可以有效地在基板上形成纳米图案。

公开(公告)号：CN100594137C

公开(公告)日：2010-03-17

申请号：CN200610080940.1

申请日：2006-05-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金桢吉 ,  李文九 ,  李锡原 ,  朴正宇 ,  赵成训

IPC: B41M5/26 ,  B41K3/36

Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法和图案形成装置。依据本发明所提供的图案形成方法包含步骤：将图案形成对象安放到安放部；通过对软模的背面施加压力使所述软模的中央部分向所述图案形成对象突出；从所述中央部分开始将所述软模紧贴到所述图案形成对象；在所述软模与所述图案形成对象紧贴的状态下，将所述软模的图案转印到所述图案形成对象上；分离所述软模与所述图案形成对象。由此得到可以以低成本形成高品质图案的图案形成方法。

公开(公告)号：CN1904674A

公开(公告)日：2007-01-31

申请号：CN200610007307.X

申请日：2006-02-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 普特波夫·维拉帝莫 ,  赵成训 ,  李锡原 ,  李文九 ,  金洸秀

IPC: G02F1/13 ,  G01N21/23 ,  G01N21/00

Abstract: 本发明涉及光学器件的检测装置及检测方法。依据本发明所提供的光学器件的检测装置，包含：用于向所述光学器件射出光的激光器；对于所述激光器射出光的相位进行变更的相位变更部；用于将通过所述光学器件的光按特定方向偏振的偏振部；用于集中所偏振光的集光部；用于将所集中的光变换为电信号的光二极管；用于处理所述电信号的信号处理部。据此提供可以测定板状光学器件的双折射和厚度变形程度的光学器件的检测装置及检测方法。

公开(公告)号：CN101085580B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200610121809.5

申请日：2006-08-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  崔炯佶 ,  赵成训 ,  金光秀 ,  金桢吉 ,  李锡原 ,  李文九

IPC: B41M5/26 ,  B41M1/24

Abstract: 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤：使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。

公开(公告)号：CN1917040A

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN200510097429.8

申请日：2005-12-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 普特波夫·维蒂莫 ,  赵成训 ,  李锡原 ,  权宁健 ,  金大锡 ,  金洸秀 ,  李文九

IPC: G11B5/00

Abstract: 本发明涉及一种磁记录介质的检测装置及其检测方法。依据本发明所提供的磁记录介质的检测装置，包含：向所述磁记录介质发出光的外差激光器；使从所述磁记录介质反射的光按特定方向偏振的偏振部；用于接收偏振光的收光部；从接受到的光检测克尔磁信号的检测器；用于显示所检测到的所述克尔磁信号的显示部。据此，提供一种可以正确、简单地检测磁记录介质的克尔磁信号的光学设备检测装置及其检测方法。