公开(公告)号：CN101085580A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200610121809.5

申请日：2006-08-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  崔炯佶 ,  赵成训 ,  金光秀 ,  金桢吉 ,  李锡原 ,  李文九

IPC: B41M5/26 ,  B41M1/24

Abstract: 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤：使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。

公开(公告)号：CN101085580B

公开(公告)日：2010-11-03

申请号：CN200610121809.5

申请日：2006-08-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  崔炯佶 ,  赵成训 ,  金光秀 ,  金桢吉 ,  李锡原 ,  李文九

IPC: B41M5/26 ,  B41M1/24

Abstract: 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤：使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。

公开(公告)号：CN101114120A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200610137180.3

申请日：2006-10-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵成训 ,  赵映泰 ,  李锡原 ,  朴宣美 ,  沈盈硕 ,  朴正扜 ,  金桢吉

IPC: G03F7/00

Abstract: 本发明公开了一种压模、用于制造该压模的方法以及利用该压模的基底的压印工艺。该压模能够抑制变形如收缩和膨胀，以提高具有刻在其上的精细图案的压模的尺寸准确度以及基底与压模的排列精确度。该压模包括：压模体，具有预定图案；加强部分，设置在压模体上，以加强压模体。

公开(公告)号：CN1920662A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：CN200510135972.2

申请日：2005-12-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  金桢吉 ,  郑在贤 ,  李锡原 ,  李文九 ,  赵成训

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种压印光刻装置，包含形成目标图案的反相凹凸图案的模板，该模板由弹性材质构成；模板贴附部，将模板从一端部到另一端部逐渐地贴附于作业对象上而在作业对象上形成目标图案。因此，可以有效地在基板上形成纳米图案。