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公开(公告)号：CN101034214B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200710086086.4
申请日：2007-03-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13 , G02F1/35 , G02F1/1335 , G02B7/28 , G08C25/00
Abstract: 本发明公开一种可以更加精密地修复高亮度象素的显示装置的象素修复装置。本发明所提供的显示装置的象素修复装置包含：生成飞秒激光束的激光发生器；使所述飞秒激光束的强度变均匀的光束均化器；聚焦器，用于会聚所述飞秒激光束使其焦点的高度对准显示面板组件上发生高亮度象素(high pixel)现象的位置，所谓高亮度象素现象为在使整个画面变黑而确认是否存在象素缺陷时，因为液晶层存在杂质、配线断路或短路等原因而发生的缺陷部分发亮的现象。
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公开(公告)号：CN1940661A
公开(公告)日：2007-04-04
申请号：CN200610101432.7
申请日：2006-07-13
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , G02F1/136 , G02F1/1339
CPC classification number: G02F1/133753 , G02F1/13394 , G02F1/1393 , G02F2001/133761 , G02F2001/133776
Abstract: 本发明提供了一种液晶显示器，其包括：第一基底；第一电极，形成在第一基底上；钝化层，形成在第一基底和第一电极之间；第二基底，面对第一基底；第二电极，形成在第二基底上；柱状分隔件，形成在第二基底和第一基底之间；液晶层，具有相对于第一基底和第二基底垂直排列的液晶分子，并形成在第一基底和第二基底之间。钝化层和柱状分隔件在同一层由基本相同的材料制成。
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公开(公告)号：CN101046571B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200610171207.0
申请日：2006-12-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , B23K26/00 , B23K26/36
CPC classification number: B23K26/38 , B23K26/0604 , B23K26/0613
Abstract: 本发明提供了一种基板切割方法和基板切割设备，通过照射具有不同波长的至少两个激光束到基板顶表面和底表面来切割基板。基板切割方法包括制备具有薄膜晶体管(TFT)母基板和滤色器母基板的母基板组件；同时聚焦至少两个激光束到位于母基板表面的垂线上的彼此分开的至少两个不同位置；和通过该至少两个不同的聚焦位置切割母基板组件。
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公开(公告)号：CN101046571A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200610171207.0
申请日：2006-12-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , B23K26/00 , B23K26/36
CPC classification number: B23K26/38 , B23K26/0604 , B23K26/0613
Abstract: 本发明提供了一种基板切割方法和基板切割设备，通过照射具有不同波长的至少两个激光束到基板顶表面和底表面来切割基板。基板切割方法包括制备具有薄膜晶体管(TFT)母基板和滤色器母基板的母基板组件；同时聚焦至少两个激光束到位于母基板表面的垂线上的彼此分开的至少两个不同位置；和通过该至少两个不同的聚焦位置切割母基板组件。
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公开(公告)号：CN1945384A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200610139941.9
申请日：2006-09-27
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02F1/136259
Abstract: 用于修补显示装置的设备和方法，该显示装置包括其上形成有多条信号线的第一衬底和/或其上形成有多个滤色器的第二衬底，该设备包括辐射出激光的激光器，所述激光具有在大约750至大约850nm或者在大约1000至大约1100nm的范围内的波长且从飞秒(10－15秒)至皮秒(10－12秒)的脉冲宽度，并布置成使得激光能够聚焦在选定的信号线和/或滤色器上。该装置能够仅仅使用单个激光器设备在多个制造测试工序中的任何一个的过程中在显示装置上实施修补，而不需要针对每一个测试工序的额外的或不同的修补装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1933165A
公开(公告)日：2007-03-21
申请号：CN200610153837.5
申请日：2006-09-13
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02F1/136227
Abstract: 本发明提供了一种包括多个透光的像素区的阵列基底，该阵列基底包括：开关元件，设置在由栅极线和源极线限定的每个像素区中，其中，开关元件与栅极线和源极线电连接；像素电极，与开关元件电连接；第一绝缘层，设置在开关元件上；第二绝缘层，设置在第一绝缘层的下面，其中，第二绝缘层的厚度取决于红光的峰值波长。
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公开(公告)号：CN1933165B
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN200610153837.5
申请日：2006-09-13
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02F1/136227
Abstract: 本发明提供了一种包括多个透光的像素区的阵列基底，该阵列基底包括：开关元件，设置在由栅极线和源极线限定的每个像素区中，其中，开关元件与栅极线和源极线电连接；像素电极，与开关元件电连接；第一绝缘层，设置在开关元件上；第二绝缘层，设置在第一绝缘层的下面，其中，第二绝缘层的厚度取决于红光的峰值波长。
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公开(公告)号：CN1945812B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200610139943.8
申请日：2006-09-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/84 , H01L21/768 , H01L21/311 , B23K26/00 , G02F1/136
CPC classification number: H01L27/124
Abstract: 用于制造LCD基板的方法和装置，包括：在底部基板上形成像素开关元件的栅电极；在所述底部基板上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成所述开关元件的源电极和漏电极；在所述底部基板上形成保护绝缘层；将激光光束辐射到基板上，以形成使所述漏电极的一小部分曝光的第一接触孔；以及在基板上形成通过所述第一接触孔电连接到所述漏电极的像素电极。所述方法和装置均简化制造LCD基板的过程并使所述过程更加可靠。
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公开(公告)号：CN101162710A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200710152434.3
申请日：2007-10-12
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/84 , H01L21/768 , G02F1/1333 , G02F1/1362
CPC classification number: H01L27/124 , H01L27/1288 , H01L29/41733
Abstract: 本发明公开了一种薄膜晶体管(TFT)基底的制造方法，该方法包括：在基底上形成栅极绝缘膜和有源层；在有源层上形成包括第一金属层、第二金属层和第三金属层的数据金属层；在数据金属层上形成第一光致抗蚀剂图案；通过利用第一光致抗蚀剂图案对第三金属层进行干蚀刻；通过利用第一光致抗蚀剂图案对第二金属层和第一金属层同时进行干蚀刻；通过利用第一光致抗蚀剂图案对有源层进行干蚀刻；对第一光致抗蚀剂图案进行蚀刻以形成第二光致抗蚀剂图案，其中，通过第二光致抗蚀剂图案来去除沟道区；通过利用第二光致抗蚀剂图案对数据金属层的沟道区进行干蚀刻来形成源电极和漏电极。
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公开(公告)号：CN101013655A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200610153701.4
申请日：2006-09-14
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种利用激光光刻的基板处理装置和方法。根据本发明，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上形成薄膜的膜形成单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上涂覆薄膜的涂覆单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理方法，包括步骤：提供基板；在基板上形成薄膜；以及在相同装置中利用激光构图薄膜。即，在基板处理装置和方法中可采用可由现有技术的光学光刻单元和蚀刻单元替换的激光光刻单元。因此，能够确保图案的三维均匀性，同时精确地形成和控制大基板上的图案。
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