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公开(公告)号：CN101034214B
公开(公告)日：2011-01-26
申请号：CN200710086086.4
申请日：2007-03-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13 , G02F1/35 , G02F1/1335 , G02B7/28 , G08C25/00
Abstract: 本发明公开一种可以更加精密地修复高亮度象素的显示装置的象素修复装置。本发明所提供的显示装置的象素修复装置包含：生成飞秒激光束的激光发生器；使所述飞秒激光束的强度变均匀的光束均化器；聚焦器，用于会聚所述飞秒激光束使其焦点的高度对准显示面板组件上发生高亮度象素(high pixel)现象的位置，所谓高亮度象素现象为在使整个画面变黑而确认是否存在象素缺陷时，因为液晶层存在杂质、配线断路或短路等原因而发生的缺陷部分发亮的现象。
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公开(公告)号：CN101046571B
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：CN200610171207.0
申请日：2006-12-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , B23K26/00 , B23K26/36
CPC classification number: B23K26/38 , B23K26/0604 , B23K26/0613
Abstract: 本发明提供了一种基板切割方法和基板切割设备，通过照射具有不同波长的至少两个激光束到基板顶表面和底表面来切割基板。基板切割方法包括制备具有薄膜晶体管(TFT)母基板和滤色器母基板的母基板组件；同时聚焦至少两个激光束到位于母基板表面的垂线上的彼此分开的至少两个不同位置；和通过该至少两个不同的聚焦位置切割母基板组件。
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公开(公告)号：CN101046571A
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200610171207.0
申请日：2006-12-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/1333 , B23K26/00 , B23K26/36
CPC classification number: B23K26/38 , B23K26/0604 , B23K26/0613
Abstract: 本发明提供了一种基板切割方法和基板切割设备，通过照射具有不同波长的至少两个激光束到基板顶表面和底表面来切割基板。基板切割方法包括制备具有薄膜晶体管(TFT)母基板和滤色器母基板的母基板组件；同时聚焦至少两个激光束到位于母基板表面的垂线上的彼此分开的至少两个不同位置；和通过该至少两个不同的聚焦位置切割母基板组件。
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公开(公告)号：CN1945384A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200610139941.9
申请日：2006-09-27
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: G02F1/136259
Abstract: 用于修补显示装置的设备和方法，该显示装置包括其上形成有多条信号线的第一衬底和/或其上形成有多个滤色器的第二衬底，该设备包括辐射出激光的激光器，所述激光具有在大约750至大约850nm或者在大约1000至大约1100nm的范围内的波长且从飞秒(10－15秒)至皮秒(10－12秒)的脉冲宽度，并布置成使得激光能够聚焦在选定的信号线和/或滤色器上。该装置能够仅仅使用单个激光器设备在多个制造测试工序中的任何一个的过程中在显示装置上实施修补，而不需要针对每一个测试工序的额外的或不同的修补装置。
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公开(公告)号：CN101261960A
公开(公告)日：2008-09-10
申请号：CN200710199445.7
申请日：2007-12-13
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/84 , G02F1/1362 , G02F1/133 , G03F7/00
CPC classification number: G02F1/133351
Abstract: 公开了一种制造其中元件能精确对准的液晶显示器的方法，包括：提供绝缘母基板；通过照射激光在绝缘母基板内形成对准标记，该激光具有小于355nm的波长并且具有对激光的10％或更大的绝缘母基板吸收率；参照绝缘母基板上的对准标记形成多个元件；以及通过切割绝缘母基板形成多个绝缘单元基板。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101170086A
公开(公告)日：2008-04-30
申请号：CN200710108519.1
申请日：2007-05-31
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/84 , H01L21/768 , H01L21/336 , H01L21/28 , G03F7/00
CPC classification number: H01L27/1288 , H01L27/1214
Abstract: 本发明提供了一种制备薄膜晶体管基底的方法，该方法包括在基底上依次形成栅极绝缘层、有源层和数据金属膜。第一光刻胶图形在数据金属膜上形成，在沟道形成区内的第一光刻胶图形与不在沟道形成区内的第一光刻胶图形相比，具有相对小的厚度。利用第一光刻胶图形，对有源层和数据金属膜顺序进行刻蚀。利用包括六氟化硫气体和氧气的气体混合物，对第一光刻胶图形进行干法刻蚀，以形成在沟道形成区中形成有开口的第二光刻胶图形。然后利用第二光刻胶图形，对数据金属膜进行刻蚀。在此制备方法中，使用干法、湿法或酸清洗工序来减少基底中条纹(stringer)的形成。
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公开(公告)号：CN101034214A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710086086.4
申请日：2007-03-09
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G02F1/13 , G02F1/35 , G02F1/1335 , G02B7/28 , G08C25/00
Abstract: 本发明公开一种可以更加精密地修复高亮度像素的显示装置的像素修复装置。本发明所提供的显示装置的像素修复装置包含：生成飞秒激光束的激光发生器；使所述飞秒激光束的强度变均匀的光束均化器；聚焦器，用于会聚所述飞秒激光束使其焦点的高度对准显示面板组件上发生高亮度像素(high pixel)现象的位置，所谓高亮度像素现象为在使整个画面变黑而确认是否存在像素缺陷时，因为液晶层存在杂质、配线断路或短路等原因而发生的缺陷部分发亮的现象。
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公开(公告)号：CN1945812B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200610139943.8
申请日：2006-09-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/84 , H01L21/768 , H01L21/311 , B23K26/00 , G02F1/136
CPC classification number: H01L27/124
Abstract: 用于制造LCD基板的方法和装置，包括：在底部基板上形成像素开关元件的栅电极；在所述底部基板上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成所述开关元件的源电极和漏电极；在所述底部基板上形成保护绝缘层；将激光光束辐射到基板上，以形成使所述漏电极的一小部分曝光的第一接触孔；以及在基板上形成通过所述第一接触孔电连接到所述漏电极的像素电极。所述方法和装置均简化制造LCD基板的过程并使所述过程更加可靠。
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公开(公告)号：CN101013655A
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200610153701.4
申请日：2006-09-14
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本发明涉及一种利用激光光刻的基板处理装置和方法。根据本发明，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上形成薄膜的膜形成单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理装置，包括用于在基板上涂覆薄膜的涂覆单元和用于在薄膜上形成预定图案的激光光刻单元。此外，提供一种基板处理方法，包括步骤：提供基板；在基板上形成薄膜；以及在相同装置中利用激光构图薄膜。即，在基板处理装置和方法中可采用可由现有技术的光学光刻单元和蚀刻单元替换的激光光刻单元。因此，能够确保图案的三维均匀性，同时精确地形成和控制大基板上的图案。
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公开(公告)号：CN1945812A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：CN200610139943.8
申请日：2006-09-27
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/84 , H01L21/768 , H01L21/311 , B23K26/00 , G02F1/136
CPC classification number: H01L27/124
Abstract: 用于制造LCD基板的方法和装置，包括：在底部基板上形成像素开关元件的栅电极；在所述底部基板上形成栅极绝缘层；在所述栅极绝缘层上形成所述开关元件的源电极和漏电极；在所述底部基板上形成保护绝缘层；将激光光束辐射到基板上，以形成使所述漏电极的一小部分曝光的第一接触孔；以及在基板上形成通过所述第一接触孔电连接到所述漏电极的像素电极。所述方法和装置均简化制造LCD基板的过程并使所述过程更加可靠。
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