公开(公告)号：CN1945793A

公开(公告)日：2007-04-11

申请号：CN200610141294.5

申请日：2006-09-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 韩硕铉 ,  朴荣奎

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H01L21/20 ,  C23F4/00 ,  C23C16/00 ,  C23C14/00 ,  H05H1/00 ,  H01J37/32

CPC classification number: H01L21/67207 ,  H01J37/32009

Abstract: 使用多种不同类型等离子体源来处理衬底。等离子体源可与单个处理室相关。在这种情况下，选择性地操作等离子体源，来处理在处理室中的衬底。或者，等离子体源分别与集成的制造设备中的各个处理室相关联。根据本发明，等离子体源的操作参数，例如使用顺序，构成额外的可以调节的处理参数，最大化处理效率。

公开(公告)号：CN1407130A

公开(公告)日：2003-04-02

申请号：CN02106239.0

申请日：2002-04-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴荣奎 ,  严显镒 ,  申在光 ,  金圣九

IPC: C23C14/35

CPC classification number: C23C14/35 ,  H01J37/3402

Abstract: 一种溅射装置，包括溅射室，放置在溅射室中的靶极，以及在靶极前面产生旋转磁场的磁场发生器。该磁场发生器包括朝向该靶极背面的主磁场产生部件，并且相对于穿过该靶极中心的垂直线水平偏移。主磁场产生部件的磁环形成一面向靶极中心部分和边缘部分的位置有穿过磁环的开口的磁性围栏。该磁场产生部分因此在靶极前面产生一非均匀分布的磁场。一个衬底被放置在溅射室内部，面对靶极的前面。由靶极前面溅射出的原子在衬底上形成一金属层。该被溅射出的原子的动作被该磁场有效地控制着。

公开(公告)号：CN102356403A

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：CN200980158111.2

申请日：2009-12-15

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴妍濬 ,  金荣浩 ,  金圣基 ,  朴荣奎 ,  李贤哲

IPC: G06Q30/00 ,  G06Q20/00 ,  G07F17/16

CPC classification number: G06Q20/18 ,  G06Q20/123 ,  G06Q30/02 ,  G06Q30/0264 ,  G07F9/006 ,  G07F17/0014 ,  G07F17/16 ,  G07F19/207

Abstract: 提供一种自动售货装置及其广告方法。该自动售货装置通过网络接收广告内容和进度，存储接收到的信息，以及根据存储的广告进度在触摸屏上重放存储的广告内容。由于可以根据预定的进度时间表通过自动售货装置提供广告，因此，可以以更系统、多样和高效的方式提供广告。

公开(公告)号：CN1244713C

公开(公告)日：2006-03-08

申请号：CN02106239.0

申请日：2002-04-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴荣奎 ,  严显镒 ,  申在光 ,  金圣九

IPC: C23C14/35

CPC classification number: C23C14/35 ,  H01J37/3402

Abstract: 一种溅射装置，包括溅射室，放置在溅射室中的靶极，以及在靶极前面产生旋转磁场的磁场发生器。该磁场发生器包括朝向该靶极背面的主磁场产生部件，并且相对于穿过该靶极中心的垂直线水平偏移。主磁场产生部件的磁环形成一面向靶极中心部分和边缘部分的位置有穿过磁环的开口的磁性围栏。该磁场产生部分因此在靶极前面产生一非均匀分布的磁场。一个衬底被放置在溅射室内部，面对靶极的前面。由靶极前面溅射出的原子在衬底上形成一金属层。该被溅射出的原子的动作被该磁场有效地控制着。

公开(公告)号：CN1303245C

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN03128660.7

申请日：2003-03-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申在光 ,  金圣九 ,  朴荣奎 ,  严显镒

IPC: C23C14/35 ,  H01J37/34

CPC classification number: H01J37/3408 ,  C23C14/35 ,  H01J9/236 ,  H01J23/10 ,  H01J37/3455

Abstract: 本发明公开了一种溅射装置及其电极和该电极的制造方法。该电极为旋转式磁控管套磁控管型(RMIM)电极。RMIM电极包括：磁体单元，包括位于中央的柱形磁体和多个围绕柱形磁体的环形磁体；以及驱动单元，支承和离轴旋转磁体单元。在磁体单元中，相邻磁体有相反的磁化方向，具有小直径的环形磁体位于具有大直径的环形磁体内侧。

公开(公告)号：CN1445811A

公开(公告)日：2003-10-01

申请号：CN03128660.7

申请日：2003-03-14

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 申在光 ,  金圣九 ,  朴荣奎 ,  严显镒

IPC: H01J23/02 ,  H01J9/02

CPC classification number: H01J37/3408 ,  C23C14/35 ,  H01J9/236 ,  H01J23/10 ,  H01J37/3455

Abstract: 本发明公开了一种溅射装置及其电极和该电极的制造方法。该电极为旋转式磁控管套磁控管型(RMIM)电极。RMIM电极包括：磁体单元，包括位于中央的柱形磁体和多个围绕柱形磁体的环形磁体；以及驱动单元，支承和离轴旋转磁体单元。在磁体单元中，相邻磁体有相反的磁化方向，具有小直径的环形磁体位于具有大直径的环形磁体内侧。