晶片研磨轮
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111347344A

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN201910680928.1

    申请日:2019-07-26

    Abstract: 一种晶片研磨轮包括多个轮尖端。所述多个轮尖端包括多个金刚石磨料粒和与所述多个金刚石磨料粒混合的粘合材料。所述多个金刚石磨料粒在长轴方向上的长度与在短轴方向上的宽度之比为2.5:1至3.5:1,并且包括研磨角度为90°或更小的边或顶点。

    用于制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN110931427A

    公开(公告)日:2020-03-27

    申请号:CN201910601994.5

    申请日:2019-07-05

    Abstract: 一种用于制造半导体器件的方法包括:提供第一晶片,第一晶片包括基体衬底和元件区域,基体衬底具有彼此面对的第一表面和第二表面,元件区域设置在基体衬底的所述第一表面上,其中,第一晶片包括彼此相邻的第一半导体芯片区域和第二半导体芯片区域,第一半导体芯片区域和第二半导体芯片区域均包括基体衬底的一部分和元件区域的一部分;在第一半导体芯片区域与第二半导体芯片区域之间在基体衬底中形成切割图案;研磨基体衬底的一部分以由第一晶片形成第二晶片;在经研磨的基体衬底的第二表面上形成应力释放层;以及扩展第二晶片以将第一半导体芯片区域和第二半导体芯片区域彼此分离。

    晶片研磨轮
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111347344B

    公开(公告)日:2024-01-02

    申请号:CN201910680928.1

    申请日:2019-07-26

    Abstract: 一种晶片研磨轮包括多个轮尖端。所述多个轮尖端包括多个金刚石磨料粒和与所述多个金刚石磨料粒混合的粘合材料。所述多个金刚石磨料粒在长轴方向上的长度与在短轴方向上的宽度之比为2.5:1至3.5:1,并且包括研磨角度为90°或更小的边或顶点。

    用于制造半导体器件的方法

    公开(公告)号:CN110931427B

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN201910601994.5

    申请日:2019-07-05

    Abstract: 一种用于制造半导体器件的方法包括:提供第一晶片,第一晶片包括基体衬底和元件区域,基体衬底具有彼此面对的第一表面和第二表面,元件区域设置在基体衬底的所述第一表面上,其中,第一晶片包括彼此相邻的第一半导体芯片区域和第二半导体芯片区域,第一半导体芯片区域和第二半导体芯片区域均包括基体衬底的一部分和元件区域的一部分;在第一半导体芯片区域与第二半导体芯片区域之间在基体衬底中形成切割图案;研磨基体衬底的一部分以由第一晶片形成第二晶片;在经研磨的基体衬底的第二表面上形成应力释放层;以及扩展第二晶片以将第一半导体芯片区域和第二半导体芯片区域彼此分离。

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