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公开(公告)号：CN109951698A
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201810735939.0
申请日：2018-07-06
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H04N13/383 , H04N13/366 , G06T7/11 , G01V8/10
Abstract: 提供一种用于检测反射的方法和设备。所述方法包括：基于红外光源的激活，获取对象的输入图像；基于红外光源的去激活，获取对象的参考图像；基于输入图像和参考图像，从输入图像提取反射区域。
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公开(公告)号：CN1841663A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200510068327.3
申请日：2005-05-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/205 , H01L21/31 , H01L21/3205 , C23C16/458
Abstract: 揭示一种可以在晶片整个表面形成均匀薄膜的半导体制造装置。本发明所提供的半导体制造装置包含反应室、喷头、晶片驱动单元。晶片驱动单元包含支持晶片的支架、连接于支架的旋转轴、与旋转轴连接的旋转电机，以使晶片可以旋转。支架和旋转轴被机箱和波纹管、升降筒和密闭装置所围住并设置在轴承套内部，由连接密封装置和旋转电机的皮带带动旋转。晶片驱动单元还具备升降电机，可使支架按上下方向移动。
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公开(公告)号：CN111277812B
公开(公告)日：2024-09-27
申请号：CN201910659582.7
申请日：2019-07-22
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H04N13/366 , H04N13/383
Abstract: 公开一种图像处理方法和设备。图像处理方法包括：接收图像帧；检测图像帧中的用户的脸部区域；将多个预设特征点对准在包括在脸部区域中的多个特征部位；基于与所述多个特征部位的组合对应的第一区域，对对准的结果执行第一检查；基于与所述多个特征部位的单个特征部位对应的第二区域，对对准的结果执行第二检查；基于确定第一检查和第二检查中的至少一个的失败，重新检测脸部区域；以及基于确定第一检查和第二检查的成功，输出关于脸部区域的信息。
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公开(公告)号：CN109729334B
公开(公告)日：2022-06-14
申请号：CN201811258687.3
申请日：2018-10-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H04N13/122 , H04N13/383
Abstract: 提供一种去除反射区的方法以及眼部跟踪方法和设备。所述眼部跟踪方法包括：确定在输入图像中是否包括由照明产生的反射区；响应于确定在输入图像中包括反射区，从输入图像去除反射区；从去除了反射区的输入图像输出用户的眼睛的坐标。
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公开(公告)号：CN112434549A
公开(公告)日：2021-03-02
申请号：CN202010650136.2
申请日：2020-07-08
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了一种图像处理方法和设备。所述图像处理方法包括：获取图像帧；基于从图像帧的至少一个先前帧获得的第一先验信息来跟踪用户的面部区域；根据确定基于第一先验信息的面部区域的跟踪已经失败，基于从至少一个先前帧获得的第二先验信息来在图像帧中设置扫描区域；以及基于扫描区域来在图像帧中检测面部区域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109755178B
公开(公告)日：2023-08-15
申请号：CN201811182469.6
申请日：2018-10-11
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/8234 , H01L21/8238 , H01L21/266
Abstract: 提供了制造集成电路器件的方法。为了制造集成电路器件，扩散缓冲层和含碳层在形成于衬底中的多个鳍型有源区上顺序地形成。含碳掩模图案通过使用包含氧原子的蚀刻气体蚀刻含碳层而形成为具有暴露扩散缓冲层的一部分的开口，同时扩散缓冲层阻止氧扩散到鳍型有源区中。杂质离子使用含碳掩模图案作为离子注入掩模经由开口和扩散缓冲层注入到一些鳍型有源区中，所述一些鳍型有源区从所述多个鳍型有源区之中选择。
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公开(公告)号：CN109390218B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN201810768330.3
申请日：2018-07-13
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/033 , H01L21/8238
Abstract: 公开制造集成电路器件的方法。所述方法包括：在基板上形成包括含碳的膜和含硅的有机抗反射膜的堆叠掩模结构体；通过蚀刻所述含硅的有机抗反射膜而形成含硅的有机抗反射图案；和通过使用所述含硅的有机抗反射图案作为蚀刻掩模蚀刻所述含碳的膜而形成包括含碳的掩模图案和轮廓控制衬料的复合掩模图案，所述含碳的掩模图案限定贯穿其的开口，所述轮廓控制衬料覆盖所述含碳的掩模图案的界定所述开口的侧表面。通过由所述复合掩模图案限定的多个空间将离子注入到所述基板中。
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公开(公告)号：CN109729334A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811258687.3
申请日：2018-10-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H04N13/122 , H04N13/383
CPC classification number: G02B27/0093 , G02B27/0025 , G06F3/013 , G06F3/0304 , G06N3/08
Abstract: 提供一种去除反射区的方法以及眼部跟踪方法和设备。所述眼部跟踪方法包括：确定在输入图像中是否包括由照明产生的反射区；响应于确定在输入图像中包括反射区，从输入图像去除反射区；从去除了反射区的输入图像输出用户的眼睛的坐标。
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公开(公告)号：CN104753196B
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201410842737.8
申请日：2014-12-30
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本公开提供了电机以及用于制造该电机的方法。压缩机包括电机，该电机包括定子组件和转子，定子组件构造为包括其中形成中空体的定子、由缠绕在定子上的绕组形成的多个线圈以及用于使定子与线圈绝缘的绝缘体，转子被插入到中空体中，并构造为关于旋转轴旋转。转子包括多个磁极，并且该磁极的中心部分的外圆周的曲率半径与该磁极的边缘部分的外圆周的曲率半径不同。一种用于制造电机的方法包括：将形成在具有多个汇流条的汇流条组件中的定子钩联接到形成在具有多个线圈的定子组件中的钩结合件，以及将绕组熔接到折叠板上，该折叠板连接到多个汇流条。
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公开(公告)号：CN104753196A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：CN201410842737.8
申请日：2014-12-30
Applicant: 三星电子株式会社
CPC classification number: H02K1/278 , F04B35/04 , F04C18/3564 , F04C23/001 , F04C23/008 , F04C29/0085 , H02K3/522 , H02K15/0068 , H02K29/03 , H02K2203/09 , Y10T29/49009 , H02K1/146 , H02K3/28
Abstract: 本公开提供了电机以及用于制造该电机的方法。压缩机包括电机，该电机包括定子组件和转子，定子组件构造为包括其中形成中空体的定子、由缠绕在定子上的绕组形成的多个线圈以及用于使定子与线圈绝缘的绝缘体，转子被插入到中空体中，并构造为关于旋转轴旋转。转子包括多个磁极，并且该磁极的中心部分的外圆周的曲率半径与该磁极的边缘部分的外圆周的曲率半径不同。一种用于制造电机的方法包括：将形成在具有多个汇流条的汇流条组件中的定子钩联接到形成在具有多个线圈的定子组件中的钩结合件，以及将绕组熔接到折叠板上，该折叠板连接到多个汇流条。
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