沉积源
    1.
    发明公开
    沉积源 审中-公开

    公开(公告)号:CN117947388A

    公开(公告)日:2024-04-30

    申请号:CN202311395513.2

    申请日:2023-10-26

    Abstract: 提供了沉积源。沉积源包括:第一坩埚;布置在第一坩埚内部的第二坩埚;布置在第一坩埚内部的块,块被布置在第二坩埚的至少一部分上;以及覆盖第一坩埚的顶表面的盖,盖被布置在块上。

    线性蒸发源及具有该线性蒸发源的沉积设备

    公开(公告)号:CN102102175B

    公开(公告)日:2015-02-18

    申请号:CN201010601144.4

    申请日:2010-12-17

    CPC classification number: C23C16/4485 C23C14/243 C23C14/26

    Abstract: 本发明公开了一种线性蒸发源及具有该线性蒸发源的沉积设备。在一个实施例中,线性蒸发源包括:i)熔罐,在其一侧是敞开的,且熔罐被构造为储存沉积材料;ii)多个分隔件,将熔罐的内部空间隔开,其中,每个分隔件在下部中具有至少一个开口。该源还包括:i)喷嘴部分,位于熔罐的敞开侧上并包括多个喷嘴;ii)加热器,构造为加热熔罐;iii)壳体,构造为容纳熔罐、喷嘴部分和加热器。

    隔热板及包括其的沉积装置
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118685737A

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202311141413.7

    申请日:2023-09-06

    Abstract: 本公开的实施例可以提供沉积装置和隔热板,沉积装置包括:喷嘴,用于排出沉积物质;下部壳体,喷嘴安装在下部壳体上,并且沉积物质容纳在下部壳体中;上部壳体,覆盖下部壳体,暴露喷嘴的至少一部分,并且设置有暴露于外部的槽。根据本公开的实施例的隔热板及包括其的沉积装置可以提供均匀的沉积品质。

    沉积源
    6.
    发明公开
    沉积源 审中-公开

    公开(公告)号:CN118932297A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202410572172.X

    申请日:2024-05-10

    Abstract: 沉积源包括坩埚、多个喷嘴、壳体、下部加热模块、上部加热模块、第一电极、第二电极以及供电器。坩埚收纳沉积物质。多个喷嘴配置在坩埚上。多个喷嘴沿着第一方向彼此间隔开。壳体收纳坩埚和多个喷嘴。下部加热模块配置在壳体的内部空间中且包围坩埚。上部加热模块在壳体的内部空间中配置在下部加热模块上。第一电极在与第一方向交叉的第二方向上延伸。第一电极与下部加热模块连接。第二电极在第二方向上延伸。第二电极与上部加热模块连接。供电器与第一电极及第二电极电连接。

    沉积设备
    7.
    发明公开
    沉积设备 审中-公开

    公开(公告)号:CN117926190A

    公开(公告)日:2024-04-26

    申请号:CN202311400600.2

    申请日:2023-10-26

    Abstract: 一种沉积设备包括:汽化部,所述汽化部包括容器、加热部、冷却罩和防附着部,所述容器容纳沉积初步材料,所述加热部围绕所述容器并加热所述沉积初步材料以汽化成沉积材料,所述冷却罩围绕所述加热部并冷却所述加热部,所述防附着部位于所述冷却罩与所述加热部之间以防止所述沉积材料附着到所述冷却罩;以及喷嘴部,喷射在所述汽化部中汽化的所述沉积材料,其中所述防附着部包括覆盖所述冷却罩的防附着板和被配置以将所述防附着板紧固到所述冷却罩的紧固部。

    沉积源
    8.
    发明公开
    沉积源 审中-实审

    公开(公告)号:CN114293150A

    公开(公告)日:2022-04-08

    申请号:CN202110939105.3

    申请日:2021-08-16

    Abstract: 一实施例的沉积源包括沉积模块以及收纳沉积模块的壳体,沉积模块包括:第一坩埚,沿着第一方向延伸,并且在内部空间收纳沉积物质;多个喷嘴,配置在第一坩埚上,并且沿着第一方向排列多个喷嘴;发热部件,收纳第一坩埚;以及辐射热防止部件,配置在发热部件的上表面、外侧面和下表面上,辐射热防止部件包括多个反射器以及分别连接多个反射器之中的相邻的反射器之间的多个销,多个销被配置成在平面上彼此错开。本发明的沉积源防止在沉积源内产生的热朝向沉积源的外部的损失或散出,从而提供一种在高温环境下提高了可靠性的沉积源。

    沉积设备
    9.
    发明公开
    沉积设备 审中-公开

    公开(公告)号:CN119433450A

    公开(公告)日:2025-02-14

    申请号:CN202411020347.2

    申请日:2024-07-29

    Abstract: 一种沉积设备包括:掩模框架;掩模,设置在所述掩模框架上;坩埚,设置在所述掩模框架下方;以及喷嘴,联接到所述坩埚并且设置在所述坩埚和所述掩模框架之间。所述喷嘴包括:主体部,包括联接开口;和喷射部,设置在所述联接开口中并且包括与所述联接开口重叠的孔。所述喷射部的热膨胀系数大于所述主体部的热膨胀系数。

    用于制造显示装置的设备
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118726914A

    公开(公告)日:2024-10-01

    申请号:CN202410774617.2

    申请日:2019-07-24

    Abstract: 提供了一种用于制造显示装置的设备。所述用于制造显示装置的设备包括:腔室;多个源单元,位于腔室的外部,其中,多个源单元容纳沉积材料并将沉积材料转化为气体;喷嘴单元,位于腔室中,其中,喷嘴单元连接到多个源单元,并且将从多个源单元中的一个源单元供应的沉积材料喷射到腔室中;以及调节单元,位于多个源单元中的每个源单元与喷嘴单元之间,其中,调节单元使从多个源单元中的每个源单元供应到喷嘴单元的沉积材料中断,并且选择性地将多个源单元与喷嘴单元连接。

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