公开(公告)号：CN103572242A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201310274602.1

申请日：2013-07-02

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 李侑钟

IPC: C23C14/46 ,  C23C14/12

CPC classification number: C23C14/35 ,  C23C14/354 ,  H01J37/321 ,  H01J37/3405 ,  H01J37/3444

Abstract: 本发明提供了一种薄膜沉积设备及利用薄膜沉积设备沉积薄膜的方法。薄膜沉积设备包括等离子体产生单元、溅射单元和包含反应空间的处理室。等离子体产生单元在反应空间中产生等离子体。溅射单元独立于等离子体产生单元进行驱动，以在反应空间中形成电场并利用等离子体对靶材执行溅射工艺。

公开(公告)号：CN110117770A

公开(公告)日：2019-08-13

申请号：CN201811357355.0

申请日：2018-11-15

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 李侑钟 ,  许明洙 ,  郑成镐 ,  韩尚辰 ,  姜有珍 ,  徐敏逵 ,  韩种馩

IPC: C23C14/12 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明公开一种有机物沉积装置以及利用此的有机物沉积方法。本发明的有机物沉积装置设置于真空腔室内，并包括：沉积物质供应部；容器部，存储从沉积物质供应部供应的沉积物质；气化部，在内部设置有使沉积物质气化的第一加热器；移送部，结合于容器部，借助直线往复运动而将容器部移送至所述气化部的内部；以及喷嘴部，与气化部分离布置，且借助连接管而与气化部连通，并具有向基板喷射沉积物质的通道。

公开(公告)号：CN114622176A

公开(公告)日：2022-06-14

申请号：CN202111491875.2

申请日：2021-12-08

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 白炅旼 ,  成炫阿 ,  申铉亿 ,  姜南旭 ,  柳斗善 ,  李侑钟

IPC: C23C14/50 ,  C23C14/54

Abstract: 本发明的一实施例涉及的沉积装置可以包括：衬托器，定义有多个衬托器孔；静电卡盘，配置在所述衬托器上，并且定义有多个静电卡盘孔；以及多个管脚，贯通所述衬托器和所述静电卡盘来进行连接，所述多个管脚分别包括：第一部分，配置在所述多个静电卡盘孔的内部；以及第二部分，配置在所述多个衬托器孔的内部，所述第一部分包括：第一基底部；以及第一冷却器，配置在所述第一基底部的内部，由此可以均匀地维持沉积装置的上部的温度，从而可以防止在通过沉积装置制造出的薄膜中产生污渍等不良的情况。

公开(公告)号：CN110106479A

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201910079736.5

申请日：2019-01-28

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 许明洙 ,  李侑钟 ,  金圣哲 ,  卢喆来 ,  郑成镐

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/50 ,  C23C16/455 ,  C23C16/458 ,  C23C16/513 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开一种显示装置的制造装置。本发明包括：源部，产生电场或磁场；载体，与所述源部相面对地布置，并且固定显示基板；位置调节部，与所述载体相隔地布置，并且沿第一方向调节所述载体的位置；载体移送部，沿第二方向移送所述载体；载体引导部，与所述载体相隔地布置，并调整所述载体的位置；以及屏蔽部，布置于所述位置调节部、所述载体移送部和所述载体引导部中的至少一个，从而阻断从所述位置调节部、所述载体移送部和所述载体引导部中的至少一个产生的磁场。

公开(公告)号：CN115807214A

公开(公告)日：2023-03-17

申请号：CN202210704510.1

申请日：2022-06-21

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 李侑钟 ,  姜南旭 ,  卢喆来 ,  柳斗善 ,  李正日 ,  许明洙

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/20 ,  H10K50/805

Abstract: 公开用于薄膜电极沉积的溅射设备和方法。所述溅射设备包括：布置在第一方向上并且彼此平行的第一圆柱靶和第二圆柱靶；设置在所述第一圆柱靶中的第一磁体；设置在所述第二圆柱靶中的第二磁体；以及在垂直于所述第一方向的第二方向上与所述第一圆柱靶和所述第二圆柱靶间隔开的基板支架，其中由从所述第一磁体的中心到所述第一圆柱靶的圆柱轴线的第一假想直线与第一垂直线形成的第一角和由从所述第二磁体的中心到所述第二圆柱靶的圆柱轴线的第二假想直线与第二垂直线形成的第二角中的每个都在大约30度到大约180度的范围内。

公开(公告)号：CN115371354A

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN202210558575.X

申请日：2022-05-20

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 柳斗善 ,  白炅旼 ,  申铉亿 ,  李侑钟 ,  许明洙

IPC: F25D31/00 ,  F25D17/02 ,  F25D17/06 ,  F25D23/00

Abstract: 一种直列式制造设备，包括：载体，传送基底；多个处理腔室，在经由所述载体传送的所述基底上执行制造工艺；以及冷却部件，设置为与所述载体相邻并且可与所述载体一起移动。

公开(公告)号：CN108690955A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201810315462.0

申请日：2018-04-10

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 韩尚辰 ,  姜有珍 ,  朴俊河 ,  徐敏逵 ,  李侑钟 ,  韩种馩 ,  高银儿 ,  朴盛锺

IPC: C23C14/24 ,  G09F9/00

CPC classification number: B05B15/68 ,  B05B13/00 ,  B05D1/02 ,  C23C14/042 ,  C23C14/12 ,  C23C14/243 ,  C23C14/246 ,  C23C14/505 ,  C23C14/541 ,  C23C14/542 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4485 ,  C23C16/4486 ,  C23C16/45512 ,  C23C16/45517 ,  C23C16/45521 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/4557 ,  C23C16/45574 ,  C23C16/45591 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/46 ,  H01L51/001 ,  C23C14/24 ,  G09F9/00

Abstract: 公开了用于制造显示设备的设备和方法。该设备包括腔室、沉积源、喷头、衬底固定件和防沉积件。沉积源位于腔室外部并使沉积材料蒸发或升华。喷头位于腔室中、与至少一个沉积源连接并且将沉积材料同时喷射到显示衬底的整个表面上。衬底固定件与腔室连接并且线性地移动，其中，显示设备安装在衬底固定件上。防沉积件在腔室中围绕喷头的边缘部分和衬底固定件的边缘部分。防沉积件在沉积过程期间被加热。

公开(公告)号：CN218511288U

公开(公告)日：2023-02-21

申请号：CN202221226980.3

申请日：2022-05-20

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 柳斗善 ,  白炅旼 ,  申铉亿 ,  李侑钟 ,  许明洙

IPC: F25D31/00 ,  F25D17/02 ,  F25D17/06 ,  F25D23/00

Abstract: 一种直列式制造设备，包括：载体，传送基底；多个处理腔室，在经由所述载体传送的所述基底上执行制造工艺；以及冷却部件，用于降低所述基底的表面温度，并且能与所述载体一起移动。

公开(公告)号：CN217895733U

公开(公告)日：2022-11-25

申请号：CN202221555327.1

申请日：2022-06-21

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 李侑钟 ,  姜南旭 ,  卢喆来 ,  柳斗善 ,  李正日 ,  许明洙

IPC: C23C14/35 ,  C23C14/20 ,  H01L51/52

Abstract: 公开用于薄膜电极沉积的溅射设备。所述溅射设备包括：布置在第一方向上并且彼此平行的第一圆柱靶和第二圆柱靶；设置在所述第一圆柱靶中的第一磁体；设置在所述第二圆柱靶中的第二磁体；以及在垂直于所述第一方向的第二方向上与所述第一圆柱靶和所述第二圆柱靶间隔开的基板支架，其中由从所述第一磁体的中心到所述第一圆柱靶的圆柱轴线的第一假想直线与第一垂直线形成的第一角和由从所述第二磁体的中心到所述第二圆柱靶的圆柱轴线的第二假想直线与第二垂直线形成的第二角中的每个都在大约30度到大约180度的范围内。