公开(公告)号：CN101220460B

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：CN200810000046.8

申请日：2008-01-04

Applicant: 三星康宁精密素材株式会社

Inventor： 尹汉镐 ,  赵祐奭 ,  金眩秀 ,  金仁燮 ,  崔成龙 ,  崔智雄 ,  朴喆基 ,  朴炯律

IPC: C23C14/34

Abstract: 本发明涉及一种相对大面积对象物的行进方向而配置在宽度方向上的溅射用靶装置，该溅射用靶装置包括：背板，含有中央表面以及在中央表面的两侧以降低规定的级差而形成的至少一个台阶表面；基准靶材，安装在背板的中央表面上；和加强靶材，安装在背板的台阶表面上。

公开(公告)号：CN101457344B

公开(公告)日：2012-04-25

申请号：CN200810180006.6

申请日：2008-11-19

Applicant: 三星康宁精密素材株式会社

Inventor： 具本庆 ,  尹汉镐 ,  朴柱玉 ,  朴炯律 ,  金眩秀 ,  崔成龙 ,  崔仲烈 ,  宋礼根 ,  朴峻弘

IPC: C23C14/34 ,  C23C14/08

CPC classification number: C23C14/3414 ,  C04B35/457 ,  C04B2235/3224 ,  C04B2235/3286 ,  C04B2235/3293 ,  C04B2235/5436 ,  C04B2235/77 ,  C23C14/086

Abstract: 本发明公开了氧化铟锡(ITO)靶，其制造方法，ITO透明导电膜及其制造方法。所述ITO靶包括选自由Sm2O3和Yb2O3构成的组中的至少一种氧化物，其中所述氧化物的含量相对所述靶重量为约0.5wt％～约10wt％。

公开(公告)号：CN103245193A

公开(公告)日：2013-08-14

申请号：CN201310043599.2

申请日：2013-02-04

Applicant: 三星康宁精密素材株式会社

Inventor： 李恩暻 ,  康洙男 ,  朴薰 ,  权世姬 ,  朴炯律 ,  表世薰

IPC: F27B17/00 ,  F27D1/00 ,  F27D19/00 ,  C04B35/453

Abstract: 本发明提供一种烧结炉，坯块在该烧结炉中被烧结。烧结炉包括：腔室，已经被装载在该腔室中的坯块在该腔室中被烧结；设置在所述腔室的上部中的排放口，所述排放口允许所述腔室的内部与所述腔室的外部连通；和防止凝结单元，该防止凝结单元加热所述排放口或者将所述排放口保持温热。