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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1433247A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02155297.5
申请日：2002-12-10
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C23C14/086 , B32B9/00 , C22C28/00 , H01L33/42 , H01L51/0021 , H01L51/5206 , H01L2251/308 , H05B33/28
Abstract: 本发明的课题是：使用用氮化铝相似被覆的荧光物质的发光层，抑制EL发光元件在高温高湿下连续发光时发光亮度的劣化。本发明的解决手段是：用以下透明导电性薄膜，作为使用用氮化铝相似被覆的荧光物质的发光层的EL发光元件的透明导电性薄膜，该透明导电性薄膜的特征在于，是在基板(A)的一方的主面上，在溅射气体中添加特定量的氧气和氢气的条件下，通过溅射法形成主要由铟原子、锡原子和氧原子构成的透明导电层(B)的透明导电性薄膜，将透明导电层(B)表面积的60％在28质量％氨水上被覆5小时的电阻变化率在5％以内。
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公开(公告)号：CN1503604A
公开(公告)日：2004-06-09
申请号：CN02153104.8
申请日：2002-11-22
Applicant: 三井化学株式会社
Abstract: 本发明的课题是：使用用氮化铝相似被覆的荧光物质的发光层，抑制EL发光元件在高温高湿下连续发光时发光亮度的劣化。本发明的解决手段是：用以下透明导电性薄膜，作为使用用氮化铝相似被覆的荧光物质的发光层的EL发光元件的透明导电性薄膜，该透明导电性薄膜的特征在于，是在基板(A)的一方的主面上，在溅射气体中添加特定量的氧气和氢气的条件下，通过溅射法形成主要由铟原子、锡原子和氧原子构成的透明导电层(B)的透明导电性薄膜，将透明导电层(B)表面积的60％在28质量％氨水上被覆5小时的电阻变化率在5％以内。
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公开(公告)号：CN101400492B
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：CN200780008981.2
申请日：2007-03-19
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: B29C41/12 , C08J5/18 , C08K3/22 , C08L101/00 , G02B5/02 , C01B33/18 , B29L11/00 , B29L7/00 , B29K105/16
CPC classification number: G02B5/0278 , C03C17/008 , C03C2218/113 , G02B5/0242 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明提供一种光学膜的制造方法以及光学膜，该光学膜为薄膜，并且具有高的光线透过率与光扩散性，该光学膜包含透明树脂与金属氧化物。具体来讲，本发明涉及的光学膜的制造方法包括：(A)将通过溶胶-凝胶反应生成金属氧化物的金属化合物，在溶剂中进行溶胶-凝胶反应的工序；(B)准备以透明树脂为溶质的溶液的工序；(C)将在所述(A)工序中得到的混合物与在(B)工序中得到的溶液进行混合的工序；以及(D)将在所述(C)工序中得到的混合物在基板或容器上涂布或者展开后，进行加热使溶剂蒸发来形成膜的工序，该光学膜的全光线透过率为70％以上，且雾度值为20％以上。
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公开(公告)号：CN101400492A
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200780008981.2
申请日：2007-03-19
Applicant: 三井化学株式会社
IPC: B29C41/12 , C08J5/18 , C08K3/22 , C08L101/00 , G02B5/02 , B29K105/16 , B29L7/00 , B29L11/00 , C01B33/18
CPC classification number: G02B5/0278 , C03C17/008 , C03C2218/113 , G02B5/0242 , Y10T428/24355
Abstract: 本发明提供一种光学膜的制造方法以及光学膜，该光学膜为薄膜，并且具有高的光线透过率与光扩散性，该光学膜包含透明树脂与金属氧化物。具体来讲，本发明涉及的光学膜的制造方法包括：(A)将通过溶胶－凝胶反应生成金属氧化物的金属化合物，在溶剂中进行溶胶－凝胶反应的工序；(B)准备以透明树脂为溶质的溶液的工序；(C)将在所述(A)工序中得到的混合物与在(B)工序中得到的溶液进行混合的工序；以及(D)将在所述(C)工序中得到的混合物在基板或容器上涂布或者展开后，进行加热使溶剂蒸发来形成膜的工序，该光学膜的全光线透过率为70％以上，且雾度值为20％以上。
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公开(公告)号：CN1082888C
公开(公告)日：2002-04-17
申请号：CN97103180.0
申请日：1997-02-16
Applicant: 三井化学株式会社
CPC classification number: C23C14/5826 , B32B15/08 , B32B27/06 , C23C14/205 , C23C14/5853 , C23C16/402 , H05K3/38 , Y10T428/31667
Abstract: 一种采用聚合物模片作基片的层状材料，具有透光性，隔气性和优异的耐碱性。通过进行表面处理，沉积选自周期表2，8，9，10和11族中至少一种金属的氧化物，然后在处理过的表面形成例如硅的氧化物，硅的氮化物和硅的碳化物的隔气层。即使浸入pH12或更高的碱性溶液，隔气层不会从聚合物模片上剥落。按照单位面积金属原子计，处理过表面的金属量优选范围是5×1014原子/cm2-3×1016原子/cm2。在对层状材料上形成的透明导电层用碱刻蚀作图过程中，不会降低层状材料的实用性。
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