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公开(公告)号:CN117754009A
公开(公告)日:2024-03-26
申请号:CN202311755408.5
申请日:2023-12-18
IPC: B23B27/14
Abstract: 本发明公开了一种具有热障功能的微叠层陶瓷刀具及其设计方法,包括如下步骤:由于叠层结构产生交替变换的残余拉应力和残余压应力,将刀具总层数设计为3、5或7层的对称结构,中间为基体层,其余为热障层;建立正交切削二维仿真模型,输入工件材料的热物性参数,假设刀具表层热物性参数恒定,优化微叠层陶瓷刀具各层的层厚和层厚比;基于ABAQUS仿真软件和微叠层陶瓷刀具热障层的结构参数设计,优化刀具基体材料的热物性参数;对微叠层陶瓷刀具层间界面结合形式设计,将其设计为机械啮合形式。
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公开(公告)号:CN116842733A
公开(公告)日:2023-10-03
申请号:CN202310813114.7
申请日:2023-07-04
IPC: G06F30/20 , G16C60/00 , G06F111/14 , G06F119/14 , G06F119/08
Abstract: 本发明公开了一种多层仿生陶瓷刀具计算断裂韧度的方法,该发明以仿生贝壳珍珠层的韧化机制为基础,将贝壳的微观组织演变机理、裂纹扩展机理和断裂模式以及所具有的高性能作为研究对象,然后将其特征和功能应用在陶瓷刀具上,以此来研究仿生陶瓷刀具同质层内、异质层间的裂纹扩展机理、增韧机理,并建立仿生陶瓷刀具的裂纹扩展机理、增韧机理模型,然后将其和组分、烧结工艺、结构参数联系起来,构建仿生陶瓷刀具的断裂韧度模型,进而研制仿生陶瓷刀具。
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公开(公告)号:CN116690439A
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN202310897821.9
申请日:2023-07-20
Abstract: 本发明提供一种用于异形内腔结构的微细磨料水射流抛光系统及方法,系统包括控制柜、低/高压射流生成组件、自主供料组件、废料收集组件、工业机器人执行机构以及工作台主体框架;低/高压射流生成组件包括高压射流生成装置、低压射流生成装置、高低压转换开关、低/高压水进水管以及进水口,高压射流生成装置与低压射流生成装置集成化设置并借助于高低压转换开关进行切换。本发明的射流抛光系统能够满足复杂异形内腔结构的微细磨料水射流抛光,并能根据加工要求选取最优的路径间距值生成最优路径,工业机器人按照最优路径进行工作,确保抛光的精度。
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公开(公告)号:CN116038551A
公开(公告)日:2023-05-02
申请号:CN202310037046.X
申请日:2023-01-10
Applicant: 燕山大学
Abstract: 本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液,研磨的步骤为:搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台;启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨;调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光,利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基,引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层,对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液,其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性,减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤,从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。
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公开(公告)号:CN115594490B
公开(公告)日:2023-04-14
申请号:CN202211027605.0
申请日:2022-08-25
IPC: C04B35/10 , C04B35/622 , C04B35/645
Abstract: 本发明涉及一种低热膨胀氧化铝基陶瓷刀具材料及其制备工艺,本发明中的陶瓷刀具材料在经过热压烧结之后,既具有氧化铝陶瓷的高硬度,又通过加入Sc2W3O12负热膨胀相,降低整体陶瓷材料的热膨胀系数,提高陶瓷刀具在高速切削工程中的抗热震性,满足镍基合金加工过程中大温度区间的要求。并且复合材料未使用金属粘结剂,即使在极端的热‑力‑化学耦合作用下的高速切削加工中也有着较强的热稳定性,因此对镍基合金材料有着极高的加工匹配性。
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公开(公告)号:CN115594490A
公开(公告)日:2023-01-13
申请号:CN202211027605.0
申请日:2022-08-25
IPC: C04B35/10 , C04B35/622 , C04B35/645
Abstract: 本发明涉及一种低热膨胀氧化铝基陶瓷刀具材料及其制备工艺,本发明中的陶瓷刀具材料在经过热压烧结之后,既具有氧化铝陶瓷的高硬度,又通过加入Sc2W3O12负热膨胀相,降低整体陶瓷材料的热膨胀系数,提高陶瓷刀具在高速切削工程中的抗热震性,满足镍基合金加工过程中大温度区间的要求。并且复合材料未使用金属粘结剂,即使在极端的热‑力‑化学耦合作用下的高速切削加工中也有着较强的热稳定性,因此对镍基合金材料有着极高的加工匹配性。
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公开(公告)号:CN115566104A
公开(公告)日:2023-01-03
申请号:CN202211324539.3
申请日:2022-10-27
IPC: H01L31/18 , H01L21/02 , H01L21/428 , H01L31/0224 , H01L31/0352 , H01L31/09 , B08B3/02 , B23K26/354
Abstract: 本发明公开了一种单晶β‑Ga2O3MSM型探测器及其制备方法,包括如下步骤:采用激光辅助水射流加工技术在单晶β‑Ga2O3衬底上加工槽体,形成三维形貌;利用HF溶液对加工后的单晶β‑Ga2O3衬底进行湿法刻蚀,去除加工损伤;对处理后的单晶β‑Ga2O3衬底表面进行Au蒸镀,在单晶β‑Ga2O3衬底表面覆盖Au薄膜;对蒸镀后的单晶β‑Ga2O3衬底表面进行研磨,去除未加工表面的Au薄膜,保留槽体内的Au薄膜,即得。
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公开(公告)号:CN115338542A
公开(公告)日:2022-11-15
申请号:CN202210980509.1
申请日:2022-08-16
IPC: B23K26/352 , B23K26/146 , B23K26/0622
Abstract: 本发明属于激光微细加工技术领域,涉及一种具有疏水性功能表面的单晶硅及其制备方法与应用。其制备方法为,在单晶硅表面进行激光辅助水射流加工,使得单晶硅表面形成微米级结构阵列;通过飞秒激光诱导低频周期性表面结构在微米级结构阵列表面形成纳米结构,从而在单晶硅表面形成微纳双尺度的分层结构;将表面具有微纳双尺度的分层结构的单晶硅浸入至疏水性硅烷中进行硅烷化处理,即得;其中,激光辅助水射流加工中,水射流沿扫描速度方向后置于激光。本发明能够在单晶硅表面形成微纳双尺度分层结构的基础上,使单晶硅表面具备疏水性或超疏水性。
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