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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117551424A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202311501800.7
申请日：2023-11-10
Applicant: 燕山大学
Abstract: 本发明公开了一种油基热敏活性研磨液及微波辅助固结磨料研磨方法，油基热敏活性研磨液，包括以下组分：丙二醇的质量百分数为0.5％～5％，三乙醇胺的质量百分数为0.5％～5％，热敏氧化剂的质量百分数为1％～10％，余量为植物油。微波诱导热敏活性研磨液中热分解型引发剂分解产生强化学活性的自由基，快速对机械力作用下的硬脆材料进行化学改性，促进基体表面产生一层相对更软的改性层；微波加热作用下，热敏活性研磨液作为传导介质将热量传递到待加工工件表面，提高工件表层改性层材料的塑性变形能力；金刚石固结磨料磨盘机械去除被微波加热软化的工件表层材料，低硬度的改性层破碎、层状剥落，快速暴露的新生面被进一步改性和去除，获得高的加工效率。
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公开(公告)号：CN116038551A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310037046.X
申请日：2023-01-10
Applicant: 燕山大学
Abstract: 本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液，研磨的步骤为：搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台；启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨；调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光，利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基，引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层，对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液，其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性，减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤，从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。
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公开(公告)号：CN118268871A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202410447047.6
申请日：2024-04-15
Applicant: 燕山大学
IPC: B23P23/00
Abstract: 本发明涉及一种激光‑紫外光‑微波多能场耦合超精密加工系统及方法，包括数控机床，数控机床的动力系统与高速气浮主轴连接，所述高速气浮主轴与回转工作台连接，回转工作台连接有工件装夹件，数控机床的床身上设置有移动机构，移动机构可拆卸地连接有加工单元，所述加工单元有激光加工单元、紫外光加工单元、微波加工单元、车削加工单元和磨削加工单元，可复合成激光‑紫外光‑磨削加工系统及激光‑微波‑车削加工系统，采用本发明的多能场耦合加工系统可同时实现硬脆光电材料和软脆光电材料复杂形面和微结构的经济、高效、近无损伤超精密加工。
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公开(公告)号：CN116038551B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202310037046.X
申请日：2023-01-10
Applicant: 燕山大学
Abstract: 本发明提供一种光化学机械研磨方法及光敏活性研磨液，研磨的步骤为：搭建具备紫外光全波段覆盖而强度能调整且避光的光化学机械研磨平台；启动光化学机械研磨平台对金刚石固结磨料研磨盘进行对磨；调整紫外光LED灯得到合适波长和强度的紫外光，利用紫外光辐照能量诱导光敏研磨液中光引发剂复配物裂解产生苯甲酰和烷基自由基，引发工件表面材料形成硬度低、弹性模量小和断裂韧性高的改性层，对磨改性层得到研磨后的工件。配置光敏活性研磨液，其包括光引发剂复配物、丙二醇、甘油和去离子水。本发明利用光敏研磨液对机械力作用下的工件进行紫外光可控化学改性，减小甚至消除机械应力去除造成的加工损伤，从而实现难加工材料高质量高效率超精密加工。
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公开(公告)号：CN118268871B
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410447047.6
申请日：2024-04-15
Applicant: 燕山大学
IPC: B23P23/00
Abstract: 本发明涉及一种激光‑紫外光‑微波多能场耦合超精密加工系统及方法，包括数控机床，数控机床的动力系统与高速气浮主轴连接，所述高速气浮主轴与回转工作台连接，回转工作台连接有工件装夹件，数控机床的床身上设置有移动机构，移动机构可拆卸地连接有加工单元，所述加工单元有激光加工单元、紫外光加工单元、微波加工单元、车削加工单元和磨削加工单元，可复合成激光‑紫外光‑磨削加工系统及激光‑微波‑车削加工系统，采用本发明的多能场耦合加工系统可同时实现硬脆光电材料和软脆光电材料复杂形面和微结构的经济、高效、近无损伤超精密加工。
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