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公开(公告)号：CN118656445B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202410878905.2
申请日：2024-07-02
Applicant: 清华大学
IPC: G06F16/334 , G06F16/335 , G06F16/35 , G06F18/2431 , G06F18/20 , G06F16/3331
Abstract: 本发明提供一种IP定位地标挖掘系统、方法、电子设备及存储介质，涉及IP定位技术领域，该系统包括：不可控地标挖掘器，用于利用搜索引擎从全网范围内检索第一候选网站集，并采用多分类器投票法从第一候选网站集中筛选出第二候选网站集；每个候选网站集中的候选网站包括疑似不可控地标；可控地标挖掘器，用于利用半监督分类法对公开探针网站集进行分类，并基于分类结果确定候选公开探针网站集；候选公开探针网站集中的候选公开探针网站包括疑似可控地标；地标生成器，用于按照预设检索条件从第二候选网站集和候选公开探针网站集中进行检索，并基于检索结果生成IP定位地标集。本发明可以大幅提高IP定位地标的数量、挖掘效率和功能丰富度。
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公开(公告)号：CN118646789B
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202410880627.4
申请日：2024-07-02
Applicant: 清华大学
IPC: H04L67/52 , H04L61/5007 , G06F16/909 , G06F16/9537 , H04L101/69
Abstract: 本发明提供一种街道级IP定位方法、装置、电子设备及存储介质，涉及IP定位技术领域，该方法包括：基于地理空间图和网络空间图构建全局异构图；地理空间图包括多个地标和地标之间的地理距离，网络空间图包括多个地标和地标之间的网络距离；基于全局异构图构建全局语料库，并基于全局语料库对初始预训练模型进行训练，得到预训练模型；基于预训练模型确定目标IP地址的多个相关地标各自对应的定位表征向量，并基于多个相关地标和多个相关地标各自对应的定位表征向量构建局部图模型；基于局部图模型预测目标IP地址的街道级地理位置。本发明可以提升街道级IP定位的定位覆盖度、定位精确度和定位效率。
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公开(公告)号：CN115437219B
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202210949541.3
申请日：2022-08-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 清华大学
IPC: G03F7/16
Abstract: 一种大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，该设备主要包括烘烤系统、基板上下样系统及控制系统。所述的烘烤系统主要由循环风机、加热元件、高效过滤器、烘烤腔室、腔室密封圈、风向导流片、进风端口、回风端口和循环风道、气体输入端口及排气端口构成，具有百级洁净度、温度控制范围20℃～200℃，腔室温度均匀性优于±3℃，温度精度±0.5℃。所述的基板上下样系统包含转运小车和基板升降装置，所述的转运小车具有小角度调节基板倾斜功能，且紧邻基板靠近进风端一侧设有导流板，既能确保大口径样片安全地上下烘烤腔室工位，又能优化膜层烘烤工艺。本发明设备能够实现双向米量级尺寸、超厚基板的光刻胶膜烘烤工艺，在涂胶后光刻胶膜厚均匀性基础上进一步提升其膜厚均匀性。
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公开(公告)号：CN118878226A
公开(公告)日：2024-11-01
申请号：CN202410779590.6
申请日：2024-06-17
Applicant: 清华大学
IPC: C03C25/52 , C23C28/02 , C23C14/35 , C23C14/18 , C25D3/56 , C25D15/00 , C25D5/10 , C25D5/12 , C25D3/12 , C25D7/06 , C23C14/56 , C25D5/50 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C03C25/1065 , C03C25/12 , C03C25/22 , C03C25/46
Abstract: 本发明公开了一种耐高温光纤的制备方法以及磁控溅射装置。该方法包括：(1)采用磁控溅射对包覆有石英包层的纤芯沉积第一金属，以便在所述石英包层表面形成导电涂层；(2)采用电化学沉积在所述导电涂层表面形成过渡涂层；(3)采用电化学沉积在所述过渡涂层表面形成耐热涂层，以便得到预处理耐高温光纤；(4)将所述预处理耐高温光纤热处理，以便得到耐高温光纤。该方法制备的光纤具有优异的耐高温性能、韧性、传感性能以及较长的使用寿命，且该方法操作简单，生产效率高，易实现，适于工业化生产。
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公开(公告)号：CN118602966A
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202410154635.0
申请日：2024-02-02
Applicant: 清华大学
Abstract: 本申请属于传感器领域，具体涉及集成件及其制备方法、航空航天器结构件。集成件包括：基体；光纤传感器，光纤传感器设置在基体的至少一侧，光纤传感器包括光纤，光纤包括光纤主体、第一镀层和第二镀层，第一镀层包覆光纤主体的表面，第一镀层包括Cr，第二镀层位于第一镀层远离光纤主体的一侧，第二镀层包括Ni。由此，有利于降低光纤与基体在高温情况下发生热失配的概率，有利于提高光纤传感器的使用寿命，提高光纤传感器在高温情况下对基体应变的测量效果。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111681520B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202010529827.7
申请日：2020-06-11
Applicant: 清华大学
IPC: G09B25/00
Abstract: 本发明公开了一种飞机外部火灾的模拟实验装置，包括实验台主体、火源系统和数据测量系统，实验台主体的筒型舱用于模拟实际飞机中部舱段，实验台主体的支撑架上端支撑筒型舱且高度可调；火源系统用于模拟飞机机身外部各区域受到的不同功率的火源；数据测量系统包括温度分布测量系统、热辐射通量测量系统和火羽流及射流测量系统，分别用来测量实验过程中筒型舱外部表面温度分布情况、筒型舱外不同位置的热辐射通量变化情况及筒型舱外部的火焰形态、火羽流及射流特性。本发明可以在实验室中对飞机机身外部不同部位受到不同功率火源的作用时飞机外部表面温度分布及热辐射通量变化规律、火羽流及其射流特性进行全面研究，具有成本低、测量准确等优点。
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公开(公告)号：CN117955754A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202410358309.1
申请日：2024-03-27
Applicant: 清华大学
IPC: H04L9/40 , H04L12/28 , H04L41/0894 , H04L41/08 , G06F16/33
Abstract: 本发明提供一种物联网设备的异常检测方法、装置、设备和存储介质，涉及设备异常检测技术领域，所述方法包括：获取至少两个智能家居平台对应的行为图，所述行为图是基于所述至少两个智能家居平台各自对应的自动化规则构建的，所述自动化规则为事件、命令与所述至少两个智能家居平台对应的物联网设备之间的对应关系；基于所述行为图进行目标异常检测，确定异常检测结果，所述目标异常检测包括目标自动化规则执行的异常检测、跨自动化规则间的交互异常检测和至少两条自动化规则间的干涉异常检测中的至少两种。本发明可实现跨平台的异常检测，且提高异常检测的全面性。
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公开(公告)号：CN117830233A
公开(公告)日：2024-04-05
申请号：CN202311748197.2
申请日：2023-12-19
Applicant: 清华大学
IPC: G06T7/00 , G06T7/66 , G06T7/50 , G06T7/13 , G06V10/762
Abstract: 本公开提供的公头型D‑SUB连接器多针脚误差测量方法，建立用于识别目标公头型D‑SUB连接器形状的D型特征库；对获取的初始点云聚类得到若干不纯净的D‑SUB点云簇；利用图像特征不变性方法依次计算各不纯净的D‑SUB点云簇在二维剪影下的形状特征，与D型特征库对比得到最接近目标的纯净D‑SUB点云簇；对该点云簇中的D型端面和多针脚顶端分别进行平面拟合；对D型端面拟合平面中的各点，提取圆孔边缘点并进行聚类，分割出各针脚对应的圆孔点云，针对各圆孔点云，对其进行3D空间圆拟合，得到圆孔的圆心；对多针脚顶端拟合平面中的各点进行聚类，分割出各圆孔对应的针脚点云；计算圆孔的圆心与对应针脚点云的质心的空间偏移量，即为针脚偏斜误差。本公开具有较高的测量精度和效率。
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公开(公告)号：CN117789288A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311603125.9
申请日：2023-11-28
Applicant: 清华大学
IPC: G06V40/20 , G06V10/764 , G06V10/774
Abstract: 本申请涉及动作捕捉技术领域及计算机人体模型技术领域，特别涉及一种面元模型自动调整方法、装置、电子设备及存储介质，其中，方法包括：获取参考人体在当前时刻的姿态数据；基于姿态数据调整参考人体的面元模型的当前姿态，得到面元模型的目标姿态，并利用惯性动作捕捉系统获取模特人体的姿态表征数据；确定参考人体和模特人体之间的映射关系，并基于映射关系和姿态表征数据调整面元模型的目标姿态，得到随时间变化的动态面元模型。由此，解决了相关技术中姿态人体模型建模需要人工手动调节，自动化程度较低，且基于光学动捕的人体模型自动调整价格较高、操作复杂、适用范围较窄等问题。
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公开(公告)号：CN115437219A
公开(公告)日：2022-12-06
申请号：CN202210949541.3
申请日：2022-08-09
Applicant: 中国科学院上海光学精密机械研究所 , 清华大学
IPC: G03F7/16
Abstract: 一种大口径基板表面光刻胶膜均匀烘烤设备，该设备主要包括烘烤系统、基板上下样系统及控制系统。所述的烘烤系统主要由循环风机、加热元件、高效过滤器、烘烤腔室、腔室密封圈、风向导流片、进风端口、回风端口和循环风道、气体输入端口及排气端口构成，具有百级洁净度、温度控制范围20℃～200℃，腔室温度均匀性优于±3℃，温度精度±0.5℃。所述的基板上下样系统包含转运小车和基板升降装置，所述的转运小车具有小角度调节基板倾斜功能，且紧邻基板靠近进风端一侧设有导流板，既能确保大口径样片安全地上下烘烤腔室工位，又能优化膜层烘烤工艺。本发明设备能够实现双向米量级尺寸、超厚基板的光刻胶膜烘烤工艺，在涂胶后光刻胶膜厚均匀性基础上进一步提升其膜厚均匀性。
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