一种基于可调增益时间放大器的时间-数字转换器

    公开(公告)号:CN113114259A

    公开(公告)日:2021-07-13

    申请号:CN202110504208.7

    申请日:2021-05-10

    Abstract: 本发明公开了一种基于可调增益时间放大器的时间‑数字转换器,属于数模混合集成电路技术领域。包括粗级时间‑数字转换器CTDC、时间放大器TA和细级时间‑数字转换器FTDC;所述粗级时间‑数字转换器CTDC的两个输入端分别外接输入START和STOP信号;所述时间放大器TA包括误差提取电路、数字模块、脉冲提取电路和误差求和电路,所述误差提取电路用于将START信号和STOP信号的相位差提取出来;所述脉冲提取电路用于提取脉冲,所述误差求和电路用于将并行的误差信号合并成串行的。本发明能够并行提取多个误差信息,而不是对于单个误差的放大,线性度高;同时,在提取误差和误差求和时,简化了对误差信号的处理过程,防止在处理过程中引入新的误差,确保了放大时的精确度。

    一种LDMOS器件及其制备方法

    公开(公告)号:CN110120423A

    公开(公告)日:2019-08-13

    申请号:CN201910366995.6

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明提出了一种LDMOS器件,包括半导体衬底、埋层、外延层、源极金属、漏极金属和场氧化层,所述外延层上设置有PN变掺杂降场层、P型半导体体区和N型半导体漏区,所述PN变掺杂降场层的左半部分为P型变掺杂区,右半部分为N型变掺杂区,所述P型变掺杂区中的P型杂质浓度从左到右逐渐减小到0 cm-3,所述N型变掺杂区中的N型杂质浓度从右至左逐渐减小到0 cm-3。通过在外延层内制备PN变掺杂降场层,在漂移区中部产生一个均匀的电场分布,同时消除了主结处的高的电场峰值,优化了漂移区的表面电场分布,从而能够提高器件的反向击穿电压;此外,PN变掺杂降场层能够提高常规器件的漂移区浓度,有效的提高了器件的电流能力并降低器件的导通电阻。

    一种具有三维横向变掺杂的半导体器件耐压层

    公开(公告)号:CN108054194A

    公开(公告)日:2018-05-18

    申请号:CN201711234307.8

    申请日:2017-11-30

    Abstract: 本发明公开了一种具有三维横向变掺杂的半导体器件耐压层,该耐压层在半导体器件的半导体衬底或埋氧层的上表面外延形成,及所述耐压层具有三维横向变掺杂并且在以P+或N+为中心的曲率结构中掺杂浓度为非线性分布。所述耐压层采用叉指状版图或跑道形版图或圆形版图;所述耐压层采用硅或碳化硅、砷化镓、磷化铟、锗硅材料制作;本发明的耐压层能够按照标准的CMOS工艺制备,因此该工艺是一个与标准CMOS工艺完全兼容的工艺方案,工艺制备简单,成本低廉,可以有效抑制版图所带来的三维曲率效应,从而大大增强实际器件的耐压能力。

    一种衬底电压调控GaN HEMT功率器件
    77.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119835964A

    公开(公告)日:2025-04-15

    申请号:CN202411983946.4

    申请日:2024-12-31

    Abstract: 本发明属于功率半导体技术领域,公开了一种衬底电压调控GaN HEMT功率器件,包括沿器件垂直方向自下而上依次层叠设置的P衬底、GaN缓冲层、GaN沟道层、AlGaN势垒层、钝化层和浮空场板结构;沿器件横向方向,在AlGaN势垒层表面依次为相互不接触的源电极、栅极结构和漏电极;所述浮空场板结构包括若干个互不接触的浮空场板,所述P衬底与浮空场板结构中任意一个场板通过金属相连接,使其电位相同,浮空场板电压可调控衬底电压,实现高耐压和抑制动态电阻退化。本发明的有益效果为,在不增加导通电阻的情况下,具有高的耐压且抑制动态电阻崩塌,不增加额外工艺步骤,且不会额外增加芯片面积,节约了成本。

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